水热法生长闪烁晶体硅酸铋的方法

    公开(公告)号:CN103014830A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210543487.9

    申请日:2012-12-14

    IPC分类号: C30B7/10 C30B29/34

    摘要: 本发明公开了一种水热法生长闪烁晶体硅酸铋的方法,具体是以Bi4Si3O12作为培养料,置于黄金衬套管中,加入矿化剂,再加入占培养料3~8%重量的SiO2粉末,控制生长条件进行温差水热法生长,得到纯相的Bi4Si3O12体单晶。本发明所述方法通过在黄金衬套管中添加特定比例的SiO2粉末来补充Si-O生长基元,达到既能克服熔体法生长晶体时所遇到的晶体易开裂、均匀性及析晶行为难以控制的问题,又可克服水热法生长闪烁晶体硅酸铋时伴有Bi12SiO20杂相的问题,从而获得纯相的大尺寸的Bi4Si3O12体单晶,且所得体单晶表面无开棉无裂,完整性好。

    一种用于热液法晶体生长的变口径高压釜

    公开(公告)号:CN104695006A

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201510144413.1

    申请日:2015-03-30

    IPC分类号: C30B7/10

    摘要: 本发明公开了一种用于热液法晶体生长的变口径高压釜,包括釜体,釜体内腔存在溶解区和结晶区,所述釜体内结晶区的口径大于所述釜体内溶解区的口径。本发明将釜体内腔中结晶区的口径设计成大于釜体内腔中溶解区的口径的结构,一方面,与同样高度及外径的传统高压釜相比,增加了高压釜釜体内腔的容积,可以使晶体在同一个釜体内多周期连续生长,克服了频繁更换高压釜存在的诸多问题,还可以节省成本;另一方面,釜体内结晶区位于溶解区的上方,且结晶区的口径大于溶解区的口径,有效减缓釜体内腔中气液对流的剧烈程度,更有利于晶体的生长,还可以增加结晶区营养盐的载入量。

    一种用于热液法晶体生长的变口径高压釜

    公开(公告)号:CN204530014U

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201520185147.2

    申请日:2015-03-30

    IPC分类号: C30B7/10

    摘要: 本实用新型公开了一种用于热液法晶体生长的变口径高压釜,包括釜体,釜体内腔存在溶解区和结晶区,所述釜体内结晶区的口径大于所述釜体内溶解区的口径。本实用新型将釜体内腔中结晶区的口径设计成大于釜体内腔中溶解区的口径的结构,一方面,与同样高度及外径的传统高压釜相比,增加了高压釜釜体内腔的容积,可以使晶体在同一个釜体内多周期连续生长,克服了频繁更换高压釜存在的诸多问题,还可以节省成本;另一方面,釜体内结晶区位于溶解区的上方,且结晶区的口径大于溶解区的口径,有效减缓釜体内腔中气液对流的剧烈程度,更有利于晶体的生长,还可以增加结晶区营养盐的载入量。

    一种用于辅助测量高压釜反应腔填充体积的装置

    公开(公告)号:CN213397248U

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN202022787626.5

    申请日:2020-11-26

    IPC分类号: G01F17/00

    摘要: 本实用新型涉及一种用于辅助测量高压釜反应腔填充体积的装置,包括基座、导电机构和提示装置;所述基座放置在高压釜的上端面;所述导电机构安装在所述基座上且电连接所述提示装置的两极,并在高压釜反应腔加入与高压釜反应腔填充体积等量的水后使所述提示装置的两极导通发声或发光。该装置不仅结构比较简单,制作比较容易,而且使用也比较方便,测量高压釜反应腔填充体积也比较准确。实测结果表明,当采用该装置测量ф42×750型高压釜反应腔的填充体积时,同一个人重复测量以及不同人测量的结果都非常近似,其最大的绝对误差也只有0.2ml。