一种高密闭性碲镉汞气相外延的石英套管

    公开(公告)号:CN106435718B

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201611063662.9

    申请日:2016-11-25

    IPC分类号: C30B23/02 C30B29/48

    摘要: 本发明公开了一种用于碲镉汞气相外延生长的石英套管,该石英套管由99.99999%的高纯石英材料制成的石英外管、石英限位管和石英内管和石英塞组成。石英外管是一端封闭,一端开口的圆柱体结构,开口端与封闭门相连。石英限位管为圆柱体杯状结构,放置在石英外管内部,靠近封闭端。石英内管是一个一端封闭,一端带有椎度开口的圆柱体结构。石英塞也有带锥度圆柱体的中空的磨砂口塞子,与石英内管匹配,石英塞与带弹簧的不锈钢管相连。石英内管和石英塞均放置在石英外管内部,靠近封闭门。石英内管内部放置可以进行气相外延的石墨舟。该石英套管用于碲镉汞气相外延生长,实现高密闭性、快速升降温的碲镉汞气相外延生长。

    一种用于晶体等温气相外延工艺的石英容器

    公开(公告)号:CN102181922A

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN201110063540.0

    申请日:2011-03-16

    IPC分类号: C30B25/08

    摘要: 本专利公开了一种用于晶体等温气相外延工艺的石英容器,该石英容器由用99.99999%的高纯石英材料制成的石英塞、石英盒和石英环组成。石英塞是一个上部为圆锥体下部为带锥度圆柱体的中空的磨砂口塞子,石英盒为圆柱体杯状结构,石英盒的底部放置晶体生长源材料,石英环放置在源材料的上方,晶体生长用衬底放置在石英环上,如果有多片衬底,则用石英环将每片衬底相互隔开后叠加放入石英盒中,石英塞将石英盒口塞住密闭。这种石英容器可以解决碲镉汞等温气相外延中Hg损失的问题,从而提高材料的均匀性和外延面积,同时在一个石英容器里可以实现多片衬底的外延沉积。

    一种用于碲镉汞气相外延的多功能石墨舟

    公开(公告)号:CN104630883A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201410748474.4

    申请日:2014-12-09

    IPC分类号: C30B25/12 C30B29/46

    摘要: 本发明公开了一种用于碲镉汞气相外延的多功能石墨舟,该石墨舟由石墨底座、石墨盖板、石墨掩片、石墨垫片四本部分组成,石墨掩片和石墨垫片可分别放入石墨底座内,石墨盖板置于石墨掩片和石墨垫片上部,对石墨底座进行密封。该石墨舟可以用于碲镉汞气相外延生长,可以实现多片(衬底尺寸可以控制在10mm*10mm~30mm*30mm)、异型形貌(如长方形、圆形、三角形、环形等)、异型尺寸(各种不规则尺寸衬底)的碲镉汞气相外延生长。为碲镉汞选择区域生长奠定了基础,该方法可以应用于短波、中波和长波碲镉汞等温气相外延领域。

    一种变温变磁场变光强多功能载流子输运测试系统及测量方法

    公开(公告)号:CN118275845A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202410418514.2

    申请日:2024-04-09

    IPC分类号: G01R31/26 G01R31/265

    摘要: 本发明公开了一种变温变磁场变光强多功能载流子输运测试系统及测量方法。所述测试系统包括一电磁铁系统为测试样品提供电磁场;一可变温恒温器系统用于对测试样品控温;一激光器系统为测试样品提供光源;一少子寿命测量系统用于测试样品的少子寿命;一电学仪器和计算机系统用于测试过程的控制,保证测试的自动化,及后续的数据处理;一水冷机用于给制冷机、及电磁铁电源降温;一真空泵用于给可变温恒温器的腔体抽真空。本系统的优点在于可以直接观察激光辐照时光生载流子的行为,同时可以获得测试样品在变温条件下的少子寿命参数。

    一种高饱和阈值的碲镉汞探测器芯片及制备方法

    公开(公告)号:CN115513315A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211112869.6

