公开(公告)号：CN106067430A

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：CN201610214879.9

申请日：2016-04-08

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金一焕 ,  裵相泫 ,  李赫宰 ,  赵泰济 ,  崔光喆

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B24B7/228 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67023

Abstract: 发明构思涉及一种基板处理设备、一种用于处理基板的方法和一种基板处理系统。所述设备包括：旋转卡盘，被构造成支撑基板；研磨头，设置在旋转卡盘上方并被构造成研磨由旋转卡盘支撑的基板；以及喷嘴构件，包括喷射喷嘴，所述喷射喷嘴被构造成将高压水喷射到由旋转卡盘支撑的基板。喷射喷嘴与基板叠置以将高压水喷射到基板的边缘。