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公开(公告)号：CN101709194A
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200910199471.9
申请日：2009-11-27
申请人： 上海理工大学
IPC分类号： C09D133/14 , C09D5/00 , C03C17/32 , B60J1/02
摘要： 本发明涉及一种防雾喷涂料及其应用。本发明的防雾喷涂料为甲基丙烯酸、甲基丙烯酸2-羟乙酯和乙二醇单甲醚在自由基引发剂和增强剂的作用下，在60-80摄氏度和惰性气体保护下经聚合反应合成。本发明的防雾喷涂料喷涂制得的防雾涂膜透明、平整，透过率高，尤其适用于汽车前挡风玻璃。本发明的防雾喷涂膜相对而言制备工艺简单、设备投资低、原料成本低、绿色环保，防雾性能优良，薄膜牢固度好而更具有生产实用价值。
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公开(公告)号：CN101345271A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200810041913.2
申请日：2008-08-21
申请人： 上海理工大学
摘要： 增强硅基成像器件紫外响应无机薄膜的制备方法，其特征在于：在光电器件光敏面基片的光入射面采用旋转镀膜的方法生成Zn2SiO4∶Mn膜层，该膜层将紫外光转化为可见光；步骤如下：首先将Zn2SiO4∶Mn和甲基丙烯酸甲酯配制成溶胶，充分搅拌，然后将溶胶置于光敏面基片，利用旋转镀膜机制得初步薄膜后，再滴入甲苯，继续重复旋转镀膜，剥去甲基丙烯酸甲酯成分，得到Zn2SiO4∶Mn膜层。本发明所制备的硅基成像器件紫外响应无机薄膜具有较好的转化效率，其发射波长为525nm，恰好在CCD等探测器的最敏感响应波段；采用的基丙烯酸甲酯既可作粘性溶剂，又可作增透剂，提高了转化效率的同时也增加了薄膜的机械强度。
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公开(公告)号：CN101339920B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200810041823.3
申请日：2008-08-18
申请人： 上海理工大学
IPC分类号： H01L21/82 , H01L27/146 , H01L27/148 , H01L31/18 , H01L31/09 , H01L31/0232
CPC分类号： Y02P70/521
摘要： 增强硅基成像器件紫外响应的有机金属薄膜制备方法，其特征在于：选取经预烘烤的有机金属配价物Alq3粉末作为镀膜材料，采取真空蒸镀法在硅基成像器件光敏元表面将紫外变频材料蒸镀成膜。所述的经预烘烤的有机金属配价物Alq3粉末烘烤时间为6-12小时，温度：300℃。所述制备变频薄膜的真空蒸镀法，蒸镀条件为：真空度：2×10-3Pa；光学监控波长：500nm；薄膜厚度：光学厚度125nm；蒸发电流：20A；烘烤温度：200℃。该薄膜不但有效提高了硅基成像器件紫外响应的能力，而且克服了有机变频薄膜随时间衰减老化的问题。
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公开(公告)号：CN101339920A
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200810041823.3
申请日：2008-08-18
申请人： 上海理工大学
IPC分类号： H01L21/82 , H01L27/146 , H01L27/148 , H01L31/18 , H01L31/09 , H01L31/0232
CPC分类号： Y02P70/521
摘要： 增强硅基成像器件紫外响应的有机金属薄膜制备方法，其特征在于：选取经预烘烤的有机金属配价物Alq3粉末作为镀膜材料，采取真空蒸镀法在硅基成像器件光敏元表面将紫外变频材料蒸镀成膜。所述的经预烘烤的有机金属配价物Alq3粉末烘烤时间为6－12小时，温度：300℃。所述制备变频薄膜的真空蒸镀法，蒸镀条件为：真空度：2×10－3Pa；光学监控波长：500nm；薄膜厚度：光学厚度125nm；蒸发电流：20A；烘烤温度：200℃。该薄膜不但有效提高了硅基成像器件紫外响应的能力，而且克服了有机变频薄膜随时间衰减老化的问题。
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公开(公告)号：CN202734383U
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201220303248.1
申请日：2012-06-26
申请人： 上海理工大学
CPC分类号： Y02B30/72 , Y02P60/855
