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公开(公告)号：CN102563330B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201010618371.8
申请日：2010-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明针对工件台在移入移出整机进行维修维护的过程中存在的安全隐患，设计工件台安全保护装置，将该工件台安全保护装置安装在工件台靠近气垫和空气弹簧的部位。这种工件台安全保护装置，包括支座，支座固设于所述工件台的下方，支座内设有垂向的滑槽，滑槽内设有滑块，滑块的上端通过第一预紧弹簧和工件台连接，以保证所述滑块的下端始终和所述工作平台滚动接触，所述支座上还设有一用于使所述滑块瞬间停止滑动的锁紧装置。本发明利用工件台下坠瞬间产生的巨大加速度，应用力矩平衡原理，通过机构运动使工件台迅速受到工件台安全装置的机械锁紧作用，使工件台在产生加速度之后的很短时间内立即停止下降，从而有效保护工件台上精密部件的安全。
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公开(公告)号：CN105301911A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201410284172.6
申请日：2014-06-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于高精密工件台的无管路物料吸附装置，其特征在于，包括吸盘、气缸、活塞、电机，所述吸盘内部有管路连接气缸；所述电机带动所述活塞运动，使所述气缸内出现负压，使所述吸盘吸附物料。与现有技术相比较，本发明无外部气源，无传输路径中的压力损失，无管路引起的干扰。同时不受环境限制，能够应用于大气环境。
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公开(公告)号：CN102200701B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201010133807.4
申请日：2010-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提出一种掩模版固定装置，包括：方镜，其具有第一支撑底壁和第二支撑底壁，所述第一支撑底壁和第二支撑底壁分别向上延伸至少一突起，每一突起内贯穿一真空口；第一柔性片和第二柔性片，分别置于所述第一支撑底壁和第二支撑底壁上，所述第一柔性片和第二柔性片对应方镜上的各突起分别具有供承载掩模版的支撑凸台，每一支撑凸台开设有与真空口对应的通槽，每一柔性片的通槽内侧壁、靠近通槽内侧壁的部分柔性片底边与方镜上突起的外壁面、靠近突起的外壁面的部分支撑底壁相互粘连，每一柔性片的其他柔性片底边与方镜的各个支撑底壁具有一定间隙。本发明提出的固定掩模版的装置，成本较低，并且能够保证掩模版在固定过程中的变形精度要求。
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公开(公告)号：CN102200689B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201010131076.X
申请日：2010-03-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种混合磁浮式的重力补偿装置，包括静态重力补偿模块，该静态重力补偿模块包括：中间运动部件；位于中间运动部件周围的外部固定部件，外部固定部件与中间运动部件之间通过磁力作用使得中间运动部件处于径向悬浮状态，从而对中间运动部件进行垂向导向；位于中间运动部件下面的底部固定部件，底部固定部件与中间运动部件之间通过可调节的磁力作用来进行静态重力补偿。根据本发明，采用磁悬浮力，使相对运动的对象进行非接触的位移，并实现了对承片台静态重力补偿和水平向、垂向的解耦。
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公开(公告)号：CN101957562B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201010265032.6
申请日：2009-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种双曝光对准扫描曝光的方法，包括以下步骤：(1)利用光源通过投影镜头形成主光轴；(2)将第一掩模版和第二掩模版放在承版台上；(3)进行所述掩模版对准；(4)进行离轴硅片对准，将硅片放置在承片台上；(5)将所述硅片移动到所述主光轴位置；(6)利用所述承版台带动所述第一掩模版运动到所述主光轴位置，将第一掩模版的图形曝光成像在所述硅片上；(7)利用所述承版台带动所述第二掩模版运动到所述主光轴位置，将第二掩模版的图形曝光成像在所述硅片上。本发明利用掩模版承版台将两块不同的掩模版依次在同一个涂胶层上分别进行独立的曝光，双曝光技术可以将二维的图案分解为两个更容易精确地生成的一维图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102678748A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201110053278.1
申请日：2011-03-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: F16C32/06
CPC classification number: F16C32/0614 , F16C29/025 , F16C32/0674 , F16C2370/00 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70816
Abstract: 本发明的分体式气足用于支撑运动台在平台上作无摩擦运动，包括气足板、设置在所述气足板底部的气浮结构、设置在所述气足板上的真空预紧力结构，所述真空预紧力结构与所述气足板分体式连接。本发明的分体式气足气浮结构与真空预紧力结构分离，避免气足板在受到真空预紧力作用时产生弯曲变形，对气浮区域产生的影响。
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公开(公告)号：CN102270596A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201010128748.1
申请日：2010-06-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提出一种吸盘，所述吸盘的下表面包括多个中空环形凸起，每一中空环形凸起内开设有未贯穿吸盘上下表面的环形腔，其中，至少其中之一的中空环形凸起的环形腔设有真空连通区域；多个径向凸起，每一径向凸起沿所述吸盘的径向设置并连接所述设有真空连通区域的中空环形凸起至其他一些中空环形凸起，每一径向凸起内开设有未贯穿吸盘上下表面的径向空腔，以与各个中空环形凸起内的环形腔相互连通；以及多个真空通孔，位于每一环形腔内并贯穿所述吸盘的上下表面。相比较现有技术，本发明由于采用了具有径向空腔的径向凸起，能使真空快速地建立至吸盘的大部分面积，以使吸附晶片的吸附效果更具均匀性，有利于更精确可靠地定位晶片。
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公开(公告)号：CN102200701A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201010133807.4
申请日：2010-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明提出一种掩模版固定装置，包括：方镜，其具有第一支撑底壁和第二支撑底壁，所述第一支撑底壁和第二支撑底壁分别向上延伸至少一突起，每一突起内贯穿一真空口；第一柔性片和第二柔性片，分别置于所述第一支撑底壁和第二支撑底壁上，所述第一柔性片和第二柔性片对应方镜上的各突起分别具有供承载掩模版的支撑凸台，每一支撑凸台开设有与真空口对应的通槽，每一柔性片的通槽内侧壁、靠近通槽内侧壁的部分柔性片底边与方镜上突起的外壁面、靠近突起的外壁面的部分支撑底壁相互粘连，每一柔性片的其他柔性片底边与方镜的各个支撑底壁具有一定间隙。本发明提出的固定掩模版的装置，成本较低，并且能够保证掩模版在固定过程中的变形精度要求。
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公开(公告)号：CN101504513B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200910045871.4
申请日：2009-01-23
Applicant: 上海微电子装备有限公司 , 上海微高精密机械工程有限公司
Abstract: 一种气浮导轨系统，属于精密仪器领域。本发明提高气浮导轨系统包括压缩空气控制气路、真空控制气路以及气浮导轨，气浮导轨包括气浮区和真空腔；所述压缩空气控制气路包括第一恒压气囊，用于向所述气浮导轨的气浮区补充气体；所述真空控制气路包括第二恒压气囊，用于抽取所述气浮导轨的真空腔中的气体。该气浮导轨系统具有气膜振动小的特点。
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公开(公告)号：CN101571675A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200910052810.0
申请日：2009-06-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种光刻机工件台平衡定位系统，本发明包括光刻机框架、底座、第一补偿模块、第一平衡质量块、两个第二补偿模块、第二平衡质量块、两个第二电机定子、两个第二电机动子、第一电机定子，以及至少一个放置于底座侧边的力矩消除器，本发明通过力矩消除器消除曝光台在加速时产生的反作用力矩，大幅度降低工件台系统在携带负载加速时对底座产生的冲击力。
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