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公开(公告)号：CN105277131A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201410225654.4
申请日：2014-05-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出了一种三维孔结构的测量装置与测量方法，是基于角谱测量技术对高深宽比三维孔结构的形貌参量测量的装置与方法，能够探测待测的三维孔结构的衍射光，即实现全角谱的测量，获取的孔底面衍射光信号有利于对三维孔结构形貌的求解，测得的角谱有利于判断三维孔结构形貌的非对称性，以提高孔测量技术对孔工艺状况的测量能力，提高测量精度。
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公开(公告)号：CN106933055A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511031863.6
申请日：2015-12-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F9/7076
Abstract: 本发明使用包括两组周期有细微差异且并排放置的光栅作为对准标记，在对准标记上设置光学放大倍率为-1倍的投影系统，当照明光经过照射至一组光栅上并以θ1的出射角衍射，衍射光通过投影系统后以180°的角度翻转又反射回另一组光栅上，由于两组光栅的周期相似，因此从另一组光栅上以很小的出射角θ2(sinθ2＝sinθ1-sinθ3，θ3为正入射至另一组光栅后衍射出的光线的出射角，且θ1与θ3之差很小)衍射出的光线依会在面阵探测器上形成莫尔条纹，并传输至处理单元，计算出对准标记的偏移距离，移动工件台上的硅片从而移动对准标记，直至对准标记的偏移距离为0，则对准完成。这种方法可自参考形成莫尔条纹，无需使用参考光栅，避免了参考光栅带来的漂移误差，提高了对准精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104898376A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201410073758.8
申请日：2014-03-03
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明属于加工半导体设备领域，具体涉及一种通过莫尔条纹来进行离轴对准装置和对准调节方法，将其用于投影光刻机中硅片的精确定位。所述装置，包括照明装置、设置在待对准部件上的对准标记、第一投影系统、设置在参考标记板上的参考标记、第二投影系统、面阵探测器和图像处理系统。所述方法包括粗对准和精对准。本发明提供的技术方案通过引入投影系统，使得先进的莫尔条纹对准技术得以在投影式光刻机中应用；兼容了多波长和宽波段光源，提高了工艺适应性；通过透镜系统仅采集+1、-1级衍射光，增强测量的信噪比提高了探测灵敏度；引入标记旋转校正和倍率误差调整，大大降低了因标记旋转和倍率漂移造成的对准误差。
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公开(公告)号：CN104677299A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201310618148.7
申请日：2013-11-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种薄膜检测装置，其特征在于，包括：光源，用于提供包含不同波段的照明光束；光学元件单元，包括物镜，该光学元件单元用于将照明光束通过该物镜照射到待测对象上，并收集该待测对象的反射光束；滤波器，用于使不同波段的照明光束或反射光束在空间上进行分离；面阵探测器，位于该物镜瞳面或者物镜瞳面的共轭面以采集反射光束的角谱信息；处理器，用于对该角谱信息进行分析计算。
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公开(公告)号：CN106198568A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510270033.2
申请日：2015-05-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N21/958
CPC classification number: G01N21/211 , G01B11/0625 , G01B11/0675 , G01B2290/70 , G01N21/21 , G01N21/45 , G01N21/8422 , G01N2201/0633 , G01N2201/0642 , G01N2201/068
Abstract: 本发明提供一种具有透明基底的薄膜的测量装置，依次包括：形成光路连接的光源、准直镜头、滤波器、起偏器、分光元件、物镜、具有透明基底的薄膜，所述具有透明基底的薄膜位于承载台上，所述分光元件依次连接有面阵探测器与处理器，根据透明基底厚度、物镜视场大小、照明视场大小并根据相关计算公式计算出相应直径型号的遮挡光阑来遮挡在小角度范围内受到透明基底反射的干扰光，将剩余区域的反射光形成图像发送至数据处理器，计算出薄膜的相关数据。因此这种装置可根据不同的薄膜来设计不同的遮挡光阑，具有操作简单，测量精准的特点。
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公开(公告)号：CN105988309A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201510087569.0
申请日：2015-02-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的对准装置，包括对准光源，用于向对准标记的表面提供照明光束；第一投影系统，所述照明光束投射于所述对准标记后经所述对准标记反射形成衍射光，所述第一投影系统用于会聚所述衍射光；参考光栅，所述衍射光经所述第一投影系统会聚后透过所述参考光栅后形成干涉条纹；第二投影系统，用于将所述干涉条纹投影至一探测器，并阻挡不携带对准标记和参考光栅相对位置信息的衍射光到达所述探测器；信号处理系统，用于根据所述探测器获得的干涉条纹图像进行信号处理以获得一对准位置。
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公开(公告)号：CN105372943A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410429838.2
申请日：2014-08-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的对准装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供一用于对准的照明光束；光学系统，用于使所述照明光束倾斜入射至对准标记；探测器，用于探测所述对准标记产生的衍射光束的干涉信号；处理单元，用于根据所述干涉信号的强度随运动台位置变化的关系计算对准位置。
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