摘要： 一种小型双温蓄冷水冷柜，包括压缩机、风冷冷凝器、主毛细管、主蒸发盘管，在风冷冷凝器与主毛细管之间，增设蓄冷槽和蓄冷毛细管，其中蓄冷槽内包含一个蓄冰盘管和一个过冷盘管，使双温蓄冷水冷柜形成一个蓄冷制冰循环系统和一个融冰过冷循环系统；所述蓄冷制冰循环由压缩机、风冷冷凝器、电磁阀一、蓄冷毛细管与蓄冷槽中的蓄冰盘管、单向阀、压缩机通过管道串联连接形成闭合回路；所述融冰过冷循环系统由压缩机、风冷冷凝器、电磁阀二、过冷盘管、主毛细管、主蒸发盘管、压缩机通过管道串联连接形成闭合回路。本实用新型利用夜间温度低时制冰，白天温度高时融冰，不仅制冷效果显著提高，而且有效节省峰时用电。
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公开(公告)号：CN202709595U
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201220285238.X
申请日：2012-06-18
申请人： 上海理工大学
摘要： 本实用新型涉及一种小型双温蓄冷水冷柜，冷柜中增设蓄冷槽，蓄冷槽内设置蓄冰盘管和过冷盘管，蓄冰盘管出口依次通过单向阀、压缩机、风冷冷凝器、电磁阀和蓄冷毛细管与蓄冰盘管进口连接，形成蓄冷制冰循环；过冷盘管出口依次通过主毛细管、主蒸发器、压缩机、风冷冷凝器和电磁阀与过冷盘管进口连接，形成融冰过冷循环。在普通冷柜中增设一夜间工作的蓄冷槽，利用夜间环境温度较低时，机组冷凝温度较低的时段，设定低于或接近0℃的蒸发温度进行蓄冷制冰，储存一定冷量。待白天环境温度升高时提高3-5℃蒸发温度，同时将蓄冷冷量逐渐释放于冷柜系统增设的过冷器，增大系统节流前的过冷度以增大制冷量，降低功耗，达到节能与使用方便之目的。
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公开(公告)号：CN201270249Y
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200820152199.X
申请日：2008-08-21
申请人： 上海理工大学
IPC分类号： H01L27/146 , H01L27/148 , H01L31/09 , H01L31/0232
摘要： 一种基于无机材料增强紫外响应的硅基成像器件，其特征在于：在光电器件光敏面基片的光入射面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Zn2SiO4:Mn膜层；与硅基成像器件光敏面基片致密结合。该膜层将紫外光转化为可见光；所述的Zn2SiO4:Mn膜层，Zn2SiO4和Mn的质量比为Zn2SiO4∶Mn＝100∶2.4。本实用新型所制备的硅基成像器件紫外响应无机薄膜具有较好的转化效率，其发射峰值波长为525nm，恰好在CCD等探测器的最敏感响应波段；无机变频薄膜克服了随时间衰减老化的问题，能够有效增强硅基成像器件对紫外光的敏感度。
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公开(公告)号：CN201247776Y
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200820152099.7
申请日：2008-08-18
申请人： 上海理工大学
IPC分类号： H01L27/146 , H01L27/148 , H01L31/09 , H01L31/0232
摘要： 一种具有紫外响应的硅基成像器件，其特征在于：在硅基成像器件光敏元基片的一面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Alq3材料的变频薄膜，与硅基成像器件光敏元基片致密结合。所述的变频薄膜，Alq3材料是经过预烘烤后的有机金属配价物Alq3粉末作为镀膜材料。所述的变频薄膜厚度：光学厚度125nm。本实用新型不但有效提高了硅基成像器件紫外响应的能力，而且克服了有机变频薄膜随时间衰减老化的问题。能够有效增强硅基成像器件对紫外光的敏感度，将探测区域拓展到紫外波段。
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公开(公告)号：CN201247196Y
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200820152098.2
申请日：2008-08-18
申请人： 上海理工大学
摘要： 一种光栅光谱仪重叠光谱分级器，包括聚光镜、低色散直视棱镜、电极头光栏、垂直孔径光栏和狭缝楔片，其特征在于：该光谱分级器安装在光栅光谱仪的光源和狭缝之间；在光栅光谱仪的光源之后和狭缝之间依次安装聚光镜A、垂直孔径光栏、聚光镜B、电极头光栏、低色散直视棱镜、聚光镜C；狭缝楔片插在垂直孔径光栏的插口中。所述的聚光镜A、聚光镜B、聚光镜C为一套完整的三透镜照明系统。所述的垂直孔径光栏与光谱仪狭缝相垂直。本实用新型结构简单使用方便，通用便捷，与光栅光谱仪器集成使用，不需要临时拆装，可以有效消除光栅光谱仪高级次重叠光谱。
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