公开(公告)号：CN110344026A

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201910071759.1

申请日：2019-01-25

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 姜信在 ,  韩东勋 ,  金度亨 ,  朴景旭 ,  裴钟容 ,  李先秀 ,  李寅载 ,  李全一 ,  林彩默

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 提供了一种层沉积方法和层沉积设备。在层沉积方法中，将基底装载到工艺腔室中。将气体充入气体填充罐至预定充入压强。升高气体的压强至大于预定充入压强的压强。将气体导入工艺腔室中。

公开(公告)号：CN110344026B

公开(公告)日：2023-01-24

申请号：CN201910071759.1

申请日：2019-01-25

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 姜信在 ,  韩东勋 ,  金度亨 ,  朴景旭 ,  裴钟容 ,  李先秀 ,  李寅载 ,  李全一 ,  林彩默

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 提供了一种层沉积方法和层沉积设备。在层沉积方法中，将基底装载到工艺腔室中。将气体充入气体填充罐至预定充入压强。升高气体的压强至大于预定充入压强的压强。将气体导入工艺腔室中。