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公开(公告)号：CN115775715A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211038728.4
申请日：2022-08-29
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明提供一种抑制喷淋头的多个气孔中的气体的解离的等离子体处理装置，其包括腔室、基片支承部、上部电极和至少一个电源。腔室在其内部提供处理空间。基片支承部设置于腔室内。上部电极构成从处理空间上方对处理空间导入气体的喷淋头。上部电极包括第一电极和第二电极。第一电极提供朝向处理空间开口的多个第一气孔。第二电极直接或间接地设置于第一电极上，提供与多个第一气孔分别连通的多个第二气孔。至少一个电源构成为能够将第二电极的电位设定为相对于第一电极电位更靠正侧的电位。
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公开(公告)号：CN112447484A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010905300.X
申请日：2020-09-01
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065
摘要： 一种等离子体处理装置，其用于对在基板的边缘区域产生的倾斜形状的随时间的变化进行抑制。该等离子体处理装置包括：腔室；下部电极，用于在所述腔室内放置基板；边缘环，布置于所述下部电极的周围；部件，布置于在所述腔室内与所述下部电极相对的上部电极的周围；气体供给部，向所述部件与所述下部电极之间的处理空间供给处理气体；以及高频供电部，向所述下部电极或所述上部电极施加用于生成所述处理气体的等离子体的高频电力，其中，所述部件具有内侧部件、以及位于所述内侧部件的外侧的外侧部件，所述外侧部件在径向上相对于所述边缘环位于外侧，所述外侧部件的至少一部分能够根据所述边缘环的消耗而在上下方向上移动。
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公开(公告)号：CN105990088B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201610168860.5
申请日：2016-03-23
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32174 , H01J37/32577
摘要： 本发明的电源系统、等离子体处理装置和电源控制方法能够抑制电子相对伴随向下部电极的高频电力的供给在被处理体上产生的等离子体鞘的弹回而导致的上部电极侧的放电。电源系统包括：对用于载置被处理体的下部电极供给等离子体生成用的高频电力的高频电源；直流电源，对与下部电极相对地配置的上部电极供给负的第一直流电压或绝对值比第一直流电压的绝对值大的负的第二直流电压；控制部，执行电源控制处理，交替地反复供给高频电力和停止供给，在供给高频电力期间中的、自高频电力的供给开始时起的第一期间停止供给第一直流电压和第二直流电压，并在该期间中的除第一期间外的第二期间供给第一直流电压，在停止高频电力的供给期间供给第二直流电压。
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公开(公告)号：CN105990088A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201610168860.5
申请日：2016-03-23
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32091 , H01J37/32146 , H01J37/32174 , H01J37/32577 , H01J37/32027 , H01J2237/334
摘要： 本发明的电源系统、等离子体处理装置和电源控制方法能够抑制电子相对伴随向下部电极的高频电力的供给在被处理体上产生的等离子体鞘的弹回而导致的上部电极侧的放电。电源系统包括：对用于载置被处理体的下部电极供给等离子体生成用的高频电力的高频电源；直流电源，对与下部电极相对地配置的上部电极供给负的第一直流电压或绝对值比第一直流电压的绝对值大的负的第二直流电压；控制部，执行电源控制处理，交替地反复供给高频电力和停止供给，在供给高频电力期间中的、自高频电力的供给开始时起的第一期间停止供给第一直流电压和第二直流电压，并在该期间中的除第一期间外的第二期间供给第一直流电压，在停止高频电力的供给期间供给第二直流电压。
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