一种密封膜施工结构
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219951886U

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN202321200443.6

    申请日:2023-05-18

    IPC分类号: E02D3/00 E02D3/10

    摘要: 本实用新型提供了一种密封膜施工结构,密封膜施工结构对地基处理的加固区密封,密封膜施工结构包括:铺设于加固区的第一密封膜和第二密封膜、包围加固区施工的密封墙、包围加固区开挖的沟槽;沟槽位于密封墙上方,密封墙的墙脚超出加固区的真空预压区并向下持续延伸,密封墙的墙顶低于真空预压区;第一密封膜和第二密封膜均沿沟槽的槽壁延伸至沟槽的槽底,回填于沟槽内的粘土层压紧第一密封膜和第二密封膜。本实用新型采用至少两层密封膜对地基处理的加固区密封,并且在加固区周边开设沟槽并回填粘土密封加固区,有效防止密封膜下方加固区漏气。