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公开(公告)号：CN111106036A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911013080.3
申请日：2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻机，其具有被保持在极低温的冷头部；冷冻传导体，其以与冷头部接触了的状态固定配置，与载置台隔着间隙地设置到载置台的背面侧；绝热构造部，其以覆盖至少冷头部和冷冻传导体的与冷头部之间的连接部的方式设置，具有真空绝热构造；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向所述载置台传导；以及载置台支承部，其被驱动机构驱动而旋转，将所述载置台支承成能够旋转。
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公开(公告)号：CN111101109A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911012343.9
申请日：2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻传导体，其以与载置台隔着间隙的方式固定配置于载置台的背面侧，被冷冻机冷却成极低温；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向载置台传导；载置台支承部，其将载置台支承成能够旋转，呈覆盖冷冻传导体的上部的圆筒状，并且具有真空绝热构造；以及旋转部，其支承载置台支承部，在被磁性流体密封着的状态下被驱动机构驱动而旋转。
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公开(公告)号：CN110643956A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201910547442.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
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公开(公告)号：CN114730727A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080080931.0
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供一种输送基板的基板输送装置。本公开的一技术方案的基板输送装置包括：平面马达，其设于输送室，并具有排列着的线圈；输送单元，其在所述平面马达上移动；以及控制部，其控制所述线圈的通电，所述输送单元包括：两个基座，其具有排列着的磁体，并在所述平面马达上移动；基板支承构件，其用于支承基板；以及连杆机构，其将所述基板支承构件和两个所述基座连结。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106976051A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201611095507.5
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理装置，抑制多个升降销相对于处理装置的载置台的相对移动所引起的颗粒的产生，且提高被加工物向载置台上的搬送精度。一实施方式的处理装置中，在处理容器内设置有载置台。在载置台形成有多个升降销用的多个贯通孔。多个升降销经由支承体被花键轴支承。花键轴由花键轴承可上下移动地支承。多个升降销被弹簧部件经由花键轴向上方施力。花键轴、花键轴承和弹簧部件设置在从处理容器内的可减压的空间分离了的处理容器的外部的空间。
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公开(公告)号：CN110783242B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN201910675192.9
申请日：2019-07-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供载置台装置、处理装置和载置台装置的操作方法，相比于现有技术能够抑制由剩余电荷导致的基片的偏移和破损。上述载置台装置包括：静电吸盘，其正面形成有能够与基片的背面电接触的导电膜；迂回至上述静电吸盘的背面的导电部件，该导电部件与上述导电膜电连接；和移动部件，其经由连接部件与上述导电部件电连接，并能够在与接地电位连接的位置和不与接地电位连接的位置之间移动。
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公开(公告)号：CN113375567A
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN202110224635.X
申请日：2021-03-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以in‑situ的方式测量成膜后的非常薄的膜的膜厚的膜厚测量装置、膜厚测量方法、成膜系统和成膜方法。膜厚测量装置是在成膜系统中以in‑situ的方式测量形成在基片上的膜的膜厚的膜厚测量装置。该膜厚测量装置包括：能够载置形成有膜的基片的载置台；测量光射出/检测单元，其具有向载置台上的基片射出膜厚测量用的光的光射出部，和接收光在基片反射后的反射光的受光传感器；使光在基片上的照射点移动的移动机构；测量受光传感器与基片上的照射点之间的距离的测距仪；和调节受光传感器与基片上的照射点之间的距离的距离调节机构。
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公开(公告)号：CN114731104B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202080080938.2
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 提供一种输送基板的基板输送装置。基板输送装置包括：第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。
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公开(公告)号：CN114731104A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080080938.2
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H02K41/03
Abstract: 提供一种输送基板的基板输送装置。基板输送装置包括：第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。
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