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公开(公告)号：CN103777472B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201410029948.X
申请日：2014-01-23
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要： 一种用于准分子激光光束整形的衍射光学元件设计方法，该方法包括下列步骤：测量入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L；计算衍射光学元件中位相单元的尺寸l；依据入射到衍射光学元件的光束的空间相干长度L，确定衍射光学元件中一个设计单元的周期d；等间隔采样所需远场光强分布，并计算远场振幅分布矩阵Aout；计算设计所需的入射光振幅分布矩阵Ain；采用盖师贝格-撒克斯通算法设计一个设计单元的位相分布矩阵；将周期化得到完整的衍射光学元件位相分布矩阵；评估所设计的衍射光学元件的准分子激光光束整形性能。本发明设计的衍射光学元件具有对入射光束的位置、尺寸形状与光强分布变化不敏感，远场光强分布均匀的特点。
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公开(公告)号：CN110440710A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910635366.9
申请日：2019-07-15
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要： 一种高反射率凹轴锥镜的面形检测系统及检测方法，检测系统包括：移相干涉仪、平面标准镜、工作台和调整架，待测凹轴锥镜固定在调整架上，其轴线与移相干涉仪的光轴平行且锥面朝向移相干涉仪的出光方向，调整架安装在工作台上，通过工作台在待测凹轴锥镜轴线方向上的定位扫描移动，以及移相干涉仪的测量光束在待测凹轴锥镜锥面的两次反射和平面标准镜的反射，测量得到待测凹轴锥镜上两个不同径向位置叠加的面形图，并解出待测凹轴锥镜各个不同径向位置的环带面形，最后得到待测凹轴锥镜的面形。本发明具有结构简单，适用性强，对测量件无损伤等优点。
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公开(公告)号：CN105674902B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610012510.X
申请日：2016-01-08
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G01B11/14
摘要： 一种光学镜组镜面间隙测量装置和测量方法，包括：低相干光源、激光测长光源、红光指示光源、第一光纤耦合器、第二光纤耦合器、第三光纤耦合器、第一光纤环形器、第二光纤环形器、第一光纤准直器、电机驱动移动平台、可移动扫描反射镜、第二光纤准直器、四维调整架、可调焦准直器、待测镜组、安装架、光纤后向反射镜、光电探测器、平衡光电探测器、连接光纤。本发明通过平衡差分测量的方法，同时利用耦合器的两路输出，去除本底干扰信号，使干涉信号强度增大一倍，可用于光学镜组的高精度装调。
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公开(公告)号：CN104215176B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201410472652.5
申请日：2014-09-17
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G01B11/00
摘要： 一种高精度光学间隔测量装置和测量方法，装置包括：短相干光源、激光测长光源、照明指示用光源、第一光纤耦合器、第二光纤耦合器、测量光路、参考镜光路、延迟扫描光路、波分复用器、第一光电探测器、第二光电探测器、连接光纤、环境传感器。本发明采用时域光学相干层析技术，利用宽带光源及高精度延迟扫描光路实现光学元件间隔的非接触测量，通过共光路激光测长技术获取延迟光路的精确位移，采用五步相移干涉条纹包络的提取算法以及通过环境补偿，消除测量误差，提高测量精度，在测量范围内间隔测量精度可达到亚微米级，同时在光学仪器装调过程中可以实现实时测量，提高测量效率。
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公开(公告)号：CN103885297B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201410075046.X
申请日：2014-03-04
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件，仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动，即可实现照明均匀性的校正。该方法具有操作方便、不引起光强衰减的特点。适用于任何紫外光波段的光刻机曝光系统。
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公开(公告)号：CN104215176A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410472652.5
申请日：2014-09-17
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G01B11/00
摘要： 一种高精度光学间隔测量装置和测量方法，装置包括：短相干光源、激光测长光源、照明指示用光源、第一光纤耦合器、第二光纤耦合器、测量光路、参考镜光路、延迟扫描光路、波分复用器、第一光电探测器、第二光电探测器、连接光纤、环境传感器。本发明采用时域光学相干层析技术，利用宽带光源及高精度延迟扫描光路实现光学元件间隔的非接触测量，通过共光路激光测长技术获取延迟光路的精确位移，采用五步相移干涉条纹包络的提取算法以及通过环境补偿，消除测量误差，提高测量精度，在测量范围内间隔测量精度可达到亚微米级，同时在光学仪器装调过程中可以实现实时测量，提高测量效率。
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公开(公告)号：CN103885297A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410075046.X
申请日：2014-03-04
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻机曝光系统照明均匀性的校正方法，该方法是沿光轴方向移动所述的聚光镜组的最后一块透镜，实现矩形照明光斑边缘位置和中心位置相对光强的调节。本发明无需添加额外的光学元件，仅依靠原光刻机曝光系统中已有光学元件的简单移动，即可实现照明均匀性的校正。该方法具有操作方便、不引起光强衰减的特点。适用于任何紫外光波段的光刻机曝光系统。
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公开(公告)号：CN110440710B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201910635366.9
申请日：2019-07-15
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
摘要： 一种高反射率凹轴锥镜的面形检测系统及检测方法，检测系统包括：移相干涉仪、平面标准镜、工作台和调整架，待测凹轴锥镜固定在调整架上，其轴线与移相干涉仪的光轴平行且锥面朝向移相干涉仪的出光方向，调整架安装在工作台上，通过工作台在待测凹轴锥镜轴线方向上的定位扫描移动，以及移相干涉仪的测量光束在待测凹轴锥镜锥面的两次反射和平面标准镜的反射，测量得到待测凹轴锥镜上两个不同径向位置叠加的面形图，并解出待测凹轴锥镜各个不同径向位置的环带面形，最后得到待测凹轴锥镜的面形。本发明具有结构简单，适用性强，对测量件无损伤等优点。
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公开(公告)号：CN105674903B
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201610012511.4
申请日：2016-01-08
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G01B11/14
摘要： 一种透镜组镜面间距的测量装置和测量方法，装置包括：低相干光源、激光测长光源、红光指示光源、第一波分复用器、第二波分复用器、第三波分复用器、光纤耦合器、第一MEMS光开关、第二MEMS光开关、延迟扫描臂、可调焦准直器、四维调整架、待测透镜组、安装架、光纤后向反射镜、第一光电探测器、第二光电探测器、连接光纤、数据采集系统、数据处理单元。本发明具有测量范围大及测量精度高的特点，测量精度可达到亚微米量级，可用于光学镜组的高精度装调。
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公开(公告)号：CN105674903A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610012511.4
申请日：2016-01-08
申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC分类号： G01B11/14
CPC分类号： G01B11/14
摘要： 一种透镜组镜面间距的测量装置和测量方法，装置包括：低相干光源、激光测长光源、红光指示光源、第一波分复用器、第二波分复用器、第三波分复用器、光纤耦合器、第一MEMS光开关、第二MEMS光开关、延迟扫描臂、可调焦准直器、四维调整架、待测透镜组、安装架、光纤后向反射镜、第一光电探测器、第二光电探测器、连接光纤、数据采集系统、数据处理单元。本发明具有测量范围大及测量精度高的特点，测量精度可达到亚微米量级，可用于光学镜组的高精度装调。
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