基板处理系统及其控制方法

    公开(公告)号:CN1885166A

    公开(公告)日:2006-12-27

    申请号:CN200610093181.2

    申请日:2006-06-23

    CPC classification number: H01L21/67178 H01L21/67184 H01L21/6719

    Abstract: 本发明提供一种基板处理系统及其控制方法。该基板处理系统将各个使用处理液对基板进行处理的多个组件多段地叠层设置,具有向上述多个组件分配供给处理液的分配机构,上述分配机构具有:收容处理液的处理液供给源;通过对上述处理液供给源加压,压送处理液的加压装置;分别配置在上述多个组件的旁边,将利用上述加压装置从上述处理液供给源压送的处理液贮存在内部的泵;将上述处理液供给源和配置在上述叠层的多个组件的高度方向上的上述泵之间连接,使处理液流通的扬程部配管;和在与上述各泵对应的各组件中喷出处理液的喷嘴,上述各泵被配置成,使得从泵的送出口到与各泵对应的喷嘴的喷出口的配管距离全部相等。

    基板处理系统及其控制方法

    公开(公告)号:CN1885166B

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200610093181.2

    申请日:2006-06-23

    CPC classification number: H01L21/67178 H01L21/67184 H01L21/6719

    Abstract: 本发明提供一种基板处理系统及其控制方法。该基板处理系统将各个使用处理液对基板进行处理的多个组件多段地叠层设置,具有向上述多个组件分配供给处理液的分配机构,上述分配机构具有:收容处理液的处理液供给源;通过对上述处理液供给源加压,压送处理液的加压装置;分别配置在上述多个组件的旁边,将利用上述加压装置从上述处理液供给源压送的处理液贮存在内部的泵;将上述处理液供给源和配置在上述叠层的多个组件的高度方向上的上述泵之间连接,使处理液流通的扬程部配管;和在与上述各泵对应的各组件中喷出处理液的喷嘴,上述各泵被配置成,使得从泵的送出口到与各泵对应的喷嘴的喷出口的配管距离全部相等。

    处理液供给装置和处理液供给方法

    公开(公告)号:CN110416119A

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201910344158.3

    申请日:2019-04-26

    Abstract: 本发明提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置和处理液供给方法。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置,作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个,所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部,该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置,其中,所述送出部具有多个泵,所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液,并且送出补充来的处理液,所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。

    处理液供给装置
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209766372U

    公开(公告)日:2019-12-10

    申请号:CN201920585622.3

    申请日:2019-04-26

    Abstract: 本实用新型提供一种使质量管理变得容易的处理液供给装置。一种向用于对晶圆涂布抗蚀液来进行规定的处理的抗蚀剂涂布装置供给抗蚀液的抗蚀液供给装置,作为抗蚀液的供给目的地的抗蚀剂涂布装置为多个,所述处理液供给装置具有由多个所述液处理装置共享的送出部,该送出部将用于贮存所述处理液的处理液供给源中所贮存的所述处理液送出至多个所述液处理装置的各个液处理装置,其中,所述送出部具有多个泵,所述多个泵吸引所述处理液来补充所述处理液,并且送出补充来的处理液,所述送出部始终处于能够从所述多个泵中的至少一个向多个所述液处理装置送出所述处理液的状态。根据本实用新型,能够容易地进行质量管理。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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