等离子体化学气相沉积系统及方法

    公开(公告)号:CN110894599B

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN201811069708.7

    申请日:2018-09-13

    Abstract: 本发明是关于一种等离子体化学气相沉积系统。该沉积系统包括等离子体沉积装置,该等离子体沉积装置包括等离子体炬和沉积室。该沉积系统还包括:尾气循环装置、新鲜气体供给装置和在线监控装置,该尾气循环装置一端连接于沉积室的排气口,另一端连接于等离子体炬的进气口;该新鲜气体供给装置,连接于等离子体炬的进气口;该在线监控装置用于实时检测气体组分、温度、沉积室压力及沉积基体温度。本发明还提出了一种等离子体化学气相沉积方法。本发明方法将等离子体化学气相沉积系统排放的气体经简单处理后进行气体循环使用,克服现有技术气体消耗较大的问题,大大降低气体成本,同时保证沉积系统的稳定性。

    超薄片固定装置及方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112548450A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011388324.9

    申请日:2020-12-01

    Abstract: 本发明涉及超薄片固定技术领域,尤其涉及一种超薄片固定装置及方法。该超薄片固定装置包括固定底座和定位基板,所述固定底座的上表面设有与所述定位基板的形状相适配的定位槽,所述定位基板安装于所述定位槽的内部;所述定位基板的上表面为设有用于固定超薄片的液膜。本发明结构简单,操作方便,能够依靠液膜的表面张力将超薄片固定在定位基板上,从而有效解决了超薄片在切割和镀膜过程中极易弯曲变形的问题,确保了超薄片在加工过程中的平面度和平整度。

    等离子体化学气相沉积系统及方法

    公开(公告)号:CN110894599A

    公开(公告)日:2020-03-20

    申请号:CN201811069708.7

    申请日:2018-09-13

    Abstract: 本发明是关于一种等离子体化学气相沉积系统。该沉积系统包括等离子体沉积装置,该等离子体沉积装置包括等离子体炬和沉积室。该沉积系统还包括:尾气循环装置、新鲜气体供给装置和在线监控装置,该尾气循环装置一端连接于沉积室的排气口,另一端连接于等离子体炬的进气口;该新鲜气体供给装置,连接于等离子体炬的进气口;该在线监控装置用于实时检测气体组分、温度、沉积室压力及沉积基体温度。本发明还提出了一种等离子体化学气相沉积方法。本发明方法将等离子体化学气相沉积系统排放的气体经简单处理后进行气体循环使用,克服现有技术气体消耗较大的问题,大大降低气体成本,同时保证沉积系统的稳定性。

    超薄石英玻璃片的制备方法

    公开(公告)号:CN110316970A

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201910468977.9

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明提出一种超薄石英玻璃片的制备方法。所述方法联合使用精密机械抛光和酸刻蚀的方法制备超薄石英玻璃片;其厚度≤100μm,厚度均匀性为-2μm~2μm,表面粗糙度Ra≤2nm;所述方法包括以下步骤:采用精密机械抛光将石英玻璃片研磨、抛光,得第一石英玻璃片;清洗;酸刻蚀,得超薄石英玻璃片;所述的酸刻蚀采用氢氟酸,其浓度为10~20mol/L,酸刻蚀的温度为30℃~40℃,酸刻蚀的速率≤1μm/min。所述方法联合使用精密机械抛光和氢氟酸刻蚀相结合的方法加工石英玻璃片,通过对各工序的工艺参数匹配协调,避免了石英玻璃薄片制备过程中碎裂,同时提高其厚度均匀性和表面粗糙度,从而更加适于实用。

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