    申请日:2022-09-14

    摘要: 本发明公开了一种高饱和阈值的碲镉汞探测器芯片及制备方法,碲镉汞探测器芯片包括衬底、环氧树脂胶、p型光敏层、n型离子注入层、钝化层、n型电极层和p型电极层,p型光敏层是Hg1‑xCdxTe组分渐变层,沿背离衬底方向依次包括Cd组分线性渐变Hg1‑xCdxTe层和Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层,Cd组分x从高到低由Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层的上表面渐变至Cd组分线性渐变Hg1‑xCdxTe层的下表面。本发明芯片的n型离子注入层形成在Cd组分非线性渐变Hg1‑xCdxTe层内,渐变带隙引入的较强内建电场通过提高空穴的漂移速度,减少空穴在空间电荷区的堆积,同时抑制p区载流子的扩散运动,降低pn结对p区光生电子的收集效率,降低空间电荷区的载流子浓度,提高芯片饱和阈值,实现室温零偏置电压下工作。

    一种高密闭性碲镉汞气相外延的石英套管

    公开(公告)号:CN106435718A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201611063662.9

    申请日:2016-11-25

    IPC分类号: C30B23/02 C30B29/48

    CPC分类号: C30B23/02 C30B29/48

    摘要: 本发明公开了一种用于碲镉汞气相外延生长的石英套管,该石英套管由99.99999%的高纯石英材料制成的石英外管、石英限位管和石英内管和石英塞组成。石英外管是一端封闭,一端开口的圆柱体结构,开口端与封闭门相连。石英限位管为圆柱体杯状结构,放置在石英外管内部,靠近封闭端。石英内管是一个一端封闭,一端带有椎度开口的圆柱体结构。石英塞也有带锥度圆柱体的中空的磨砂口塞子,与石英内管匹配,石英塞与带弹簧的不锈钢管相连。石英内管和石英塞均放置在石英外管内部,靠近封闭门。石英内管内部放置可以进行气相外延的石墨舟。该石英套管用于碲镉汞气相外延生长,实现高密闭性、快速升降温的碲镉汞气相外延生长。

    一种用于晶体等温气相外延工艺的石英容器

    公开(公告)号:CN102181922B

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201110063540.0

    申请日:2011-03-16

    IPC分类号: C30B25/08

    摘要: 本发明公开了一种用于晶体等温气相外延工艺的石英容器,该石英容器由用99.99999%的高纯石英材料制成的石英塞、石英盒和石英环组成。石英塞是一个上部为圆锥体下部为带锥度圆柱体的中空的磨砂口塞子,石英盒为圆柱体杯状结构,石英盒的底部放置晶体生长源材料,石英环放置在源材料的上方,晶体生长用衬底放置在石英环上,如果有多片衬底,则用石英环将每片衬底相互隔开后叠加放入石英盒中,石英塞将石英盒口塞住密闭。这种石英容器可以解决碲镉汞等温气相外延中Hg损失的问题,从而提高材料的均匀性和外延面积,同时在一个石英容器里可以实现多片衬底的外延沉积。

    一种低成本HgTe三维拓扑材料生长的方法

    公开(公告)号:CN109750358A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201910021572.0

    申请日:2019-01-10

    IPC分类号: C30B29/48 C30B25/18 C30B33/02

    摘要: 本发明公开了一种低成本HgTe三维拓扑材料生长方法。第一步、HgTe源采用1:1配比,得到正化学配比的HgTe拓扑材料。HgTe源在700℃下进行高温高压合成,合成过程中保持8h摇摆混合,确保HgTe源的均匀分布,最后冲大量氮气进行快速降温。第二步、将碲锌镉衬底区分出A/B面之后,进行双面研磨,双面精抛,热三氯甲烷三次、热浴乙醇三次,2%Br甲醇腐蚀60s,高纯乙醇清洗三次,高纯氮气吹干。第三步、将处理好的碲锌镉衬底,放入气相外延设备里,进行HgTe的气相外延生长,生长温度500~550℃,生长时间1h~3h。第四步、在气相外延炉内,进行HgTe材料的原位退火,氢气气氛下,退火温度250~280℃,退火时间24~48h。本发明的优点在于:拓扑材料生长成本低。外延生长设备简单。