PDMS变周期环形微褶皱结构的制备方法

    公开(公告)号:CN107954392A

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201711213891.9

    申请日:2017-11-28

    IPC分类号: B81C1/00

    摘要: 本发明涉及一种PDMS变周期环形微褶皱结构的制备方法,首先制备PDMS软薄膜;将制备好的薄膜剪裁为圆形;将剪裁后的圆形薄膜固定于一个具有圆形孔洞的夹具上,然后从该孔洞使用预先定制特定角度的角锥将所述薄膜顶推形成锥状结构;将低压汞灯(含有两种波长的光,185nm和254nm)水平固定于步进电机上,且置于锥状结构上端;对上述形成的锥状结构均匀照射一定时间,在PDMS软膜表面形成一层厚度不同的SiOx硬膜,之后取消顶推,使所述软硬两层薄膜表面形成变周期环形微褶皱结构,完成制备,并且形成的结构为中心疏边缘密的同心圆环褶皱。该方法具有操作简单,制备周期短,成本低的优点,可以用作菲涅尔透镜和菲涅尔波带片。

    一种被动式太赫兹人体安检系统装置及调整方法

    公开(公告)号:CN104950340B

    公开(公告)日:2017-07-18

    申请号:CN201510321883.0

    申请日:2015-06-12

    IPC分类号: G01V8/00 G01N21/47

    摘要: 本发明涉及一种被动式太赫兹人体安检系统装置及调整方法,采用平面反射镜,聚焦镜,太赫兹探测器和图像分析处理模块,通过控制平面反射镜的摆动轴和角度调节轴,从而实现对目标人物的快速扫描成像。装置简单,容易操作。在实际操作过程中,只需要依据实际实验情况设定好平面反射镜的摆动角度以及每次的旋转角度,通过控制平面反射镜的摆动轴和角度调节轴,从而实现对目标人物的高分辨率、快速扫描成像;该装置对于微波,太赫兹波,远红外波均适用。

    检测导模共振滤波器光谱的系统及方法

    公开(公告)号:CN104316471B

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201410632510.0

    申请日:2014-11-11

    IPC分类号: G01N21/25 G01N21/01

    摘要: 本发明公开了一种检测导模共振滤波器光谱的系统及方法,其系统包括:一光源,用于发射一主光束;一分束镜,所述分束镜设置于所述主光束的光路,用于将所述主光束分解为一第一子光束和一第二子光束;一导模共振滤波器,所述导模共振滤波器设置于所述第一子光束的光路;一反射镜,所述反射镜设置于所述第二子光束的光路;一第一光谱分析仪和一第二光谱分析仪。由于采用了本发明的一种检测导模共振滤波器光谱的系统及方法,能够实现同一处生物样品由不同面入射的检测,大大减少重新调整光路以及重新涂覆生物样品所引起的误差,具有操作便捷、精确度高的优点。

    楔形滤波片及其制备方法

    公开(公告)号:CN105676333A

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201610160085.9

    申请日:2016-03-21

    IPC分类号: G02B5/28

    CPC分类号: G02B5/285

    摘要: 本发明实现了厚度线性变化的楔形波导片加工,从而实现输出一定波段的谱面的效果,也实现了输出一定光谱范围内的连续光谱。将本发明实施例的新型楔形滤波片用于光谱仪作为分光元件,还可以制作超微型光谱仪。根据本发明的用于输出一定光谱范围内的连续光谱的楔形滤波片,其包括基片、均匀分布在所述基片上且厚度呈线性变化纵截面形状为楔形的楔形波导薄膜层、以及形成在所述波导薄膜层上的光栅,所以,本发明的楔形滤波片具有输出一定光谱范围内的连续光谱的作用。

    光刻胶折射率的测定方法

    公开(公告)号:CN103196868A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201310122640.5

    申请日:2013-04-10

    IPC分类号: G01N21/41

    摘要: 本发明涉及一种光刻胶折射率的测定方法,包括以下步骤:使光刻胶液体在水面上凝固得到光刻胶薄膜;将光刻胶薄膜置于回形支架中并加热得到样品支架;使用太赫兹时域光谱系统仅测定太赫兹电磁波通过空白回形支架后脉冲电场的时间波形,傅立叶转换后得到参照相位;使用太赫兹时域光谱系统测定太赫兹电磁波通过样品支架后脉冲电场的时间波形,通过傅立叶转换后得到样品相位;根据参照相位和样品相位得到相位差;根据计算公式得到光刻胶在太赫兹频段内的折射率。因为光刻胶对太赫兹电磁波不敏感,所以不会发生光敏反应,可以实现准确测量曝光前后光刻胶在太赫兹频段内的折射率。本发明方便快捷,测试结果精确,拓展了光刻胶折射率的测量范围。

