一种异质结构的制备方法

    公开(公告)号:CN109427538B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201710735726.3

    申请日:2017-08-24

    Abstract: 本发明提供一种异质结构的制备方法,包括提供供体衬底,并于供体衬底表面形成牺牲层;于牺牲层表面形成薄膜盖层,其远离所述牺牲层的表面为注入面;从注入面进行离子注入,以在牺牲层中形成缺陷层;提供受体衬底,并将受体衬底与薄膜盖层的注入面键合;沿缺陷层剥离所述牺牲层,以将键合有薄膜盖层的受体衬底与供体衬底分离,获得受体衬底‑薄膜盖层异质结构。通过上述方案,本发明中引入含铝化合物等易被化学腐蚀的材料作为牺牲层,层裂之后借用含铝化合物易氧化的特点,将处理牺牲层的工序简化,并且使得到的异质结构和供体衬底表面洁净,可以成功的将薄膜盖层转移到受体衬底上,在提供柔性衬底的同时,供体衬底材料还可以重复利用。

    一种异质结构的制备方法

    公开(公告)号:CN109427538A

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201710735726.3

    申请日:2017-08-24

    Abstract: 本发明提供一种异质结构的制备方法,包括提供供体衬底,并于供体衬底表面形成牺牲层;于牺牲层表面形成薄膜盖层,其远离所述牺牲层的表面为注入面;从注入面进行离子注入,以在牺牲层中形成缺陷层;提供受体衬底,并将受体衬底与薄膜盖层的注入面键合;沿缺陷层剥离所述牺牲层,以将键合有薄膜盖层的受体衬底与供体衬底分离,获得受体衬底-薄膜盖层异质结构。通过上述方案,本发明中引入含铝化合物等易被化学腐蚀的材料作为牺牲层,层裂之后借用含铝化合物易氧化的特点,将处理牺牲层的工序简化,并且使得到的异质结构和供体衬底表面洁净,可以成功的将薄膜盖层转移到受体衬底上,在提供柔性衬底的同时,供体衬底材料还可以重复利用。

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