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公开(公告)号：CN117069368A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202311051101.7
申请日：2023-08-21
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司 , 中建材光子科技有限公司 , 中国建材集团有限公司
IPC分类号： C03B23/053 , C03B19/02 , B28D1/14 , B24B1/00
摘要： 本发明是关于一种玻璃管及其制备方法和应用。所述玻璃管的制备方法包括以下步骤：1)对玻璃棒沿其轴线方向钻孔，得到玻璃管第一坯件；2)对所述玻璃管第一坯件的外表面进行铣磨，得到玻璃管第二坯件；3)将所述玻璃管第二坯件加热至预设温度，使所述玻璃管第二坯件在预设温度下绕其轴线旋转，保温，得到玻璃管第三坯件；4)使所述玻璃管第三坯件在绕其轴线旋转的条件下降温至200～300℃，再自然冷却至室温，得到玻璃管。本发明所要解决的技术问题是如何制备小内径、大壁厚的玻璃管，使得所述玻璃管的内径≤30mm、壁厚≥0.5mm时仍能具有较好的性能，其同心度≤0.01mm，壁厚偏差≤0.02mm，内表面粗糙度≤50nm，外表面粗糙度≤50nm。
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公开(公告)号：CN118880283A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410937356.1
申请日：2024-07-12
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司 , 中国建材集团有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/54
摘要： 本发明是关于一种托盘及其制备方法和应用。所述方法包括以下步骤：1)将空心柱体的上下两表面和侧边开通孔；2)将步骤1)得到的空心柱体的外缘设置密封圈；3)将与空心柱体形状对应的盘上开凹槽，之后将待镀膜产品放置在该凹槽中；4)将步骤2)得到的空心柱体和步骤3)得到的盘组装成托盘，并通过该空心柱体侧边的通孔将该托盘抽成真空状态，随后将该托盘置于ALD腔体中镀膜。所要解决的技术问题是通过在ALD炉内中采用内部真空的托盘来保护不需镀膜的面，以此实现单面镀膜。
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公开(公告)号：CN113219565B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110486197.4
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
摘要： 本发明是关于一种消杂光窗口元件及其制备方法和应用，所述消杂光窗口元件包括基底，所述基底具有接收入射光的正面以及相对的背面，所述基底的背面设有光栅片，且所述基底和光栅片的两侧边缘设有消光层。本发明所提供的消杂光窗口元件，其光栅片微纳结构层及膜层的合理设计能够使光学窗口元件透过率增强。
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公开(公告)号：CN113278950B
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202110486153.1
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/455 , C23C14/08 , C23C14/24 , C23C14/54 , C23C14/06 , C23C16/52 , G02B1/115
摘要： 本发明是关于一种渐变折射率减反薄膜及其制备方法和应用。该渐变折射率减反薄膜包括至少三组减反膜层；每组减反膜层包括一层折射率渐变层和一层折射率限制层；从渐变折射率减反薄膜的一面到另一面，减反膜层的折射率呈阶梯分布或渐变分布，折射率限制层和折射率渐变层交替层叠设置；在每组减反膜层中，折射率限制层的折射率小于折射率渐变层的折射率，折射率限制层的材质选自Al2O3、HfO2、BaF2、MgF2和SiO2中的至少一种；折射率渐变层的材质选自折射率可调的光学材料。本发明方法在制备渐变折射率减反膜的过程中，通过引入折射率限制层，可以调控每组减反膜层中折射率渐变层的厚度来精确控制其折射率。
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公开(公告)号：CN113278950A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110486153.1
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/455 , C23C14/08 , C23C14/24 , C23C14/54 , C23C14/06 , C23C16/52 , G02B1/115
摘要： 本发明是关于一种渐变折射率减反薄膜及其制备方法和应用。该渐变折射率减反薄膜包括至少三组减反膜层；每组减反膜层包括一层折射率渐变层和一层折射率限制层；从渐变折射率减反薄膜的一面到另一面，减反膜层的折射率呈阶梯分布或渐变分布，折射率限制层和折射率渐变层交替层叠设置；在每组减反膜层中，折射率限制层的折射率小于折射率渐变层的折射率，折射率限制层的材质选自Al2O3、HfO2、BaF2、MgF2和SiO2中的至少一种；折射率渐变层的材质选自折射率可调的光学材料。本发明方法在制备渐变折射率减反膜的过程中，通过引入折射率限制层，可以调控每组减反膜层中折射率渐变层的厚度来精确控制其折射率。
