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公开(公告)号：CN102679883A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210141982.7
申请日：2012-05-09
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 川渝中烟工业有限责任公司
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明涉及一种基于图像处理的烟丝宽度测量方法。首先，在自然光下使用线阵CCD摄相机拍摄固定在载物台上的烟丝图像；之后对扫描的图像进行预处理，包括图像灰度拉伸；中值滤波去除噪声；全局阈值处理将灰度图像转化为二值图像；开、闭运算将图像边缘毛糙图像点去除；然后将采集的图像进行分割得到单根烟丝的小图像；最后将单根烟丝图像进行细化、去毛刺处理并用矩阵翻转的方法测量烟丝多点不同位置的宽度。得到一种具有快速、简便、准确并具备自适应能力的宽度测量方法。该测量方法对于烟丝宽度的高精度快速测量具有重要意义。
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公开(公告)号：CN102679883B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201210141982.7
申请日：2012-05-09
申请人： 中国科学院光电技术研究所 , 川渝中烟工业有限责任公司
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明涉及一种基于图像处理的烟丝宽度测量方法。首先，在自然光下使用线阵CCD摄相机拍摄固定在载物台上的烟丝图像；之后对扫描的图像进行预处理，包括图像灰度拉伸；中值滤波去除噪声；全局阈值处理将灰度图像转化为二值图像；开、闭运算将图像边缘毛糙图像点去除；然后将采集的图像进行分割得到单根烟丝的小图像；最后将单根烟丝图像进行细化、去毛刺处理并用矩阵翻转的方法测量烟丝多点不同位置的宽度。得到一种具有快速、简便、准确并具备自适应能力的宽度测量方法。该测量方法对于烟丝宽度的高精度快速测量具有重要意义。
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公开(公告)号：CN104536273B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201510001996.2
申请日：2015-01-04
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光，透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅并发生多次衍射，来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加，形成周期被放大的莫尔条纹，最后成像于CCD图像传感器上。对图像处理后可以同时提取横纵两轴的两组莫尔干涉条纹的相位差，进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，再通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可同时进行两个方向的精度对准，易装调，精度高。
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公开(公告)号：CN103913961A
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201410155018.9
申请日：2014-04-17
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 本发明公布了一种基于光束波前调制的同轴检焦装置。该装置包括检焦光源、聚焦透镜、针孔滤波器、光束准直透镜、分光棱镜、反射镜、投影物镜和成像CCD。检焦光束经过扩束准直后，分为两束，其中参考光经过反射镜折回到达CCD表面；测量光穿过投影物镜经硅片反射到达CCD靶面。当硅片处于离焦位置时，参考光和测量光干涉形成与的干涉条纹。通过对条纹进行解析相位可以得到硅片的离焦量。本发明具有高精度、和实时测量，并可以直接根据条纹形态判断硅片是否离焦的优点。
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公开(公告)号：CN103217873A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310162595.6
申请日：2013-05-06
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 本发明涉及一种基于双光栅莫尔条纹的检焦装置，包括入射光束、扩束透镜、物光栅、楔形板、4f投影系统、斜方棱镜、检测光栅和探测器。入射光经过扩束透镜垂直投射到物光栅上，4f系统将物光栅像与检测光栅耦合在一起形成莫尔条纹，通过检测莫尔条纹的移动可以得到硅片的高度。其中双楔形镜配合可以补偿两个光栅成像时的倾斜。本发明实现了高精度、非接触测量硅片的离焦量测量。
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公开(公告)号：CN104133346A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410356776.7
申请日：2014-07-24
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种适用于投影光刻机的实时检焦调焦方法，由光源(1)经准直透镜成为平行光束，通过投影光阑(3)成为一道狭缝。狭缝经成像镜组(4)成像于硅片(6)表面。从硅片表面反射的光束经成像镜组(10、11)成像在线阵CCD(13)上。工件台(7)通过真空吸盘(8)载着硅片(6)在Z方向上下移动，硅片表面ΔZ的位移将使狭缝像在线阵CCD(13)上产生ΔX的位移。线阵CCD通过Cameralink传输线(14)将图像信息传输到图像采集控制卡(15)。图像处理采集卡(15)对图像信息进行亚像素处理，计算出离焦量，控制工件台运动，并实时检测离焦量，直到离焦量满足精度要求。图像采集控制卡(15)通过RS232串口(16)同计算机(17)通信，可以进行初始设置和调试。
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公开(公告)号：CN103616166A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201310648361.2
申请日：2013-12-04
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 本发明提供一种投影物镜焦面形状测量标记装置及应用，含有镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域，其中：镀铬区域、透光区域、相位凹槽区域的宽度比为2:1:1；相位凹槽区域具有90°的位相深度。使用时，制作一带有可提高投影物镜焦面形状测量分辨力测量标记的测试掩模，该测量标记均布在整个曝光视场范围内；掩模曝光后，通过测量硅片表面干涉条纹偏移量，并结合公式离焦量与干涉条纹偏移量间对应关系即可获得其投影物镜的真实焦面形状；在光刻机的焦面控制过程中，硅片曝光场进行平面拟合之前将硅片表面高度数据对应的减去投影物镜焦面数据，再将所得结果进行平面拟合进而完成光刻机超高精度的焦面控制。
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公开(公告)号：CN102231046B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201110169156.9
申请日：2011-06-17
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明是一种光闸莫尔条纹焦面检测系统，用于投影光刻机非接触快速焦面检测，该装置包括照明光源、扩束准直镜组、第一光栅、第一远心成像镜组、第二远心成像镜组、第二光栅、聚光镜、光电检测单元和硅片组成，该系统基于三角测量的基本原理，利用双光栅光闸莫尔条纹的光强调制特性，构建单个光栅周期内，焦面位移量和光能量线性关系。该系统是一种非接触、快速的光学测量手段，为投影光刻高精度实时焦面检测提供有效手段。
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公开(公告)号：CN103206922A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201310088649.9
申请日：2013-03-19
申请人： 中国科学院光电技术研究所
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了一种叶丝宽度快速测量装置包括：工件台系统，照明系统，成像系统，控制系统以及计算机系统五部分。LED照明系统照射在叶丝承载盒上，叶丝承载盒由步进电机带动经过线阵CCD采集完成图像的采集。计算机完成图像处理工作。本发明具有结构紧凑、自动化程度高、计算精确的优点，用于香烟叶丝宽度的高精度检测中。
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公开(公告)号：CN102789137A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210245688.0
申请日：2012-07-16
申请人： 中国科学院光电技术研究所
摘要： 本发明是一种基于莫尔条纹的反射式光刻对准装置，采用适用于接近接触式光刻对准的反射式光路系统，该装置包括对准照明系统、半反半透镜、掩模板、掩模光栅标记、硅片光栅标记、硅片、位移工件台、条纹接收系统和计算机，对准照明系统将对准平行光以45°角入射到半反半透镜上，半反半透镜将对准平行光反射到掩模板上的光栅标记发生衍射，衍射光继续传播入射到硅片上的光栅标记发生衍射，从而使掩模光栅标记与硅片光栅标记叠加，反射光继续传播通过半反半透镜，条纹成像系统接收对准条纹图像，图像经过计算机分析处理获取掩模板硅片的位移关系，并实时反馈给位移工件台实现x、y两个方向的对准。
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