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公开(公告)号：CN118620526A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310226044.5
申请日：2023-03-10
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 本发明涉及半导体材料抛光液技术领域，具体为一种宽禁带半导体加工用微纳米气泡抛光液。所述的原位形成微纳米气泡的抛光液，是利用高速研磨球在配置好抛光液中相互撞击产生微小气核制备出含大量的微纳米气泡新型的抛光液。包括以下步骤：(1)选择合适的氧化剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)将配置好的抛光液与相应的研磨球放入球磨机中进行球磨。与传统CMP抛光液相比，该方法通过高速研磨球间的撞击力，一方面可降低磨料的粒径并增强其分散性，另一方面可原位产生微纳米气泡增强抛光液的氧化性，提高半导体晶圆表面材料的去除率和表面质量，实现材料高效、超精密、低损伤的抛光。
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公开(公告)号：CN116749074A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310766850.1
申请日：2023-06-27
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种改善透光晶圆厚度均匀性的方法及装置，其方法包括以下步骤：步骤一，进行CMP预抛光实验，测得晶圆材料去除率与各区域LED点光源功率及各喷头流量的变化关系；步骤二，采用测厚仪对晶圆膜厚进行多点在线检测；步骤三，根据膜厚监测的结果，对修正区抛光液的分布及LED点光源的功率进行控制，进而改变晶圆局部区域的材料去除率；步骤四，重复步骤二和步骤三，采用PID控制系统进行控制，直至将晶圆厚度均匀性控制在技术要求范围内。根据膜厚的检测结果，可通过调控较厚区域附近的LED点光源的光照强度和温升来提升晶圆CMP抛光的材料去除率，进而改善晶圆膜厚的均匀性。
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公开(公告)号：CN118616214A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310226890.7
申请日：2023-03-10
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明公开一种微纳米粒径颗粒筛分装置及方法，它包括反应舱、底座、循环泵、阳极板、阴极板、微纳米颗粒富集板，在反应舱的上部的左侧设有进液口，右侧设有出液口，所述循环泵的出液端通过管道与进液口连通，所述循环泵的进液端通过管道与出液口连通；所述的反应舱的右侧设有舱门；所述的阳极板设在反应舱的外顶部，所述阴极板设在反应舱的外底部，所述的微纳米颗粒富集板设在反应舱内底部；在微纳米颗粒中加入酸洗溶液进行清洗，加入反应舱，使用循环泵实现反应液的循环；调节阴极板阳极板之间的电压数值，通过静电引力在微纳米颗粒富集板上获得大尺寸的微纳米颗粒，通过不断调整电压数值，实现微纳米颗粒的分级。
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公开(公告)号：CN116751517A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310701070.9
申请日：2023-06-14
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明公开一种微纳气泡辅助光催化抛光单晶金刚石双组分抛光剂及其制备方法，它包括A组分和B组分，所述A组分包括催化剂、氧化剂1、pH调节剂、微纳气泡水，所述B组分为磨料、微纳气泡水、氧化剂2。使用时将A组分与B组分以一定速率同步滴加于工件表面，在紫外光照的条件下实现材料的高效去除。本发明的抛光剂成分简单、组分无毒、对环境友好。采用双组分的形式，有效的避免了抛光剂可能失效的问题，保留了抛光剂强氧化性能，使其在单晶金刚石抛光过程中更好的发挥作用。
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公开(公告)号：CN116394075A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310250087.7
申请日：2023-03-13
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC分类号： B24B1/00 , B24B29/00 , B24B27/033 , B24B57/02 , B24B55/00
摘要： 本发明公开一种金刚石光催化高效抛磨装置，它包括腔体，所述的腔体内部为上粗下细的漏斗状，在底部设有喷嘴，在腔体的上部侧壁上连通有输液管，输液管上安装有压力表，所述腔体的顶部安装有光源，在腔体的正下方设有用于放置金刚石样品的载物台。本发明将抛光液光催化过程与水射流结合起来，实现了光催化过程与水射流的同步发生，在抛光液氧化金刚石表面碳原子的同时去除金刚石表面材料，提高抛光效率，同时，方法简单、设备简单易操作。
