改进模拟器参数的设备和方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116205126A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211511038.6

    申请日:2022-11-29

    Abstract: 提供了一种用于优化和/或改进半导体器件的模拟器参数的设备。该设备包括:存储器,被配置为存储进化池和输入张量‑分数对;以及处理器,被配置为对进化池中的生成器网络进行采样,初始化评价网络以训练被采样的生成器网络,从训练后的生成器网络生成输入张量,初始化模拟器以对输入张量执行黑盒操作以及输出分数作为操作的结果,以及将输入张量和分数作为输入张量‑分数对存储在存储器中,当输出分数大于最小分数时,将在黑盒操作中使用的信息存储在进化池中,对存储的信息进行排序,以及更新进化池,使得只有预设数量的信息留在进化池中。

    用于对半导体制造工艺进行建模的系统和方法

    公开(公告)号:CN114254579A

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN202110702101.3

    申请日:2021-06-24

    Abstract: 提供了用于对半导体制造工艺进行建模的系统和方法。用于对半导体制造工艺进行建模的系统包括至少一个第一处理器以及至少一个第二处理器。所述至少一个第一处理器被配置为提供通过使用设计图案样本和物理图案样本的多个图像对而训练的至少一个机器学习(ML)模型。物理图案样本是通过使用半导体制造工艺根据设计图案样本而形成的。所述至少一个第二处理器被配置为:将表示设计图案的形状和/或物理图案的形状的输入图像提供给所述至少一个第一处理器,并且基于从所述至少一个第一处理器接收的输出图像来生成定义物理图案和/或设计图案的输出数据。

    超分辨率SEM图像实现装置及其方法

    公开(公告)号:CN115936981A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202210921491.8

    申请日:2022-08-02

    Abstract: 一些示例实施例涉及一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置和/或其方法。提供了一种超分辨率扫描电子显微镜(SEM)图像实现装置,其包括处理器,处理器被配置为裁剪低分辨率SEM图像以生成第一裁剪图像和第二裁剪图像,放大第一裁剪图像和第二裁剪图像以生成第一放大图像和第二放大图像,并且从第一放大图像和第二放大图像中消除噪声以生成第一噪声消除图像和第二噪声消除图像。

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