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公开(公告)号：CN113515011A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110390190.2
申请日：2021-04-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及感光性组合物、经图案化的固化膜的制造方法及经图案化的固化膜。提供能形成相对介电常数低的固化物且能够在具有高低差的基板上形成保形性良好的涂布膜的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、和使用该感光性组合物的固化物的制造方法。在包含碱溶性树脂(A)、光聚合性化合物(B)和光聚合引发剂(C)的感光性组合物中，使用包含特定量的来自(甲基)丙烯酸多环烷基酯的结构单元(A‑1)且重均分子量为9,000以上的丙烯酸系树脂作为碱溶性树脂(A)。
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公开(公告)号：CN110317174A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910242189.8
申请日：2019-03-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07D233/60 , C07D487/04 , C07F9/22 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件。本发明的课题在于提供能向各种材料赋予氢阻隔性能的氢阻隔剂、包含该氢阻隔剂的氢阻隔膜形成用组合物、包含前述的氢阻隔剂的氢阻隔膜、使用了前述的氢阻隔膜形成用组合物的氢阻隔膜的制造方法、和具备氢阻隔膜的电子元件。使用具有咪唑基的特定结构的盐化合物作为氢阻隔剂。另外，将前述的氢阻隔剂配合至基材成分中，制备氢阻隔膜形成用组合物。进而，使用前述的氢阻隔膜形成用组合物，形成氢阻隔膜。
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公开(公告)号：CN110317174B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN201910242189.8
申请日：2019-03-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C07D233/60 , C07D487/04 , C07F9/22 , G03F7/004 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件。本发明的课题在于提供能向各种材料赋予氢阻隔性能的氢阻隔剂、包含该氢阻隔剂的氢阻隔膜形成用组合物、包含前述的氢阻隔剂的氢阻隔膜、使用了前述的氢阻隔膜形成用组合物的氢阻隔膜的制造方法、和具备氢阻隔膜的电子元件。使用具有咪唑基的特定结构的盐化合物作为氢阻隔剂。另外，将前述的氢阻隔剂配合至基材成分中，制备氢阻隔膜形成用组合物。进而，使用前述的氢阻隔膜形成用组合物，形成氢阻隔膜。
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公开(公告)号：CN109581813A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811146422.4
申请日：2018-09-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供折射率及耐黄变性优异的固化性组合物、由上述固化性组合物的固化物形成的固化膜、和使用前述的固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的解决手段为一种固化性组合物，其为阳离子固化型或阴离子固化型的固化性组合物，前述固化性组合物含有(C)熔点为140℃以下的离子液体，能提供对波长550nm的光线的折射率为1.60以上且2.20以下的固化膜。
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公开(公告)号：CN108957952A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810464382.1
申请日：2018-05-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08G59/686 , B05D3/0254 , B05D3/06 , C08G59/24 , C08G59/245 , C08G59/3236 , C08G59/687 , C08G75/08 , C09D163/00 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供：可形成耐热性(耐热分解性)和对基材的密合性良好的固化物、且固化性良好的固化性组合物；由该固化性组合物的固化物形成的固化膜；具有该固化膜的显示面板；和使用前述固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是在包含(A)固化性化合物和(B)热阳离子聚合引发剂的固化性组合物中，使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的阳离子聚合性的化合物，并且，使(B)热阳离子聚合引发剂含有特定结构的季铵盐型的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108375878A
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201810085762.4
申请日：2018-01-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供：即使含有选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)和含聚合性基团的成分、也能抑制在利用光刻法形成经图案化的功能性膜时在非图案部中产生显影残渣的感光性的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的固化膜的制造方法、使该聚合性组合物固化而形成的固化膜、使包含前述的无机填料(D1)的聚合性组合物固化而形成的透明绝缘膜、及具有该透明绝缘膜的显示装置。一种感光性的聚合性组合物，其包含选自由包含特定元素的无机填料(D1)和碱性填料(D2)组成的组中的1种以上的填料(D)、和含聚合性基团的成分，所述组合物中，含有特定的含硅树脂(A)。
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公开(公告)号：CN114502613A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080068095.4
申请日：2020-09-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够同时实现对固化时的固化物着色的抑制、和良好的固化性的阳离子固化性的固化性组合物、该固化性组合物的固化物、和使用该固化性组合物的固化物的形成方法。在包含阳离子固化剂(A)、和阳离子固化性化合物(B)的固化性组合物中，使用组合包含由具有特定结构的阳离子部的鎓盐形成的光产酸剂(A1)、和具有特定结构的含镓阴离子作为阴离子部的热产酸剂(A2)的阳离子固化剂。
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公开(公告)号：CN112904674A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202011366540.3
申请日：2020-11-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组合物及固化膜的制造方法。本发明的课题在于提供能够形成具有高耐溶剂性的固化膜的负型感光性树脂组合物、由该负型感光性树脂组合物的固化物形成的固化膜、以及使用上述负型感光性树脂组合物的固化膜的制造方法。解决手段为包含特定结构的树脂(A)和特定结构的光聚合引发剂(B)的负型感光性树脂组合物、由该负型感光性树脂组合物的固化物形成的固化膜、以及使用上述负型感光性树脂组合物的固化膜的制造方法。
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公开(公告)号：CN104885009B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201380068780.7
申请日：2013-12-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/038 , C08K5/33 , C08K5/3445 , C08L79/08 , G03F7/004 , H01L21/027 , C07C323/47 , C07D209/86 , C07D233/60
Abstract: 本发明提供即使在低温下的热处理也供给耐热性优异、介电常数低的聚酰亚胺树脂的能量敏感树脂组合物、使用上述能量敏感树脂组合物的聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体的制造方法、和使用上述能量敏感树脂组合物的图案形成方法。本发明所涉及的能量敏感树脂组合物含有使四羧酸二酐与二胺反应而得的聚酰胺酸、溶剂、和通过光和/或热的作用进行分解而产生碱和/或酸的化合物(A)。本发明所涉及的聚酰亚胺膜或聚酰亚胺成形体的制造方法包括：形成包含上述组合物的涂膜或成形体，通过曝光或加热将上述涂膜或成形体中的化合物(A)分解。本发明所涉及的图案形成方法包括：形成包含上述组合物的涂膜或成形体，选择性曝光，在曝光后显影，在显影后加热。
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公开(公告)号：CN103365087B
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201310097102.5
申请日：2013-03-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够形成绝缘性和耐试剂性优异的绝缘膜、且在形成绝缘膜的图案时的曝光裕度宽的绝缘膜形成用感光性树脂组合物。另外，本发明还提供使用上述的绝缘膜形成用感光性树脂组合物而形成的绝缘膜、以及使用上述的绝缘膜形成用感光性树脂组合物的绝缘膜的形成方法。本发明的感光性树脂组合物，在(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合性单体、以及(C)光聚合引发剂中配合特定结构的化合物，并使用包含特定量的来自包含环氧基的不饱和化合物的结构单元的树脂作为(A)碱可溶性树脂。
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