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公开(公告)号：CN116273346A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310255199.1
申请日：2023-03-10
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明公开高压球磨制备微纳米气泡溶液的方法与装置。它包括球磨罐体、滚筒、超声振子，所述的滚筒通过转轴安装在球磨罐体内，滚筒为镂空设置，在球磨罐体的上部开有进气口、研磨球加料口、溶液加料口，在球磨罐体的下部开有溶液出料口。本发明利用高研磨球在溶液中相互撞击产生微小气泡核制备出含大量微纳米气泡溶液。其气泡粒径小分布相对集中、气泡浓度高、微纳米气泡稳定性好、溶液颗粒分散性好以及可制备出不同种类的微纳米气泡等优点。
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公开(公告)号：CN117444716A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311019977.3
申请日：2023-08-14
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC分类号： B24B1/00 , B24B19/22 , G06N3/0464 , G06N3/08
摘要： 本发明旨在提供一种单晶金刚石抛磨方向自动寻优系统，它通过对不同晶面的加工过程确定和收集相应的抛磨数据，在不断的抛磨过程中完成数据库的数据搭建，进而在金刚石加工中确定最佳的抛磨方向和加工参数，通过应用自动化控制技术，实现抛磨方向的智能优化，从而提高抛磨质量、稳定性和生产效率。
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公开(公告)号：CN115139215A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202210957724.X
申请日：2022-08-10
申请人： 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本发明涉及抛光领域，特别涉及一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法，所述一种微纳气泡光催化增强化学机械抛光方法含两种辅助增强方式：微纳气泡辅助增强和光催化辅助增强。包括以下步骤：(1)选择合适的光催化剂、电子捕获剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)在抛光液中，引入微纳气泡，制备微纳气泡光催化抛光液，(3)在紫外灯的照射下，利用化学和机械协同作用对待抛光材料进行抛光和表面平坦化。和化学机械抛光相比，该方法采用微纳气泡和光催化双重增强方式，可以提高磨料的分散性，增强抛光液的氧化性，提高晶片表面材料的去除率、表面质量和抛光效率，实现材料高效、超精密、低损伤的抛光。
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公开(公告)号：CN220774288U
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202322183095.2
申请日：2023-08-15
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种化学机械抛光氧化还原电位的在线监测装置，包括电极检测模块、离化模块、信号转换模块和信号输出模块，所述电极检测模块包括测量电极、参比电极和测温热电偶，所述测量电极与所述参比电极电信连接，所述离化模块和所述电极检测模块电信连接，所述测量电极采用铂电极，所述参比电极采用饱和甘贡电极，所述铂电极和所述测温热电偶安装在抛光盘的凹槽处，所述饱和甘贡电极安装在承载盘沟槽处；在抛光过程中，可实现抛光液氧化性能的在线检测，可有效的监控化学机械抛光的氧化性能，由于抛光液的快速流动，可在测量电极表面快速建立平衡电位，氧化还原电位响应速度快。
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公开(公告)号：CN118832604A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202410886210.9
申请日：2024-07-03
申请人： 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 深圳市览众未来科技有限公司
IPC分类号： B25J11/00 , B25J9/16 , G01S13/88 , G01S13/89 , G01S13/06 , G01S7/02 , G01N3/08 , G01N3/06 , G01N3/02
摘要： 本发明涉及机械臂控制技术领域，具体提出了一种冰裂缝探测机器人及探测方法，该装置包括：壳体、滑雪板、采集装置、第一机械臂、第二机械臂、压力机械臂、动力装置和控制器。其中，控制器固定设置在壳体内部，与采集装置、第一机械臂、第二机械臂、压力机械臂以及动力装置分别电连接，用于控制机器人运行。本发明集成了图像采集、雷达探测、吹扫和形变力采集，实现了实时采集冰缝图像数据和回波幅度数据，并进行实时分析和判断，保证了探测数据的准确性，能够及时发现冰缝的存在并评估风险等级。
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