公开(公告)号：CN111063599A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201811201334.X

申请日：2018-10-16

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 彭立波 ,  王迪平 ,  钟新华 ,  袁卫华 ,  胡振东 ,  金泽军 ,  许波涛

IPC分类号： H01J37/10 ,  H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01J37/147 ,  H01L21/67

摘要： 一种离子注入装置，包括屏蔽房、依次设置的离子源、引出电极、分析器、分析光栏、聚焦透镜、加速管、对称静电扫描电极以及均匀磁场平行透镜，屏蔽房内设有相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一腔室内设有高压仓，第二腔室内设有靶室，离子源、引出电极、分析器、及分析光栏设于高压仓内，加速管设于第一腔室内，高压仓上设有供离子束进入加速管的第一出口，第一腔室上设有供离子束进入对称静电扫描电极的第二出口，对称静电扫描电极和均匀磁场平行透镜设于第二腔室内，靶室内设有靶台、定向台、片库以及至少一个用于传递晶圆的机械手，靶室上设有供离子束注入靶台上晶圆的注入口。本发明具有结构简单、成本低、便于实现高能高精度注入等优点。

公开(公告)号：CN111063599B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN201811201334.X

申请日：2018-10-16

申请人： 中国电子科技集团公司第四十八研究所

发明人： 彭立波 ,  王迪平 ,  钟新华 ,  袁卫华 ,  胡振东 ,  金泽军 ,  许波涛

IPC分类号： H01J37/10 ,  H01J37/317 ,  H01J37/244 ,  H01J37/147 ,  H01L21/67

摘要： 一种离子注入装置，包括屏蔽房、依次设置的离子源、引出电极、分析器、分析光栏、聚焦透镜、加速管、对称静电扫描电极以及均匀磁场平行透镜，屏蔽房内设有相互隔离的第一腔室和第二腔室，第一腔室内设有高压仓，第二腔室内设有靶室，离子源、引出电极、分析器、及分析光栏设于高压仓内，加速管设于第一腔室内，高压仓上设有供离子束进入加速管的第一出口，第一腔室上设有供离子束进入对称静电扫描电极的第二出口，对称静电扫描电极和均匀磁场平行透镜设于第二腔室内，靶室内设有靶台、定向台、片库以及至少一个用于传递晶圆的机械手，靶室上设有供离子束注入靶台上晶圆的注入口。本发明具有结构简单、成本低、便于实现高能高精度注入等优点。