    闪耀凸面光栅的反应离子束蚀刻方法

    公开(公告)号:CN101900844B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN201010169360.6

    申请日:2010-05-07

    IPC分类号: G02B5/18 G03F7/00

    摘要: 本发明公开了一种闪耀凸面光栅的反应离子束蚀刻方法,包括以下步骤:步骤一、凸面光栅掩模石英基片的放置;步骤二、若凸面光栅掩模石英基片的球半径为R,要制成的闪耀凸面光栅的闪耀角为θ,则将离子束方向与光栅顶点处刻线所在平面成θ角;步骤三、制作蚀刻狭缝;步骤四、狭缝的放置;步骤五、蚀刻凸面光栅。本发明的技术方案是采用分段蚀刻法,也就是对槽形为正弦型的凸面光栅掩模石英基片进行分段离子束蚀刻,使得蚀刻后的闪耀凸面光栅的闪耀角理论相对误差为0.1。

    在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法

    公开(公告)号:CN101738664B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200910262348.7

    申请日:2009-12-17

    IPC分类号: G02B5/18 G02B17/08 G03H1/04

    摘要: 在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法,采用的装置包括:光源和依次位于所述光源的光路上的:空间滤波器;凹面镜;第三反射镜和第四反射镜;凸透镜,位于曝光位置处;接收屏,位于所述凸透镜的后焦面上;所述方法包括:通过第三反射镜和第四反射镜使产生的干涉条纹的两束平行光通过所述凸透镜,在位于所述凸透镜焦距处的接收屏上产生两个汇聚焦点光斑;测量这两个焦点光斑的距离L,根据下公式计算出所需的光栅常数d,调整所述第三反射镜和第四反射镜所形成的两束平行光束的角度α以改变接收屏上两光斑的距离L,得到不同的光栅常数d。本发明对于制作不同周期的光栅调节方便,并且控制光栅周期精度高。

    一种基于聚合物分散液晶材料的可调谐窄带通滤光片

    公开(公告)号:CN101661181A

    公开(公告)日:2010-03-03

    申请号:CN200910195385.0

    申请日:2009-09-09

    摘要: 一种基于聚合物分散液晶材料的可调谐窄带通滤光片,利用聚合物分散液晶材料电控折变特性和导模共振滤光片相结合构成可调谐窄带通滤光片;导模共振滤光片是在基底层向上依次有半导体透明导电膜ITO层和光栅层,在光栅层上涂一层PDLC预聚材料,固化得到PDLC层,在PDLC层上镀一层ITO层,得到可调谐导模共振滤光片;利用PDLC层上下形成的透明导电膜氧化铟锡ITO层,对其施加电压以驱动聚合物分散液晶PDLC材料;ITO层不仅作为对PDLC施加电场的电极层,还作为导模共振滤光片的波导层;聚合物分散液晶PDLC材料的折射率被用来调谐波长;采用外加电压调谐。本发明结构简单,具有高的峰值反射率和窄带光谱。

    增强硅基成像器件紫外响应无机薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101345271A

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200810041913.2

    申请日:2008-08-21

    IPC分类号: H01L31/18 H01L21/00

    摘要: 增强硅基成像器件紫外响应无机薄膜的制备方法,其特征在于:在光电器件光敏面基片的光入射面采用旋转镀膜的方法生成Zn2SiO4∶Mn膜层,该膜层将紫外光转化为可见光;步骤如下:首先将Zn2SiO4∶Mn和甲基丙烯酸甲酯配制成溶胶,充分搅拌,然后将溶胶置于光敏面基片,利用旋转镀膜机制得初步薄膜后,再滴入甲苯,继续重复旋转镀膜,剥去甲基丙烯酸甲酯成分,得到Zn2SiO4∶Mn膜层。本发明所制备的硅基成像器件紫外响应无机薄膜具有较好的转化效率,其发射波长为525nm,恰好在CCD等探测器的最敏感响应波段;采用的基丙烯酸甲酯既可作粘性溶剂,又可作增透剂,提高了转化效率的同时也增加了薄膜的机械强度。