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公开(公告)号：CN108884574B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN201780021865.8
申请日：2017-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供含有与N,N‑二甲基乙酰胺(DMA)、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)不同的有机溶剂、且保形涂布性优异的金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法。金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)。式(1)中，R1及R2各自独立地为碳原子数1～3的烷基，R3为下式(1‑1)或下式(1‑2)表示的基团。式(1‑1)中，R4为氢原子或羟基，R5及R6各自独立地为碳原子数1～3的烷基。式(1‑2)中，R7及R8各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。
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公开(公告)号：CN108884574A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021865.8
申请日：2017-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供含有与N,N‑二甲基乙酰胺(DMA)、N‑甲基吡咯烷酮(NMP)不同的有机溶剂、且保形涂布性优异的金属氧化物膜形成用涂布剂及具有金属氧化物膜的基体的制造方法。金属氧化物膜形成用涂布剂，其含有溶剂和金属，溶剂含有下述的式(1)表示的化合物(A)。式(1)中，R1及R2各自独立地为碳原子数1～3的烷基，R3为下式(1‑1)或下式(1‑2)表示的基团。式(1‑1)中，R4为氢原子或羟基，R5及R6各自独立地为碳原子数1～3的烷基。式(1‑2)中，R7及R8各自独立地为氢原子、或碳原子数1～3的烷基。
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公开(公告)号：CN111479953B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN201880079479.9
申请日：2018-10-30
Applicant: 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供一种氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜及金属镀覆结构体的制造方法，能够提高涂布剂的稳定性，能够容易地形成与基材的密合性高、能够进行镀覆处理的氧化物膜。氧化物膜形成用涂布剂是液态的涂布剂，必须含有钛原子，选择性含有硅原子及铜原子，钛原子及铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。另外，氧化物膜的制造方法具备将该涂布剂涂布在基材上并加热而形成氧化物膜的工序。另外，金属镀覆结构体的制造方法具有在该氧化物膜上形成金属膜的金属膜形成工序和对金属膜进行烧制的烧制工序。
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公开(公告)号：CN111479953A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880079479.9
申请日：2018-10-30
Applicant: 株式会社JCU
Abstract: 本发明提供一种氧化物膜形成用涂布剂、氧化物膜及金属镀覆结构体的制造方法，能够提高涂布剂的稳定性，能够容易地形成与基材的密合性高、能够进行镀覆处理的氧化物膜。氧化物膜形成用涂布剂是液态的涂布剂，必须含有钛原子，选择性含有硅原子及铜原子，钛原子及铜原子的合计与硅原子的比例为1∶0～3∶2。另外，氧化物膜的制造方法具备将该涂布剂涂布在基材上并加热而形成氧化物膜的工序。另外，金属镀覆结构体的制造方法具有在该氧化物膜上形成金属膜的金属膜形成工序和对金属膜进行烧制的烧制工序。
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