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公开(公告)号：CN101794720B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201010003426.4
申请日：2010-01-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供使在基板输送路径中向一个方向输送的基板暂时退避的基板缓冲单元，其能够高效率地进行缓冲空间的空气清洗，且能降低成本。该基板缓冲单元包括：箱状的架部(2)，设置在基板输送路径上，具有载置基板的载置部(6)，且能够将基板移动到脱离上述基板输送路径的规定位置；清洁空气供给部件(4)，设置在上述箱状的架部的上表面或者侧面，用于供给净化后的清洁空气；通风路径(5)，将上述清洁空气供给部件和上述架部的一侧面连接起来；自上述清洁空气供给部件供给来的清洁空气被从形成于上述箱状的架部的一侧面的空气导入口(7)供给到上述载置部，并被从设置在上述箱状的架部的与上述空气导入口相对侧的侧面的空气导出口(8)排出。
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公开(公告)号：CN1407378A
公开(公告)日：2003-04-02
申请号：CN02142802.6
申请日：2002-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G02F1/1333 , G03F7/16 , H01L21/027 , D05B1/00
Abstract: 提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)24具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构14；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G的喷嘴移动机构60a。通过边驱动喷嘴移动机构60a使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴51b向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理。
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公开(公告)号：CN116922954A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310399543.4
申请日：2023-04-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供抑制由干燥导致的释放不良的液滴释放装置、液滴释放方法和存储介质。液滴释放装置具有工作台、释放头、移动部和冲流部。释放头具有释放功能液的多个喷嘴，从喷嘴对位于工作台之上的基片释放功能液。移动部使位于工作台之上的基片与释放头相对移动。冲流部在利用移动部进行的相对移动中在释放头位于基片的上方之前接收从释放头释放的功能液。冲流部具有：接收功能液的垫状物；和将由垫状物接收到的功能液排出的排液管。
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公开(公告)号：CN108568383B
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN201810181802.5
申请日：2018-03-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质。在向工件排出功能液的液滴来进行描绘的液滴排出装置中，提高从液滴排出头向工件的液滴的着液精度。控制部(150)在使由液滴排出头(34)排出的液滴着液在形成于基准工件(Wf)的上表面的基准标记后，由第二拍摄部(42)获取基准工件(W)的拍摄图像，根据拍摄图像，检测基准标记的位置与液滴的着液位置的位置偏离量，根据位置偏离量，计算工作台(20)与液滴排出头(34)的相对位置的修正量。
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公开(公告)号：CN112566730A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201980053167.5
申请日：2019-08-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明的实施方式的绘制装置(1)包括多个支承部(51)、移动部(53)、调节部(30、31)和绘制部(32)。多个支承部(51)从下方支承工件。移动部(53)使支承部(51)沿水平方向移动。调节部(30、31)对支承于支承部(51)的工件从下方吹去空气来调节工件的浮起高度。绘制部(32)对工件进行绘制，该工件由调节部(30、31)调节了浮起高度并以支承于支承部(51)的方式移动。调节部(21、30、31、40)包括：在支承部(51)的移动方向上设置在比绘制部(32)靠上游侧处的第1调节部(30)；和设置在绘制部(32)的下方的、比第1调节部(30)高精度地调节工件的浮起高度的第2调节部(31)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1252514C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN02126281.0
申请日：2002-06-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种显象处理装置，它具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在输送通路上输送该基片而驱动输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在输送通路上的基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使处理液供给机构的至少一个喷嘴沿输送通路移动的喷嘴扫描机构；其中，当在输送通路上输送基片时，一边通过喷嘴扫描机构使至少一个所述喷嘴在与基片输送方向相反的方向上移动，一边将处理液供给所述被处理面。
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公开(公告)号：CN108569041B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201810185855.4
申请日：2018-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B41J3/407 , B41J3/44 , B41J29/393
Abstract: 本发明提供一种液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质，在对工件排出功能液的液滴进行描绘的液滴排出装置中，适当修正工件台相对于液滴排出头的相对位置。液滴排出装置包括：载置工件(W)的工件台(20)；向载置在工件台(20)的工件(W)排出液滴的液滴排出头(34)；使工件台(20)在主扫描方向移动的Y轴线性电动机(13)；控制部(150)，一边使工件台(20)沿扫描线移动一边检测载置在工件台(20)的工件W的位置，使用该检测结果生成表示Y轴线性电动机(13)的位置与工件台(20)的位置的修正量的相关关系的修正表。上述扫描线是以在主扫描方向上延伸且在副扫描方向上排列多个的方式设置的。
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公开(公告)号：CN108568382A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810181769.6
申请日：2018-03-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B05C5/0208 , B05C11/00 , B05C13/00 , B05D1/26 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681 , B05C5/027 , B05C5/0291 , B05C11/1039 , B05C13/02
Abstract: 本发明提供液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质。在向工件排出功能液的液滴来进行描绘的液滴排出装置中，使从液滴排出头向工件去的液滴的着液精度提高。液滴排出装置(1)包括：载置工件(W)的工作台(40)；向载置于工作台(40)的工件(W)排出液滴的液滴排出头(24)；使工作台(40)在主扫描方向Y轴方向上移动的Y轴直线电动机(13)；检测托架标记(25)的位置的位置检测器(72)；和控制部(150)，其计算由位置检测器(7)检测的检测位置和托架标记(25)的基准位置的在主扫描方向的位置偏离量，基于该位置偏离量，对液滴排出头(24)的液滴的排出时机进行修正。
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公开(公告)号：CN1391128A
公开(公告)日：2003-01-15
申请号：CN02126281.0
申请日：2002-06-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 在水平方向敷设的输送通路上，一边输送被处理基片，一边快速高效地进行显象处理。在显象单元(DEV)94中，排成一列地连续设置多个形成沿加工作业线B的水平方向延伸的输送通路108的模块M1～M8。在模块M1～M8中，最上游的模块M1构成基片输入部110，后面的连续四个模块M2、M3、M4、M5构成显象部112，模块M6构成冲洗部114，模块M7构成干燥部116，最后的模块M8构成基片输出部118。在预淋湿部124、显象液供给部126和冲洗部114上分别设置使喷嘴喷口面对输送通路108并可沿输送通路108双向移动的预淋湿液供给喷嘴PN、显象液供给喷嘴DN及冲洗液供给喷嘴RN。
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公开(公告)号：CN108372079B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201810100699.7
申请日：2018-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制质量测量器的破损的涂敷装置。在基片上描绘功能液的描绘图案的涂敷装置，其包括：保持上述基片的基片保持部；液滴排出部，其向保持于上述基片保持部的上述基片排出上述功能液的液滴；移动部，其使上述基片保持部与上述液滴排出部在主扫描方向和副扫描方向相对地移动，质量测量部，其包含接收由上述液滴排出部排出的液滴的杯和对存积在上述杯的内部的上述功能液的质量进行测量的质量测量器；和排液部，其将存积在上述杯的内部的上述功能液从上述杯排出。
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