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公开(公告)号：CN113238309A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110484069.6
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明是关于一种光栅式近红外增透型光学元件及其制备方法和应用，所述光栅式近红外增透型光学元件包括基底，所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面，所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列，所述微结构周期阵列包括多数个相同的微结构单元。本发明所提供的光栅式近红外增透型光学元件，通过在其表面构建微纳结构阵列，通过改善表面折射率即可以实现优异的综合性能，可以作为光学镜头、光学窗口等，来提升相关仪器的综合性能，满足不同领域的高端需求。
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公开(公告)号：CN113238309B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202110484069.6
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 本发明是关于一种光栅式近红外增透型光学元件及其制备方法和应用，所述光栅式近红外增透型光学元件包括基底，所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面，所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列，所述微结构周期阵列包括多数个相同的微结构单元。本发明所提供的光栅式近红外增透型光学元件，通过在其表面构建微纳结构阵列，通过改善表面折射率即可以实现优异的综合性能，可以作为光学镜头、光学窗口等，来提升相关仪器的综合性能，满足不同领域的高端需求。
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公开(公告)号：CN113235048A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110484165.0
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/35 , C23C16/40 , C23C16/455
摘要： 本发明是关于一种纳米晶二氧化钛功能薄膜及其制备方法。该纳米晶二氧化钛功能薄膜，包括交替层叠设置的二氧化钛膜层和晶粒生长抑制膜层，所述的晶粒生长抑制膜层为无定形结构的金属氧化物层，所述晶粒生长抑制膜层的厚度为0.5～1.5nm。本发明通过在二氧化钛薄膜中引入晶粒生长抑制膜层，起到晶粒生长抑制剂的作用，可有效控制二氧化钛晶粒的生长，使二氧化钛的晶粒尺寸控制在设定的范围内，同时晶粒生长抑制膜层在整个薄膜结构中占比较低，对二氧化钛薄膜的性能影响不大，可最大程度上发挥出二氧化钛薄膜的性能优势。
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公开(公告)号：CN114264275A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202111621883.4
申请日：2021-12-28
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： G01B21/30
摘要： 本发明公开了一种微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法，包括如下步骤：用去离子水、无水乙醇和异丙醇对微纳光栅进行超声清洗，氮气吹干将三甲基氯硅烷滴到表面皿中，与微纳光栅一同置于真空干燥环境下，使三甲基氯硅烷充分钝化微纳光栅的表面；将固化剂加入聚二甲基硅氧烷中，混合均匀，消泡，得到PDMS混合物；将PDMS混合物倒在表面皿中，再将微纳光栅置于PDMS混合物表面，将附着PDMS混合物的微纳光栅置于真空干燥环境中脱气、固化，得到凝固仍带有微纳光栅的硅胶膜；将该硅胶膜与微纳光栅进行脱模，用硅胶模进行粗糙度测试。本发明可实现对微纳光栅表面难以测量的侧壁、槽底、深孔等复杂结构进行采集和复制，为复杂的微纳结构表面粗糙度测试提供了新思路。
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公开(公告)号：CN113161247B
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202110484162.7
申请日：2021-04-30
申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC分类号： H01L21/50 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , B81C3/00
摘要： 本发明是关于静电键合方法和装置以及使用该方法制备的光电阴极。该静电键合方法包括以下步骤：对第一基板的待键合面进行第一预处理；对第二基板的待键合面进行第二预处理；所述第一基板和第二基板的材质都选自电阻率在20℃下为1×1015～1×1019Ω·cm的无机材料；对第二基板的待键合面进行电子轰击，使第二基板的待键合面产生表面电位；所述的表面电位大于3V；将第一基板的待键合面与第二基板的待键合面贴合，在加压和加热的条件下，对第一基板和第二基板进行键合。本发明提出的静电键合方法通过静电吸引将两个或多个相同材质或不同材质的基板键合在一起，且键合基板材质中不需要含有碱金属离子，即使基板的厚度较大时也容易实现。
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