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公开(公告)号：CN116891747A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310350701.7
申请日：2023-04-04
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09K13/00 , C23F1/20 , C23F1/26 , C23F1/30 , C23F1/36 , C23F1/38 , C23F1/40 , C23F1/02 , H01L21/3213 , C09K13/06
Abstract: 提供蚀刻组合物、通过使用其蚀刻含有金属的膜的方法、和通过使用其制造半导体器件的方法，所述蚀刻组合物包括氧化剂、铵盐、含水溶剂、和加速剂。所述铵盐包括铵阳离子和有机阴离子，和所述加速剂包括由式1‑1表示的化合物、由式1‑2表示的化合物、由式1‑3表示的化合物、由式1‑4表示的化合物、由式1‑5表示的化合物、由式1‑6表示的化合物、或其任意组合，其中，在式1‑1至1‑6中，Ar1、X1至X3、Y1、T1、T1a、R2、Z1、a1和A1各自如说明书中所定义的。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119177446A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202410805223.9
申请日：2024-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供蚀刻组合物、使用其蚀刻含金属的膜的方法和使用其制造半导体器件的方法。所述蚀刻组合物包括氧化剂、酸和选择性蚀刻抑制剂，其中所述氧化剂为不含金属的，所述选择性蚀刻抑制剂包括包含第一重复单元和第二重复单元的共聚物，所述第一重复单元不同于所述第二重复单元，并且所述第一重复单元为含氮的重复单元。
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公开(公告)号：CN118547287A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410201168.2
申请日：2024-02-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23F1/26 , H01L21/3213 , C23F1/44 , C09K13/06 , C09K13/08
Abstract: 提供用于含钛层的蚀刻组合物、通过使用所述蚀刻组合物蚀刻含钛层的方法和通过使用所述蚀刻组合物制造半导体器件的方法，所述蚀刻组合物包括氧化剂、无机酸、和选择性蚀刻抑制剂，其中所述无机酸包括基于磷的无机酸、基于氯的无机酸、基于氟的无机酸、或其任意组合，并且所述选择性蚀刻抑制剂包括具有含氮重复单元的聚合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107867030A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201710849968.5
申请日：2017-09-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/133308 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/281 , B32B27/308 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B27/40 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2255/26 , B32B2264/102 , B32B2270/00 , B32B2274/00 , B32B2307/412 , B32B2307/51 , B32B2307/536 , B32B2307/546 , B32B2307/558 , B32B2307/732 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , B32B2457/206 , B32B2457/208 , G02F1/133305 , G02F1/13338 , G02F2001/133331 , G02F2201/503 , H01L27/323 , H01L51/0097 , H01L51/5253 , Y10T428/10 , Y10T428/1036 , B32B7/10 , B32B33/00 , B32B2307/50 , G09F9/301
Abstract: 公开了用于显示装置的窗和显示装置。所述用于显示装置的窗包括：聚合物基底、在所述聚合物基底下面并且具有约7兆帕斯卡-约30兆帕斯卡的弹性模量的第一缓冲层、在所述聚合物基底与所述第一缓冲层之间的第一透明粘附层、和在所述聚合物基底上的保护层，且所述显示装置包括所述用于显示装置的窗。
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公开(公告)号：CN108369466A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680071629.2
申请日：2016-07-05
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了用于保护显示面板的覆盖窗。本覆盖窗包括：所述显示面板的光通过其的透明片材，所述透明片材包括纳米无机颗粒；和设置在所述透明片材上的涂布层。
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公开(公告)号：CN102898943B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201210265400.6
申请日：2012-07-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09D183/06 , C09D183/12 , C09D5/00
CPC classification number: C09D183/04 , C09D5/1675 , G06F3/03547 , G06F3/0412 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明公开了一种涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品。涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。
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公开(公告)号：CN102898943A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210265400.6
申请日：2012-07-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C09D183/06 , C09D183/12 , C09D5/00
CPC classification number: C09D183/04 , C09D5/1675 , G06F3/03547 , G06F3/0412 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明公开了一种涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品。涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。
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公开(公告)号：CN101280136A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200710089852.2
申请日：2007-04-05
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: C09D11/38 , C09D11/322
Abstract: 提供一种包含着色剂、溶剂、表面活性剂和消泡剂的墨水组合物以及包含该墨水组合物的墨盒。该消泡剂具有式R1－X－(CH2CH2O)m－(CHCH3CH2O)n－R2(I)的结构，其中X选自COO、O、S、R3－N和R4(R5)－C；R1、R2、R3、R4和R5各自独立地选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基和取代或未取代的芳烷基；m为0－100的整数；和n为1－100的自然数。根据示例性实施方案的墨水组合物展现出低的发泡性能以平稳流动，并且具有优良的初始排放量和较少的墨水渗色，使得可以在打印期间获得高的打印质量。
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