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    曝光系统、曝光装置及曝光方法
    2.
    发明公开
    曝光系统、曝光装置及曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN107092166A

    公开(公告)日：2017-08-25

    申请号：CN201610092322.2

    申请日：2016-02-18

    申请人： 上海微电子装备有限公司

    发明人： 蓝科 ,  戈亚萍 ,  陈勇辉

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70583 ,  G03F7/70716

    摘要： 本发明提供了一种曝光系统、曝光装置及曝光方法，其曝光系统包括：激光单元、光斑切换单元以及透镜单元；所述激光单元发射激光束；所述光斑切换单元，根据需曝光的加工工件材质对应的光斑尺寸，使所述激光束在不同光路之间进行切换，获得对应光斑尺寸的激光束；所述透镜单元改变所述激光束的方向；通过光斑切换单元的设置，使得激光束在不同光路之间进行切换，从而对光斑的尺寸范围进行切换，满足了不同线宽工件对光斑尺寸的不同要求，提高了对不同工件的加工适应性，有效的节约了成本。

    防焊半自动曝光机的双面自动对位方法及设备
    3.
    发明公开
    防焊半自动曝光机的双面自动对位方法及设备 有权

    公开(公告)号：CN106959588A

    公开(公告)日：2017-07-18

    申请号：CN201710223295.2

    申请日：2017-04-07

    申请人： 东莞科视自动化科技有限公司

    发明人： 王华

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F9/7003

    摘要： 本发明公开了一种防焊半自动曝光机的双面自动对位方法及设备，通过抽真空将上菲林吸附在上框的玻璃面上以及下菲林吸附在中框的玻璃面上，放入PCB板在中框上，PCB板由下菲林支撑；将上框与下框相闭合紧压，控制多轴运动机构将每个CCD视觉系统移动到指定位置，通过设置于多轴运动机构A上部的CCD视觉系统，计算出上菲林与PCB板正面的位置偏差，再控制下框底部的自动对位机构B，调节中框上放置的PCB板位置，实现PCB板正面与上菲林自动对位；通过设置于多轴运动机构B上的CCD视觉系统，计算出下菲林与PCB板反面的位置偏差，再调节中框底部安装的自动对位机构A，实现PCB板的反面与下菲林自动对位；本发明实现PCB板正面与上菲林、反面与下菲林自动精密对位、精密曝光。

    图像形成装置以及点图案决定方法
    4.
    发明授权
    图像形成装置以及点图案决定方法 有权

    公开(公告)号：CN104816544B

    公开(公告)日：2016-09-28

    申请号：CN201510051439.1

    申请日：2015-01-30

    申请人： 精工爱普生株式会社

    发明人： 佐藤彰人 ,  须藤直树

    IPC分类号： B41J2/01

    CPC分类号： G03F7/70141 ,  B41J2/2139 ,  B41J2/2146

    摘要： 本发明涉及一种图像形成装置以及点图案决定方法，并提供一种能够更加恰当地对由点的形成不良的不良喷嘴所形成的点进行补充的技术。在构成所形成的图像(330)的多个像素(PX)中包含：由多个喷嘴(64)中所包含的不良喷嘴(LN)所形成的在扫描方向(D2)上连续的点缺失像素(PXL)；以及相对于该点缺失像素(PXL)而在排列方向(D1)上处于预定距离(L1)内的近旁像素(PXR)。图像形成装置(1)至少根据在按照对由不良喷嘴(LN)所形成的点(DT)进行补充之前的记录数据(300)时，应该被形成在包含点缺失像素(PXL)的一部分以及近旁像素(PXR)的一部分的预定范围(A10)内的像素(PX)上的点的数量，来决定形成在预定范围(A10)内的近旁像素(PXR)上的补充后的点(DT)的图案(P1)，并形成补充后的点(DT)的图案(P1)。

    曝光装置及其曝光方法
    6.
    发明授权
    曝光装置及其曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN104035285B

    公开(公告)日：2016-06-29

    申请号：CN201310069610.2

    申请日：2013-03-05

    申请人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

    发明人： 伍强 ,  祖延雷 ,  胡华勇 ,  顾一鸣

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F1/00 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

    摘要： 一种曝光装置及其曝光方法，所述曝光装置，包括：基台；晶圆载物台组，所述晶圆载物台组包括若干晶圆载物台，若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动；对准检测单元，进行晶圆的对准；掩膜板载物台，用于装载圆筒形掩膜板，并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转；光学投影单元，将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区；当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置，然后沿扫描方向的单方向扫描时，圆筒形掩膜板绕中心轴旋转，透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上的晶圆上，对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时，晶圆载物台不需要改变扫描方向，从而节省了曝光时间，提高了曝光效率。

    照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法
    7.
    发明公开
    照明光学系统、照明方法、曝光装置以及曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN105606344A

    公开(公告)日：2016-05-25

    申请号：CN201610084052.0

    申请日：2009-05-12

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 谷津修 ,  田中裕久

    IPC分类号： G01M11/02 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G01M11/005 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70591 ,  G01M11/02 ,  G03F7/70141

    摘要： 本发明提供一种检查装置，其能够随时检查例如配置于照明光学系统的光路中的空间光调制器的反射镜部件的反射率。本发明是对具有被二维排列且被独立控制的多个光学部件的空间光调制器进行检查的检查装置(10)，其具备：共轭光学系统(11、12)，其配置于空间光调制器的光学上的下游侧，形成与多个光学部件所被排列的排列面在光学上共轭的共轭面；光检测器(13)，其具有配置于上述共轭面或其附近的检测面；检查部(14)，其基于光检测器的检测结果检查多个光学部件的光学特性。

    曝光装置及其曝光方法
    8.
    发明授权
    曝光装置及其曝光方法 有权

    公开(公告)号：CN104035287B

    公开(公告)日：2016-03-16

    申请号：CN201310069924.2

    申请日：2013-03-05

    申请人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

    发明人： 刘畅 ,  伍强

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/42 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/70141 ,  G01D5/34746 ,  G03F1/42 ,  G03F7/24 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7088 ,  H01L21/681 ,  H01L21/682

    摘要： 一种曝光装置及其曝光方法，其中曝光装置，包括：基台；晶圆载物台组，晶圆载物台组包括若干晶圆载物台，若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动；对准检测单元，进行晶圆的对准；圆筒形掩模板系统，装载圆筒形掩膜板，并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转；光学投影单元，将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区；当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置，然后沿扫描方向的单方向扫描时，圆筒形掩膜板绕中心轴旋转，透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆上，对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时，晶圆载物台不需要改变扫描方向，从而节省了曝光时间，提高了曝光效率。

    一种离轴对准系统及对准方法
    10.
    发明公开
    一种离轴对准系统及对准方法 有权

    公开(公告)号：CN103777476A

    公开(公告)日：2014-05-07

    申请号：CN201210402248.1

    申请日：2012-10-19

    申请人： 上海微电子装备有限公司

    发明人： 张鹏黎 ,  徐文 ,  王帆

    IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7069 ,  G03F9/7088

    摘要： 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。