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公开(公告)号：CN111346861B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN201910706425.7
申请日：2019-08-01
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明提供一种掩膜部件的清洗装置以及掩膜部件的清洗系统，其中，所述掩膜部件的清洗装置包括：腔室，在内部储存有清洗液；循环部，具有使从所述腔室流入的所述清洗液的一部分通过的过滤器；喷嘴部，配备有布置在所述腔室的内壁并向所述掩膜部件喷射从所述循环部流入的所述清洗液的所述一部分的多个喷嘴；以及移送部，使掩膜部件在所述腔室内进行升降运动，所述掩膜部件的上表面被支撑为与所述腔室的内壁对向。
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公开(公告)号：CN114763599A
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202111665950.2
申请日：2021-12-31
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 公开一种蒸镀掩模清洗装置以及蒸镀掩模清洗方法。蒸镀掩模清洗装置包括：处理水缸，盛装浸泡蒸镀掩模的处理水；处理水产生部，将处理水供应于所述处理水缸；处理水供应配管，连接所述处理水缸和所述处理水产生部；以及泡沫产生部，配置于所述处理水供应配管，并使得所述处理水中产生泡沫，所述处理水包括臭氧水、氢水、氨氢水以及碳酸水中的至少一种，所述泡沫包括气泡直径为50μm以下的微泡沫以及气泡直径为1μm以下的纳米泡沫中的至少一种。
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公开(公告)号：CN111346861A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201910706425.7
申请日：2019-08-01
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明提供一种掩膜部件的清洗装置以及掩膜部件的清洗系统，其中，所述掩膜部件的清洗装置包括：腔室，在内部储存有清洗液；循环部，具有使从所述腔室流入的所述清洗液的一部分通过的过滤器；喷嘴部，配备有布置在所述腔室的内壁并向所述掩膜部件喷射从所述循环部流入的所述清洗液的所述一部分的多个喷嘴；以及移送部，使掩膜部件在所述腔室内进行升降运动，所述掩膜部件的上表面被支撑为与所述腔室的内壁对向。
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公开(公告)号：CN112974385A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011145129.3
申请日：2020-10-23
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明公开了掩模组件的清洁装置。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。
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公开(公告)号：CN118558660A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410620399.7
申请日：2020-10-23
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明公开了掩模组件的清洁装置和掩模组件的清洁方法。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。
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公开(公告)号：CN112974385B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202011145129.3
申请日：2020-10-23
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 本发明公开了掩模组件的清洁装置。掩模组件的清洁装置包括有机溶剂清洁部、第一超纯水清洁部、电解质清洁部、第二超纯水清洁部和等离子体供给部，其中，所述有机溶剂清洁部用有机溶剂对掩模组件的异物进行清洁，所述第一超纯水清洁部用超纯水对在所述有机溶剂清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述电解质清洁部用电解质对在所述第一超纯水清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，所述第二超纯水清洁部用超纯水对在所述电解质清洁部中清洁的所述掩模组件进行清洁，并且所述等离子体供给部用等离子气体对用超纯水清洁的所述掩模组件进行干燥并且用等离子气体去除所述掩模组件的异物。
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