用于激光约束核聚变常温实验的双楔形对撞靶及制备方法

    公开(公告)号:CN116913559A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202310989060.X

    申请日:2023-08-08

    IPC分类号: G21B1/19

    摘要: 本发明提供一种用于激光约束核聚变常温实验的双楔形对撞靶及制备方法,对撞靶包括:连接支撑架,为对撞靶提供支撑作用;一对上下呈面对称的楔形约束结构,设于连接支撑架上,一对楔形约束结构形成对撞结构;每个楔形约束结构包括:两个呈预设夹角的约束面,两个约束面之间留有空隙,约束面上设有高Z材料层;聚合物柱状壳,其两端分别与两个约束面连接,聚合物柱状壳提供激光打靶实验材料,聚合物柱状壳具有预设的弯曲弧度,聚合物柱状壳的弯曲方向朝向约束面。本发明的双锥形对撞靶可用于双锥对撞激光约束核聚变常温实验中,满足对聚合物柱状壳的柱面状原材料进行烧蚀、压缩后,进一步进行对撞的需求。

    一种三锥结构激光聚变点火靶、装配装置和装配方法

    公开(公告)号:CN114141392A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202111438179.5

    申请日:2021-11-30

    IPC分类号: G21B1/19 B05C5/02 F16B11/00

    摘要: 本发明提供一种三锥结构激光聚变点火靶、装配装置和装配方法,该点火靶包括侧面的点火锥体安装孔和上下设置的两个压缩锥体安装孔,形成三锥结构;该装置包括工作台和设于工作台上的置物底座、真空吸附装置、点胶装置、对准装置、三轴位移台、显示机构和三个图像获取机构;该方法包括:通过点胶装置分别向点火靶的压缩锥体安装孔和点火锥体安装孔中点胶;分别将压缩锥体装配于压缩锥体安装孔,将点火锥体装配于点火锥体安装孔;利用对准装置对点火锥体的位置和两个压缩锥体的同轴度进行调整对准;将聚合物球冠分别装配于校准后的两个压缩锥体内。本发明将自动化装配和手工装配方式相结合,能够提高激光聚变点火靶的装配精度和效率。

    双锥对撞点火方案中调制球壳靶及其制备方法

    公开(公告)号:CN117542547A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202311560316.1

    申请日:2023-11-22

    IPC分类号: G21B1/19

    摘要: 本发明提供一种双锥对撞点火方案中调制球壳靶及其制备方法,所述方法包括:提供网孔板,网孔板具有多个微孔;在微孔中放置具有预设三维形状的微模具,并将微模具固定于网孔板上;在网孔板放置微模具的表面制作牺牲层;在牺牲层的表面制作聚合物薄膜;采用激光切割的方法对聚合物薄膜进行环形切割;去除牺牲层,得到具备预设三维形状的调制球壳靶。本发明调制球壳靶的表面结构可根据物理实验的需求而灵活多样,并且采用牺牲层的思想简化了球壳剥离过程;本发明对于双锥对撞点火方案中靶的制作提供了可靠的技术线路,满足了点火实验对各个结构参数靶的灵活需求和批量化生产要求,还可以提高调制球壳靶的制作成功率和制作速度。

    双锥对撞点火中CD-CH复合聚合物球冠及其制备方法

    公开(公告)号:CN115971676A

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202211652770.5

    申请日:2022-12-16

    摘要: 本发明提供一种双锥对撞点火中CD‑CH复合聚合物球冠及其制备方法,制备方法包括:采用微流控方法制备CD聚合物空心球;于所述CD聚合物空心球上沉积一层CH薄膜,形成CD‑CH复合聚合物空心球;采用激光留尾切割的方法对所述CD‑CH复合聚合物空心球进行切割;用端部尖锐的工具沿切割轮廓拨开,将切割后的CD‑CH复合聚合物球冠从所述CD‑CH复合聚合物空心球上剥离,得到双锥对撞点火中CD‑CH复合聚合物球冠。本发明解决了CD‑CH复合聚合物球冠制备中CH层厚度难以精确控制、切割球冠和取样难度大的问题,实现了高精度及可批量制备CD‑CH复合聚合物球冠。

    一种激光聚变点火靶双锥装配观测及调整系统

    公开(公告)号:CN115798741A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211624288.0

    申请日:2022-12-16

    IPC分类号: G21B1/23 G21B1/25

    摘要: 本发明提供一种激光聚变点火靶双锥装配观测及调整系统,包括:观测模块,所述观测模块用于观测激光聚变点火靶双锥;视觉处理模块,所述数据处理模块接收并处理所述观测系统的观测到的激光聚变点火靶双锥的图像;调整块,所述调整块根据所述视觉处理系统的处理结果,初步调整激光聚变点火靶双锥的平行;调整棒阵列,所述调整棒阵列根据所述视觉处理系统的处理结果,精细调整激光聚变点火靶双锥的装配位置。本发明将计算机视觉自动化与手工装配相结合,提高了激光聚变点火靶双锥装配过程中的精密程度,为激光聚变点火靶装配提供了一种新型、高效的解决方案。

