铸件缺陷修复装置与方法

    公开(公告)号:CN111347155A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN202010338449.4

    申请日:2020-04-26

    IPC分类号: B23K20/12

    摘要: 本发明提供了一种铸件缺陷修复装置与方法,包括轴肩、顶杆以及搅拌针;轴肩的一端能够通过转轴连接外部器械,轴肩的另一端连接搅拌针并能够在外部器械的作用下带动搅拌针转动下压;轴肩的内部沿轴向方向设置有顶杆,沿径向方向设置有顶针,通过松开顶针和推动顶杆,能够将搅拌针推离轴肩;在进行铸件缺陷修复时,搅拌针直接作用于铸件缺陷;本发明利用了轴肩、搅拌针高速旋转时与铸件间的搅拌摩擦产生的热量以及剧烈的塑性变形效果,实现了冶金结合,获得的缺陷修复部位性能优良、质量稳定,不会因为温度过高而降低缺陷修复部位附近材料的机械性能,具有能够即时拆卸、质量稳定、效果明显、效率高且适用于不同大小及形状的铸件缺陷等优点。

    超薄钯/镁基薄膜透射电镜样品及其制备方法

    公开(公告)号:CN116718620A

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202310780012.X

    申请日:2023-06-29

    IPC分类号: G01N23/20008

    摘要: 本发明公开了一种超薄钯/镁基薄膜透射电镜样品及其制备方法,所述方法为先在超薄钯/镁基薄膜表面沉积一个碳氟高分子保护膜层,随后对于复合膜层利用聚焦离子束(FIB)完成透射电镜试样的加工过程。本方法利用氟碳高分子保护膜层对于金属膜层之间扩散的抑制作用,可减小聚焦离子束加工过程所需的Pt膜向待加工钯/镁基薄膜试样中的扩散,避免试样结构遭到破坏。该方法操作简便,且能显著消除Pt层对于待加工样品结构分析的干扰,在薄膜的透射显微分析领域具有重要的应用前景。

    一种提升氢致变色薄膜氢响应性能的制备方法

    公开(公告)号:CN116926488A

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202310913322.4

    申请日:2023-07-25

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/14 C23C14/08

    摘要: 本发明公开了一种提升氢致变色镁基薄膜氢响应性能的制备方法,包括在采用磁控溅射制备镁基氢敏反应层过程中,调整磁控溅射工艺中的氩气流量为20sccm~100sccm的步骤。本发明利用磁控溅射过程中氩气流量的调控,可以影响溅射原子碰撞频率和平均自由程,从而改变薄膜生长条件,改变薄膜的显微结构,方便快捷地提高了氢致变色薄膜的吸脱氢速率。本方法工艺简单,可重复性强,性能提升显著,在氢气传感领域具有重要应用前景。