公开(公告)号：CN1296773C

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN03110712.5

申请日：2003-03-14

申请人： 东洋合成工业株式会社

发明人： 饭田弘忠 ,  诹访美晴 ,  萩原勇一 ,  多田胜美 ,  香取末广 ,  宫崎常昭

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C309/76 ,  G03F7/022

摘要： 本发明提供了一种1，2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂，其可用作光致抗蚀剂中的光敏剂，所述光致抗蚀剂用于生产半导体集成电路、液晶显示器、EL显示器等，本发明还提供了制备该光敏剂的方法和含有该光敏剂的光致抗蚀剂组合物。1，2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂是在中和剂存在下，通过多元酚与1，2-萘醌-2-二叠氮磺酰氯反应制得，其中，多元酚通过间苯二酚和至少一种C3-C10醛缩合反应制得，多元酚含有下式(I)化合物作为主要组分，并含有10%或更低量的另一些组分，这些组分用GPC测得其保留时间低于式(I)化合物的保留时间，式(I)中R1、R2、R3和R4各自表示C2-C9烷基。

公开(公告)号：CN1445607A

公开(公告)日：2003-10-01

申请号：CN03110712.5

申请日：2003-03-14

申请人： 东洋合成工业株式会社

发明人： 饭田弘忠 ,  诹访美晴 ,  萩原勇一 ,  多田胜美 ,  香取末广 ,  宫崎常昭

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C309/76 ,  G03F7/022

摘要： 本发明提供了一种1，2－萘醌－2－二叠氮磺酸酯光敏剂，其可用作光致抗蚀剂中的光敏剂，所述光致抗蚀剂用于生产半导体集成电路、液晶显示器、EL显示器等，本发明还提供了制备该光敏剂的方法和含有该光敏剂的光致抗蚀剂组合物。1，2－萘醌－2－二叠氮磺酸酯光敏剂是在中和剂存在下，通过多元酚与1，2－萘醌－2－二叠氮磺酰氯反应制得，其中，多元酚通过间苯二酚和至少一种C3－C10醛缩合反应制得，多元酚含有上式(I)化合物作为主要组分，并含有10％或更低量的另一些组分，这些组分用GPC测得其保留时间低于式(I)化合物的保留时间，式(I)中R1、R2、R3和R4各自表示C2－C9烷基。