公开(公告)号：CN102974500B

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201210320645.4

申请日：2012-08-31

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 中岛丈博 ,  井上慎 ,  原圭孝 ,  叶瀬川泉 ,  绪方久仁惠 ,  森拓也

IPC分类号： B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/67288

摘要： 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中，提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时，停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴，使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断，依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好，在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片，例如连续三次被判断为不良品时，判断为药液喷嘴发生故障。

公开(公告)号：CN102974500A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201210320645.4

申请日：2012-08-31

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 中岛丈博 ,  井上慎 ,  原圭孝 ,  叶瀬川泉 ,  绪方久仁惠 ,  森拓也

IPC分类号： B05C5/00 ,  B05C11/10 ,  H01L21/00

CPC分类号： H01L21/67288

摘要： 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中，提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时，停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴，使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断，依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好，在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片，例如连续三次被判断为不良品时，判断为药液喷嘴发生故障。