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公开(公告)号：CN112041968A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201980024973.X
申请日：2019-04-01
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 【技术问题】在对被处理体供给药液来进行处理时，防止在处理中产生异常，或者检测药液流路中的含有聚合物的药液相对于其他药液是否为希望的比例。【技术手段】本发明的装置包括：含有聚合物的药液所流动的药液流路；对所述药液流路照射激光的激光照射部；接收从所述药液流路供给来的光的受光元件；和检测部，其基于从所述受光元件输出的信号，检测所述药液所含的聚合物中的过半数存在的聚合物的状态异常，或者检测所述药液流路中的含有该聚合物的药液与其他药液的比例。
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公开(公告)号：CN111009485A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201910931482.5
申请日：2019-09-29
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 森拓也
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/66
摘要： 本发明提供一种基板仓库、基板处理系统和基板检查方法，不使生产量降低地确定出半导体器件制造时的不良原因。一种基板仓库，用于保管保存有基板的容器，所述基板仓库具备：搬入部，其用于在从外部搬入所述容器时载置该容器；搬出部，其用于在向外部搬出所述容器时载置该容器；等待部，其用于载置等待向外部搬出的所述容器；功能部，其包括检查部，所述检查部进行检查所述基板的处理；交接部，其用于在所述功能部与所述容器之间交接基板时载置该容器；容器搬送机构，其用于在该基板仓库内搬送所述容器；以及基板搬送机构，其用于在所述功能部与载置于所述交接部的所述容器之间搬送基板。
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公开(公告)号：CN110678962A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201880035426.7
申请日：2018-05-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , B05D1/40 , B05D3/00 , B05D3/06 , H01L21/02
摘要： 本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。
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公开(公告)号：CN102974500A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210320645.4
申请日：2012-08-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/67288
摘要： 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中，提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时，停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴，使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断，依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好，在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片，例如连续三次被判断为不良品时，判断为药液喷嘴发生故障。
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公开(公告)号：CN1679141A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN03820283.2
申请日：2003-08-08
申请人： 东京毅力科创株式会社
发明人： 森拓也
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/67276 , G03F7/70525 , G03F7/708 , G03F7/70975
摘要： 本发明的目的在于更安全地对涂敷显影处理装置进行远程操作并进行维修。本发明是基板处理装置的维修系统，具备：远程操作装置，通过通信网络将远程操作信息发送给基板处理装置一边，对基板处理装置提供远程操作信息，由此从远距离的地方来操作基板处理装置；以及通信控制装置，接收被发送给基板处理装置一边的上述远程操作信息，对上述基板处理装置提供该远程操作信息，上述通信控制装置只在有对于远程操作的基板处理装置一边的操作人员的许可设定的情况下，才对基板处理装置提供上述远程操作信息。
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公开(公告)号：CN118280883A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410373353.X
申请日：2018-05-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明提供一种处理条件设定方法、存储介质和基板处理系统，本方法包括：利用基板处理系统内的摄像装置拍摄作为条件设定的基准的基准基板，取得基准基板的拍摄图像的工序；利用摄像装置拍摄在现在的处理条件进行了规定的处理的已处理基板，取得已处理基板的拍摄图像的工序；计算已处理基板的拍摄图像和基准基板的拍摄图像的颜色信息的偏差量的工序；基于预先取得的相关模型和上述颜色信息的偏差量，计算处理条件的补正量的工序；和基于补正量设定处理条件的工序，在每个处理装置中进行取得基准基板的拍摄图像的工序以外的工序。
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公开(公告)号：CN111982927B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202010794112.4
申请日：2016-05-09
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G01N21/95
摘要： 本发明提供一种基板处理系统。具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。根据本发明，能够进行最佳的检查，并能够抑制精度的偏差。(56)对比文件JP 2007010390 A,2007.01.18川上正光等《.晶体管及其电路》.人民邮电出版社,1980,(第一版),第21-25页.钱洪涛.LCOS IC中金属点缺陷的形成机理及改善方法研究《.中国优秀硕士学位论文全文数据库信息科技辑》.2008,(第7期),第I135-37页.Hauck, T 等.Weibull statistics formultiple flaw distributions and itsapplication in silicon fractureprediction《.THERMAL, MECHANICAL ANDMULTI-PHYSICS SIMULATION AND EXPERIMENTSIN MICRO-ELECTRONICS AND MICRO-SYSTEMS》.2005,第242-247页.
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公开(公告)号：CN113533266A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110410813.8
申请日：2021-04-16
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 本发明涉及异物检查系统、异物检查方法、程序以及半导体制造装置。提供判定附着于检查对象的异物的位置以及种类的技术。是检查附着于检查对象的异物的异物检查系统，并通过具有以下部分来解决上述课题：光源部，向上述检查对象照射激励光；检测部，检测照射上述激励光而产生的荧光的发光；判定部，根据上述荧光的发光判定附着于上述检查对象的异物的位置以及种类；以及输出部，输出上述判定部的判定结果。
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公开(公告)号：CN107533016B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201680026816.9
申请日：2016-05-09
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/027 , H01L21/66
摘要： 具有对基板实施规定处理的多个处理装置的基板处理系统的基板的检查方法，拍摄用处理装置处理前的基板的表面来取得第一基板图像，从该第一基板图像抽取规定的特征量，从存储有与各自不同的范围的特征量对应地设定的多个检查方案的存储部，选择与从第一基板图像抽取的特征量对应的检查方案，拍摄用处理装置处理后的基板的表面来取得第二基板图像，基于检查方案和第二基板图像，判断基板有无缺陷。
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公开(公告)号：CN107636450B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201680033546.4
申请日：2016-05-13
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G01N21/956 , H01L21/66
摘要： 基板的检查方法、计算机存储介质以及基板检查装置。关于对通过多种不同的处理装置沿规定的搬送路径被反复处理的基板进行检查的方法，对由任一个处理装置处理过的基板的表面进行摄像来获取第一基板图像，对成为过第一基板图像的摄像对象且在由一个处理装置处理后由与这一个处理装置不同的处理装置进一步处理过的基板的表面进行摄像来获取第二基板图像，接着，基于第一基板图像和第二基板图像进行缺陷检查，根据从第二基板图像被检测出的缺陷是否从第一基板图像也被检测到来确定获取到第一基板图像之后且获取第二基板图像之前的处理是否为该缺陷的原因。
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