微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法

    公开(公告)号:CN114264275A

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN202111621883.4

    申请日:2021-12-28

    IPC分类号: G01B21/30

    摘要: 本发明公开了一种微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法,包括如下步骤:用去离子水、无水乙醇和异丙醇对微纳光栅进行超声清洗,氮气吹干将三甲基氯硅烷滴到表面皿中,与微纳光栅一同置于真空干燥环境下,使三甲基氯硅烷充分钝化微纳光栅的表面;将固化剂加入聚二甲基硅氧烷中,混合均匀,消泡,得到PDMS混合物;将PDMS混合物倒在表面皿中,再将微纳光栅置于PDMS混合物表面,将附着PDMS混合物的微纳光栅置于真空干燥环境中脱气、固化,得到凝固仍带有微纳光栅的硅胶膜;将该硅胶膜与微纳光栅进行脱模,用硅胶模进行粗糙度测试。本发明可实现对微纳光栅表面难以测量的侧壁、槽底、深孔等复杂结构进行采集和复制,为复杂的微纳结构表面粗糙度测试提供了新思路。

    微结构玻璃基片及其制备方法

    公开(公告)号:CN113193059A

    公开(公告)日:2021-07-30

    申请号:CN202110486159.9

    申请日:2021-04-30

    摘要: 本发明是关于微结构玻璃基片及其制备方法,该微结构玻璃基片包括玻璃基底层和光电发射材料层,所述的玻璃基底层具有呈网格状分布的光栅凹槽结构,所述的光栅凹槽结构由若干第一方向的凹槽和若干第二方向的凹槽相互交叉形成,所述的凹槽的开口朝向所述的光子出射面,所述的凹槽内填充有氧化物膜层;所述的凹槽的尺寸与光电发射材料层的厚度满足如下关系:W×(Δ+W)=1000×D,其中,W为凹槽的宽度,Δ为相邻两个凹槽的间距,D为光电发射材料层的厚度。本发明通过对玻璃基片的出射面进行微结构加工,形成特殊材料结构光栅,增加光子传播路径,提高光谱灵敏度。