    一种基于掺杂过渡金属氮化物温度传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112941488B

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202110104485.9

    申请日:2021-01-26

    摘要: 本发明提供一种基于掺杂过渡金属氮化物温度传感器及其制备方法,包括在制备过渡金属氮化物薄膜的过程中或过渡金属氮化物薄膜制备完成后,向过渡金属氮化物薄膜引入阳离子空位形成掺杂过渡金属氮化物薄膜;并通过调控阳离子空位浓度使掺杂过渡金属氮化物薄膜晶体结构发生相变,得到理想的掺杂过渡金属氮化物薄膜;采用掺杂过渡金属氮化物薄膜通过MEMS加工工艺制备目标温度传感器。本发明提出一种基于掺杂过渡金属氮化物温度传感器的制备方法,提出通过调控空位浓度从而调控温度敏感膜结构、电阻,最终使得温度传感器温区及灵敏度可调,这对开发适用于不同目标温区的电阻式掺杂过渡金属氮化物薄膜温度传感器具有指导意义。

    一种用于低温冷冻靶的浸润球壳及其制备方法

    公开(公告)号:CN114155980A

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN202111476594.X

    申请日:2021-12-06

    摘要: 本发明提供了一种用于低温冷冻靶的浸润球壳及其制备方法,包括:基本单元为正四面体结构,所述正四面体结构由实心棱柱构成,内部为空心结构,利用该空心结构作为液体流动、填充空间;所述正四面体结构中设置有微柱或亲水结构。多个基本单元通过密堆积排列形成整体球壳结构。本发明上述球壳基于3D打印制备,利用微结构间的毛细力作用实现液体在结构表面的输运及浸润,同时可以进一步对结构表面进行改性处理,从而有效提高液体浸润效果。该种方法无需采用过程复杂的制备步骤,过程简单便捷,成本较低。

    聚合物空心微球及其制备方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117920082A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410142441.9

    申请日:2024-02-01

    IPC分类号: B01J13/06 B01L3/00

    摘要: 本发明提供一种聚合物空心微球及其制备方法,制备方法包括:搭建控温微流控平台,控温微流控平台包括温度控制机构和微流控芯片,微流控芯片包括由内至外同轴嵌套的第一管道、第二管道和第三管道,温度控制机构对流经微流控芯片的溶液进行温度控制;提供中间油相溶液、内水相溶液和外水相溶液,内水相溶液流入第一管道,中间油相溶液流入第二管道,外水相溶液流入第三管道,采用控温微流控平台制备水包油包水多重乳液;水包油包水多重乳液依次经旋转固化、清洗、老化、酒精置换和干燥处理,得到聚合物空心微球。本发明可以实现大直径、厚球壁空心微球的批量化制备,所制备的聚合物空心微球适用于惯性约束聚变实验。

    一种多层调制结构聚变调制靶的制备方法

    公开(公告)号:CN115810432A

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202211663038.8

    申请日:2022-12-23

    IPC分类号: G21B1/19 G21B1/03

    摘要: 本发明提供一种多层调制结构聚变调制靶的制备方法,包括:建立调制靶三维模型,所述调制靶三维模型包括基底层模型和设于所述基底层模型上的多块调制结构层模型,多块调制结构层模型依次排布且存在高度差;根据所述调制靶三维模型,打印所述基底层;根据所述调制靶三维模型,于所述基底层上按序依次打印多块调制结构层;经紫外固化和等离子体表面处理后,得到多层调制结构聚变调制靶。本发明基于3D打印制备分区、分层、多样化的调制结构,并进行等离子体粗糙化处理,具有调制图形精确可控、结构复杂可变、尺寸分辨率高、工艺简单高效和成本低等优点,有助于模拟靶丸表面的多种不均匀因素对聚变点火过程的影响。

    一种化学气相沉积装置以及高厚度Parylene-N膜的制备方法

    公开(公告)号:CN115463803A

    公开(公告)日:2022-12-13

    申请号:CN202111532888.X

    申请日:2021-12-15

    IPC分类号: B05D1/00 B05C11/10 B05C9/02

    摘要: 本发明提供一种化学气相沉积装置以及高厚度Parylene‑N膜的制备方法,该装置包括通过管道依次相连的蒸发室、裂解炉、沉积室和冷阱;所述冷阱通过真空泵与所述沉积室连通;所述沉积室的底部设有用于与所述冷阱连通的连通口,所述连通口处设有节流片,所述节流片用于调节所述连通口的大小;所述沉积室内还设有降温平台,所述降温平台位于所述沉积室的腔室底部,所述降温平台用于降低衬底的温度。本发明的高厚度Parylene‑N膜的制备方法,使用该装置,并通过控制裂解温度和沉积压力等参数,可以实现微米级别的Parylene‑N膜的快速沉积,且只需要在常见的Parylene沉积设备上进行改进和调节参数即可实现,有利于减少制造成本。