制造有机发光显示设备的方法和有机发光显示设备

    公开(公告)号:CN102110788B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201010574350.0

    申请日:2010-11-29

    发明人: 金元容

    IPC分类号: H01L51/56 H01L27/32

    摘要: 一种制造有机发光显示设备的方法,该方法包括如下步骤:在基板形成第一电极;在基板和第一电极上形成像素限定层(PDL),所述PDL包括暴露第一电极的预定的区域的开口;在PDL上和PDL的开口的内部形成电荷传输层;在电荷传输层上执行疏水加工;在电荷传输层上执行亲水加工,使得电荷传输层的与开口对应的部分制成亲水的;在电荷传输层上形成有机发光层;形成电连接到有机发光层的第二电极。

    激光加工装置
    2.
    发明公开
    激光加工装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113894410A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202110136081.8

    申请日:2021-02-01

    摘要: 提供一种在显示面板形成贯通孔时即使利用倾斜的激光束对显示面板进行加工也可以实现均匀的激光束聚焦(focus)于显示面板的斑点的大小的激光加工装置。一实施例中,激光加工装置包括:激光束产生部,生成并输出激光束;光束扫描器,调整所述激光束的输出方向;扫描透镜部,将从所述光束扫描器输出的激光束聚焦至预定位置;以及倾斜提供部,配置在所述光束扫描器与所述扫描透镜部之间,使得所述扫描透镜部的垂直光轴相对于所述光束扫描器的垂直光轴倾斜第一角度。

    用于制造掩模的设备和用于制造掩模的方法

    公开(公告)号:CN109794684A

    公开(公告)日:2019-05-24

    申请号:CN201811346400.2

    申请日:2018-11-13

    IPC分类号: B23K26/36 H01L51/56 C23C14/04

    摘要: 提供了一种用于制造掩模的设备和一种用于制造掩模的方法。所述设备包括:平台,其上设置有预掩模;以及激光照射装置,包括激光产生构件、用于控制激光束的形状的光学系统和用于调节具有被所述光学系统控制的所述形状的激光束的路径的扫描器。所述预掩模包括限定在前表面上的第一图案凹槽和限定在与前表面对应的后表面上的第二图案凹槽。在作为预掩模的厚度方向的第一方向上限定第一部分和第二部分。具有被控制的形状的激光束,在与所述第一方向交叉的第二方向上照射到预掩模的第二部分上,提供去除了所述第二部分的具有开口的掩模。

    显示设备和制造该显示设备的方法

    公开(公告)号:CN114725306A

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202210004017.9

    申请日:2022-01-05

    IPC分类号: H01L51/56 H01L27/32

    摘要: 提供了一种显示设备和制造该显示设备的方法,所述方法包括:准备基底,在基底中限定了开口区域和环绕开口区域的至少一部分的非显示区域;在基底上形成绝缘层,绝缘层具有与开口区域对应的开口并且在非显示区域中限定包括第一区域和第二区域的照射区域;在照射区域中形成导电图案,导电图案覆盖第一区域并且暴露第二区域;在绝缘层和导电图案上形成有机材料层;在有机材料层上形成电极层,并且通过将激光束照射到照射区域来去除导电图案、照射区域中的有机材料层和照射区域中的电极层。

    有机发光显示装置、其制造方法及表面处理设备

    公开(公告)号:CN102157707B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201010570572.5

    申请日:2010-11-26

    IPC分类号: H01L51/56 H01L27/32

    摘要: 提供了一种制造有机发光显示装置的方法、用于有机发光显示装置的表面处理装置以及有机发光显示装置。为了容易地形成有机发射层,该方法包括:在基板上形成第一电极;在所述第一电极上形成具有开口的像素限定层,所述开口露出所述第一电极的预定部分;在所述像素限定层和通过所述开口露出的所述第一电极上形成电荷承载层;用激光有选择性地对所述电荷承载层的表面的部分进行疏水处理,其中这些部分不对应于所述开口;在所述电荷承载层上形成有机发射层;并且在所述有机发射层上形成第二电极以便与所述有机发射层电连接。