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公开(公告)号：CN106409723B
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN201610622675.9
申请日：2016-08-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/3105 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及紫外线照射装置及紫外线照射方法。本发明的课题在于提供一种可抑制在收容部内产生粒子、保持基板清洁的紫外线照射装置。本发明的紫外线照射装置包括：收容部，所述收容部可在密闭空间内收容基板；照射部，所述照射部被设置于上述收容部的外部，可向上述基板照射紫外线；和移动部，所述移动部被设置于上述收容部的外部，使上述照射部在上述收容部的外部移动，以使得从上述收容部的外部向被收容在上述收容部的内部的上述基板照射上述紫外线。
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公开(公告)号：CN114792646A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202111467312.X
申请日：2021-12-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/683 , B25J15/06 , B25J18/00
Abstract: 本发明涉及吸附垫，即使是具有翘曲的基板，也能够可靠地将其保持同时防止基板的带电，并且将构成简化从而抑制制造成本的增加。吸附基板(W)的吸附垫(10)具备：第1层(11)，与基板(W)接触；第2层(12)，层叠在第1层(11)并支承第1层(11)；抽吸孔(10A)，贯通第1层(11)与第2层(12)，第1层(11)由具有耐热性及导电性的材质形成，第2层(12)由刚度低于第1层(11)且可变形的材质形成。
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公开(公告)号：CN106444289B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201610643283.0
申请日：2016-08-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可得到同时实现透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明涉及紫外线照射装置，其具有：收容部，可在密闭空间内收容基板；照射部，向基板照射紫外线；加热部，被设置在收容部内，对基板进行加热；和升降部，可使基板相对于加热部升降，照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的基板照射紫外线，所述第2照射动作在第1照射动作后、向已被加热的状态的基板照射紫外线，在第1照射动作中，升降部使基板从加热部退避至上方。
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公开(公告)号：CN101297010B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200680039580.9
申请日：2006-10-23
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C09J133/06 , C09J7/02 , B24B37/04 , H01L21/301 , H01L21/304
CPC classification number: C09J133/06 , B24B37/30 , B24B37/34 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J133/10 , C09J2203/326 , H01L21/67132 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , Y10T428/2861 , Y10T428/2891 , Y10T428/31935
Abstract: 本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。
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公开(公告)号：CN113764305A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202110467278.X
申请日：2021-04-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板检测装置,即使在收纳容器的形状未被规格化的情况或者基板的形状为方形基板的情况中的任一情况下，也能够检测基板，容易地获取基板信息。该基板检测装置具备：载置部，载置供多个基板沿上下方向排列收纳的收纳容器；传感器保持部，与载置部相对升降；升降驱动部，使载置部与所述传感器保持部相对升降；多个传感器，在与上下方向相交的方向上分离配置在所述传感器保持部，分别检测容纳于收纳容器的基板的端部的不同的部分；控制部，驱动升降驱动部，使载置部与传感器保持部相对升降，并根据多个传感器对基板的端部的检测结果获取收纳容器内的基板信息。
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公开(公告)号：CN114639612A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202111234118.7
申请日：2021-10-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 本发明的技术问题在于抑制产生无法清洗的部分。提供一种清洗装置，具有：吸附部，在矩形基板的四个角部突出的状态下吸附基板，并绕铅垂轴旋转；以及喷嘴，向基板的被吸附面排出清洗液，喷嘴被设置为在基板旋转1周时，清洗液直接接触四个角部的全部。
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公开(公告)号：CN106444289A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610643283.0
申请日：2016-08-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供可得到同时实现透光性及耐热性的可靠性高的图案的紫外线照射装置、抗蚀剂图案形成装置、紫外线照射方法及抗蚀剂图案形成方法。本发明涉及紫外线照射装置，其具有：收容部，可在密闭空间内收容基板；照射部，向基板照射紫外线；加热部，被设置在收容部内，对基板进行加热；和升降部，可使基板相对于加热部升降，照射部实施第1照射动作和第2照射动作，所述第1照射动作向未经加热的状态的基板照射紫外线，所述第2照射动作在第1照射动作后、向已被加热的状态的基板照射紫外线，在第1照射动作中，升降部使基板从加热部退避至上方。
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公开(公告)号：CN114121749A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110784750.2
申请日：2021-07-12
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 稻尾吉浩
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置，通过容易地进行板上的基板的对位来适当地处理基板。基板处理装置具备载置有基板的板、将基板按压至板侧的按压部件、对板上的基板相对于按压部件进行定位的对准机构。
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