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公开(公告)号：CN1795289B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200480014788.6
申请日：2004-03-23
申请人： 东洋制罐株式会社
摘要： 蒸镀膜的形成方法，该方法是通过将待处理的基材保持在等离子处理室内，向该处理室内供给有机硅化合物和氧化性气体以进行化学等离子处理来在基材表面上形成由硅氧化物构成的蒸镀膜，在该方法中，通过将等离子处理室内的有机硅化合物气体的供给量维持恒定，并在制备蒸镀膜的制膜过程中使氧化性气体的供给量发生变化，即可获得密合性、柔软性、挠性、氧隔离性和水分隔离性均优良的化学蒸镀膜。
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公开(公告)号：CN101460079B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200680054848.6
申请日：2006-06-26
申请人： 东洋制罐株式会社
CPC分类号： A47J36/02 , B65D81/262 , B65D81/3407
摘要： 本发明提供一种电磁炉用容器，所述电磁炉用容器可以对应于各个电磁炉厂家的不同锅具检测的频率等进行加热，能适当且容易地设定发热特征，并且在流通性、使用形态、废弃性、调理的轻便度方面优良，适用于烘烤食品、方便食品。一种电磁炉用容器，具有包含非导电性材料的容器主体，和在容器底部所具有的导电层，并且将相对于上述导电层的加热线圈的锅具检测频率数的高频电阻分变化率(R-R0)/R0设为5.3以上，将感应系数变化率(L-L0)/L0设为-0.17以下，这里，R表示基于加热线圈的上述高频电阻分(Ω)，R0表示基于无负荷时加热线圈的上述高频率电阻分(Ω)，L表示基于加热线圈的上述感应系数(μH)，L0表示基于无负荷时加热线圈的感应系数(μH)。
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公开(公告)号：CN1759204A
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN200480006689.3
申请日：2004-03-11
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511 , B65D1/00 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
摘要： 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置和气体供给构件。所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件(unit)，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置形成于等离子体处理室的内部的电场强度分布中电场弱的规定位置。
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公开(公告)号：CN101435075B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200810185927.1
申请日：2004-03-11
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511 , H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
摘要： 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置和气体供给构件。所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件(unit)，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置形成于等离子体处理室的内部的电场强度分布中电场弱的规定位置。
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公开(公告)号：CN100557079C
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200480012989.2
申请日：2004-03-05
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/505
CPC分类号： H01J37/32192 , C23C16/045 , C23C16/463 , C23C16/511 , H01J37/32082 , H01J37/3244
摘要： 本发明的塑料容器的化学等离子体处理方法，其特征在于向等离子体处理室内供给等离子体处理用气体及微波等的等离子体化用的能量使之产生辉光放电，在塑料容器上形成化学蒸镀膜时，对该塑料容器进行冷却。采用这种方法，塑料容器的变形得到有效地抑制，可长期且连续地在塑料容器内表面上形成化学蒸镀膜，可以显著地提高生产效率。
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公开(公告)号：CN100453695C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200480006689.3
申请日：2004-03-11
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511 , B65D1/00 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/045 , C23C16/45568 , C23C16/45578 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05H1/46 , H05H2001/463
摘要： 本发明提供能够在处理基体上形成均匀的薄膜的微波等离子体处理装置；所述微波等离子体处理装置，具有：将作为处理对象的基体固定在等离子体处理室内的中心轴上的固定构件，使基体的内部及外部减压的抽气构件，处于基体的内部、形成等离子体处理室与半同轴圆筒共振系统的金属制的处理用气体供给构件，以及将微波引入等离子体处理室进行处理的微波引入构件；其中，在固定构件的支持基体的部分的规定位置上设置微波密封构件，同时将微波引入构件的连接位置设定在，形成于等离子体处理室内部的电场强度分布中的、电场强度分布的波节位置。
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公开(公告)号：CN101189360B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200680019913.1
申请日：2006-04-03
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511
CPC分类号： C23C16/545 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3277
摘要： 本发明的蒸镀膜形成方法的特征在于，在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置(10)，使塑料薄膜基材(13)以面对该表面波发生装置的方式连续地移动到该真空区域内，并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内，借助来自该表面波发生装置(10)的微波的表面波来执行等离子体反应，从而在上述薄膜基材(13)表面上连续地形成蒸镀膜。根据该方法，能够通过微波的表面波等离子体，在薄膜基材表面上、特别是长条薄膜的表面上连续地形成蒸镀膜。
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公开(公告)号：CN100447297C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200480010016.5
申请日：2004-04-12
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511 , B01J19/08 , B65D23/02 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32284 , C23C16/045 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H05B6/80
摘要： 本发明提供一种能够在处理对象的表面形成均匀的薄膜层，而且能够在短时间内进行处理的微波等离子体处理方法。所述方法是通过将微波引入等离子体处理室(1)，使处理用的气体等离子体化，在配置于所述等离子体处理室(1)内的具有瓶子形状、容器形状或管状形状的基体(13)上形成薄膜层的微波等离子体处理方法，该方法将所述具有瓶子形状、容器形状或管状形状的基体(13)固定于与所述等离子体处理室(1)的中心轴相同的轴上，所述等离子体处理室内的微波的驻波模式在从所述具有瓶子形状、容器形状或管状形状的基体的开口部(131)到主体部(133)为止采用TE模式或TEM模式，所述具有瓶子形状、容器形状或管状形状的基体的底部(132)采用TE模式与TM模式共存的模式。
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公开(公告)号：CN101189360A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200680019913.1
申请日：2006-04-03
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/511
CPC分类号： C23C16/545 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3277
摘要： 本发明的蒸镀膜形成方法的特征在于，在真空区域内配置利用微波的表面波发生装置(10)，使塑料薄膜基材(13)以面对该表面波发生装置的方式连续地移动到该真空区域内，并且将至少含有有机金属化合物的反应气体连续地供给到该真空区域内，借助来自该表面波发生装置(10)的微波的表面波来执行等离子体反应，从而在上述薄膜基材(13)表面上连续地形成蒸镀膜。根据该方法，能够通过微波的表面波等离子体，在薄膜基材表面上、特别是长条薄膜的表面上连续地形成蒸镀膜。
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公开(公告)号：CN1788105A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480012989.2
申请日：2004-03-05
申请人： 东洋制罐株式会社
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/505
CPC分类号： H01J37/32192 , C23C16/045 , C23C16/463 , C23C16/511 , H01J37/32082 , H01J37/3244
摘要： 本发明的塑料容器的化学等离子体处理方法，其特征在于向等离子体处理室内供给等离子体处理用气体及微波等的等离子体化用的能量使之产生辉光放电，在塑料容器上形成化学蒸镀膜时，对该塑料容器进行冷却。采用这种方法，塑料容器的变形得到有效地抑制，可长期且连续地在塑料容器内表面上形成化学蒸镀膜，可以显著地提高生产效率。
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