公开(公告)号：CN110872327A

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201910826608.2

申请日：2019-08-30

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 崔玹豪 ,  黄圭荣 ,  郭丞燕 ,  南煐敏 ,  李锦喜 ,  A.田 ,  崔华逸 ,  金勍德 ,  庾志镐 ,  崔伦硕

IPC分类号： C07F15/00 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H01L51/54

摘要： 本发明涉及有机金属化合物、包括其的有机发光器件和诊断组合物。由式1表示的有机金属化合物，其中，在式1中，M、L1、L2、n1和n2各自与说明书的详细描述中定义的相同。式1 M(L1)n1(L2)n2

公开(公告)号：CN117624002A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202310295692.6

申请日：2023-03-24

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 蔡贞厦 ,  高行德 ,  郭允铉 ,  金旻相 ,  H·金 ,  金惠兰 ,  南煐敏 ,  李昶宪 ,  林圭铉

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  C07D333/76 ,  C07C65/01 ,  G03F7/004

摘要： 提供由式1表示的羧酸盐、包括其的光致抗蚀剂组合物、和通过使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法。其中，在b15式、n111中、，n12A11和、RM1+1如说明‑R15、书中所描述的。式1

公开(公告)号：CN111606840A

公开(公告)日：2020-09-01

申请号：CN202010130909.4

申请日：2020-02-26

申请人： 三星电子株式会社 ,  三星SDI株式会社

发明人： 权殷淑 ,  南煐敏 ,  朴商浩 ,  裵惠珍 ,  孙准模 ,  吴原硕 ,  郑庸植 ,  D.克拉夫丘克

IPC分类号： C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C07D401/14 ,  C07D471/04 ,  H01L51/54

摘要： 提供杂环化合物和包括其的有机发光器件，所述杂环化合物由式1表示。在式1中，各基团的定义与在说明书中描述的相同。式1

公开(公告)号：CN113035286A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN202010959240.X

申请日：2020-09-14

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 权宁千 ,  庾志镐 ,  崔伦硕 ,  南煐敏 ,  朴珉植 ,  朴珍雨 ,  李东宣

IPC分类号： G16C20/10 ,  G16C20/70 ,  G06N3/04 ,  G06N3/08

摘要： 本发明涉及产生新的化学结构的方法、神经网络设备和非瞬时计算机可读的介质。用于产生新的化学结构的神经网络设备可：接收化学结构的结构输入；基于所述结构输入产生负注意向量，其指示所述结构输入中的多个黑名单各自的存在的相应概率；通过将所述结构输入编码而产生结构表达；基于所述负注意向量和所述结构表达产生最终反向黑名单向量，其不包括所述多个黑名单；和通过将所述最终反向黑名单向量解码而产生所述新的化学结构。

公开(公告)号：CN118684603A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410343961.6

申请日：2024-03-25

申请人： 三星电子株式会社

发明人： H·金 ,  高行德 ,  金惠兰 ,  南煐敏 ,  宋智永 ,  李昶宪 ,  A·田 ,  蔡贞厦 ,  李松世 ,  洪锡九

IPC分类号： C07C311/20 ,  C07C311/07 ,  C07C311/29 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

摘要： 提供有机盐、包括其的光致抗蚀剂组合物和通过使用该光致抗蚀剂组合物形成图案的方法，所述有机盐由下面的式1表示。式1的描述提供在本文中。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN111606840B

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202010130909.4

申请日：2020-02-26

申请人： 三星电子株式会社 ,  三星SDI株式会社

发明人： 权殷淑 ,  南煐敏 ,  朴商浩 ,  裵惠珍 ,  孙准模 ,  吴原硕 ,  郑庸植 ,  D.克拉夫丘克

IPC分类号： C07D209/86 ,  C07D209/88 ,  C07D401/14 ,  C07D471/04 ,  H10K85/60 ,  H10K50/11

摘要： 提供杂环化合物和包括其的有机发光器件，所述杂环化合物由式1表示。在式1中，各基团的定义与在说明书中描述的相同。式1#imgabs0#

公开(公告)号：CN118259545A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311456231.9

申请日：2023-11-03

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 高行德 ,  郭允铉 ,  金美静 ,  南煐敏 ,  安赞在 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  崔诚原 ,  韩盛现

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/027

摘要： 提供抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法。所述抗蚀剂组合物可包括由下式1表示的有机金属化合物和由下式2表示的重复单元的聚合物。在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L24、a21‑a24、R21、R22、b22、p、和X21的描述参考说明书。 M11(R11)n(OR12)(4‑n) #imgabs0#。