公开(公告)号：CN112447484A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010905300.X

申请日：2020-09-01

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 四本松康太 ,  石桥淳治 ,  佐佐木淳一 ,  花冈秀敏

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01L21/3065

摘要： 一种等离子体处理装置，其用于对在基板的边缘区域产生的倾斜形状的随时间的变化进行抑制。该等离子体处理装置包括：腔室；下部电极，用于在所述腔室内放置基板；边缘环，布置于所述下部电极的周围；部件，布置于在所述腔室内与所述下部电极相对的上部电极的周围；气体供给部，向所述部件与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体；以及高频供电部，向所述下部电极或所述上部电极施加用于生成所述处理气体的等离子体的高频电力，其中，所述部件具有内侧部件、以及位于所述内侧部件的外侧的外侧部件，所述外侧部件在径向上相对于所述边缘环位于外侧，所述外侧部件的至少一部分能够根据所述边缘环的消耗而在上下方向上移动。

公开(公告)号：CN117174563A

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202310604937.9

申请日：2023-05-26

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 四本松康太 ,  田中康基 ,  酒井让 ,  舆水地塩

IPC分类号： H01J37/32

摘要： 提供一种能够抑制等离子体处理腔室内的压力变动的技术。本公开涉及的等离子体处理装置具备：腔室；向腔室内供给处理气体的气体供给部；在腔室内生成由处理气体生成等离子体的源射频信号的电源；事先存储作为源射频信号的参数的设定值的源设定值的存储部；与腔室连接的压力调节阀，构成为调节腔室的内部压力；计算压力调节阀的开度的开度计算部，开度基于源设定值计算；以及基于计算的开度控制压力调节阀的开度的开度控制部。还提供一种等离子体处理方法、压力阀控制装置、压力阀控制方法以及压力调节系统。

公开(公告)号：CN116344309A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211594618.6

申请日：2022-12-13

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 四本松康太 ,  荒卷昂 ,  李黎夫

IPC分类号： H01J37/32

摘要： 本发明提供控制等离子体处理的面内均匀性的等离子体处理装置和气体供给方法。本发明提供一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：等离子体处理室，其具有构成为能够支承基片的基片支承部；具有多个气体导入部的喷淋头，其中，上述多个气体导入部构成为能够分别向上述等离子体处理室内的各区域导入气体；气体供给部，其构成为能够向多个上述气体导入部供给气体；等离子体生成部，其构成为能够生成上述气体的等离子体；和控制部，其构成为能够至少控制上述气体供给部，上述气体供给部包括：气体单元，其构成为能够向多个上述气体导入部供给共用气体；和注入单元，其构成为能够向多个上述气体导入部中的所选择的上述气体导入部供给注入气体，上述控制部控制上述注入单元，以使得将2种以上的上述注入气体供给到2个不同的上述气体导入部。