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公开(公告)号：CN109698142A
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201811214795.0
申请日：2018-10-18
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，其能够缩短蚀刻处理时间。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、混合部以及供给线路。基板处理槽用于利用蚀刻液进行蚀刻处理。混合部将新液与含硅化合物或含有含硅化合物的液体混合。供给线路用于向基板处理槽供给通过混合部进行混合所得的混合液。
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公开(公告)号：CN102543710A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110458178.7
申请日：2011-12-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67017 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , Y10T137/87169
摘要： 本发明提供一种易于进行装置的组装、维护的液处理装置。在液处理装置(1)中，液处理单元(2)用于利用处理液对基板(W)进行液处理，供液用配管(561、562)的一端侧与液处理单元连接，另一端侧被引绕到液处理单元的下侧，用于将处理液供给到该液处理单元中。壳体基体(46)中安装有介于该供液用配管之间的流通控制设备组(402)，在壳体基体内具有均以面朝位于液处理装置的侧方的维护区域的方式设置的上游侧连接部(403)和下游侧连接部(406)，该上游侧连接部相对于比流通控制设备组靠上游侧的供液用配管(561)装卸，该下游侧连接部相对于比流通控制设备组靠下游侧的供液用配管(562)装卸。
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公开(公告)号：CN102569132B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201110458199.9
申请日：2011-12-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6719 , H01L21/67742
摘要： 本发明提供一种易于进行装置的组装、维护的液处理装置。用于对基板(W)进行液处理的多个液处理单元(2)彼此横向排列配置，用于将液处理单元(2)内的气氛气体排出的排气管(3)配置为在该多个液处理单元(2)的下侧并沿着由该液处理单元排列而成的列延伸，供液用的流通控制设备组(4)设在上述排气管(3)的下侧。供液用主配管(5)及排液用主配管(6)设为在该流通控制设备组(4)的下侧并沿着由多个液处理单元排列而成的列延伸，多条供液用分支管自上述供液用主配管(5)分支出来，经由上述供液用的流通控制设备(402)与各液处理单元连接，多条排液用分支管自上述排液用主配管(6)分支出来并与各液处理单元连接。
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公开(公告)号：CN109698142B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201811214795.0
申请日：2018-10-18
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质，其能够缩短蚀刻处理时间。实施方式所涉及的基板处理装置具备基板处理槽、混合部以及供给线路。基板处理槽用于利用蚀刻液进行蚀刻处理。混合部将新液与含硅化合物或含有含硅化合物的液体混合。供给线路用于向基板处理槽供给通过混合部进行混合所得的混合液。
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公开(公告)号：CN111312619A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/311
摘要： 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN102543710B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201110458178.7
申请日：2011-12-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67017 , H01L21/6708 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , Y10T137/87169
摘要： 本发明提供一种易于进行装置的组装、维护的液处理装置。在液处理装置(1)中，液处理单元(2)用于利用处理液对基板(W)进行液处理，供液用配管(561、562)的一端侧与液处理单元连接，另一端侧被引绕到液处理单元的下侧，用于将处理液供给到该液处理单元中。壳体基体(46)中安装有介于该供液用配管之间的流通控制设备组(402)，在壳体基体内具有均以面朝位于液处理装置的侧方的维护区域的方式设置的上游侧连接部(403)和下游侧连接部(406)，该上游侧连接部相对于比流通控制设备组靠上游侧的供液用配管(561)装卸，该下游侧连接部相对于比流通控制设备组靠下游侧的供液用配管(562)装卸。
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公开(公告)号：CN111312619B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201911273652.1
申请日：2019-12-12
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/311
摘要： 本发明提供基板处理装置和处理液浓缩方法。能够高效地使成为磷酸处理液的原料的磷酸水溶液浓缩成期望的浓度。本公开的一技术方案的基板处理装置包括：处理部，其利用处理液处理基板；以及处理液生成部，其生成向处理部供给的处理液。处理液生成部具有：储存部、循环管线、加热部以及喷嘴。储存部储存处理液。循环管线使储存于储存部的处理液循环。加热部加热处理液。喷嘴设于循环管线的下游侧，具有自储存于储存部的处理液的液面上方喷出由加热部加热了的处理液的喷出口。
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公开(公告)号：CN108695201B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201810267182.7
申请日：2018-03-28
申请人： 东京毅力科创株式会社
摘要： 提供一种称量装置及方法、基板液处理装置及方法和存储介质。本发明提供一种高精度地定量供给要用于基板液处理装置中的处理液的基板液处理装置(A1)，所述基板液处理装置(A1)具备：贮存管(61)，其贮存处理液；导入配管(62)，其向贮存管(61)导入处理液；送出配管(63)，其从贮存管(61)送出处理液；以及气体供给部(65)，其通过向贮存于贮存管(61)的处理液的表面吹扫气体来进行处理液的刮除。
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公开(公告)号：CN108695201A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810267182.7
申请日：2018-03-28
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： H01L21/67242 , G01F11/00 , G01F11/284 , G01G5/00 , G01N5/00 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67057 , H01L21/67075 , H01L21/67086 , H01L21/67173 , H01L21/67207 , H01L21/67253 , H01L21/67718 , G01G17/04
摘要： 提供一种称量装置及方法、基板液处理装置及方法和存储介质。本发明提供一种高精度地定量供给要用于基板液处理装置中的处理液的基板液处理装置(A1)，所述基板液处理装置(A1)具备：贮存管(61)，其贮存处理液；导入配管(62)，其向贮存管(61)导入处理液；送出配管(63)，其从贮存管(61)送出处理液；以及气体供给部(65)，其通过向贮存于贮存管(61)的处理液的表面吹扫气体来进行处理液的刮除。
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公开(公告)号：CN102569132A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110458199.9
申请日：2011-12-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67178 , H01L21/67051 , H01L21/6708 , H01L21/6719 , H01L21/67742
摘要： 本发明提供一种易于进行装置的组装、维护的液处理装置。用于对基板(W)进行液处理的多个液处理单元(2)彼此横向排列配置，用于将液处理单元(2)内的气氛气体排出的排气管(3)配置为在该多个液处理单元(2)的下侧并沿着由该液处理单元排列而成的列延伸，供液用的流通控制设备组(4)设在上述排气管(3)的下侧。供液用主配管(5)及排液用主配管(6)设为在该流通控制设备组(4)的下侧并沿着由多个液处理单元排列而成的列延伸，多条供液用分支管自上述供液用主配管(5)分支出来，经由上述供液用的流通控制设备(402)与各液处理单元连接，多条排液用分支管自上述排液用主配管(6)分支出来并与各液处理单元连接。
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