一种多通道混配器
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207680625U

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201721694672.2

    申请日:2017-12-08

    摘要: 本实用新型公开了一种多通道混配器,所述多通道混配器包括液体分布腔和集液腔,于液体分布腔和集液腔之间并联有2个以上的单通道混配器,所述单通道混配器包括依次串连的内部设有混合机构的混合器和稳定器;液体分布腔与原料液相连,集液腔通过管状连接件与导料管一端相连;原料液先通过混合器,进行均匀混合后形成沉淀颗粒,沉淀颗粒再进入到稳定器进行稳定生长,结构稳定后的产物由导料管流出再通过老化、分离、干燥或干燥焙烧,即制得纳米粉体。采用本实用新型这种结构来制取纳米粉体材料,原料液在混合器可以达到均匀混合,同时形成的沉淀颗粒可以在稳定器进行稳定生长,生成的颗粒粒径可以得到调控。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    用于二氧化碳催化还原的液态金属催化剂及制备和应用

    公开(公告)号:CN118162124A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202211539993.0

    申请日:2022-12-02

    摘要: 本发明涉及一种二氧化碳还原催化剂、制备方法及还原反应方法,属于碳捕捉、二氧化碳还原技术领域,解决了现有技术中下列问题:催化剂表面二氧化碳的浓度较低,催化剂的活性和选择性较低;催化剂的有效活性位点数目下降。该催化剂具有液体性质,反应条件温和,热量传播均匀,可使用鼓泡方式和气体接触,增大气‑液接触面积。该可以处理不同浓度的二氧化碳废气,尤其是解决了现有催化剂处理低浓度二氧化碳表现出活性低的问题。产物分布不同于现有二氧化碳还原催化剂,本发明中的催化剂将二氧化碳还原成单质碳、水和微量一氧化碳。本发明的催化剂催化性能好,选择性强,稳定性好,能有效提高还原反应的转化率和碳选择性。

    一种三氯氢硅还原生产多晶硅循环氢气提纯处理方法

    公开(公告)号:CN102328906B

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201110200460.5

    申请日:2011-07-18

    IPC分类号: C01B3/56

    CPC分类号: Y02P20/124

    摘要: 一种三氯氢硅还原生产多晶硅循环氢气提纯处理方法。采用两组串联的金属钯复合膜氢气纯化器,对三氯氢硅还原循环氢气进行提纯处理,其中第一组金属钯复合膜氢气纯化器相对较大,提纯处理的超纯氢气(H2纯度>99.9999%)返回还原炉,用于三氯氢硅还原的原料气,而第二组氢气纯化器相对较小,提纯处理的高纯氢气(H2纯度-99.999%)去冷氢化工段作为原料气。该方法提纯处理循环氢气的回收率可以达到99%。当循环氢气中氯化氢含量较高时,需要采取必要的脱氯措施使得HCl含量降低到0.5ppm以下。利用该方法提纯的氢气生产多晶硅,可以明显提高多晶硅产品的纯度和质量,具有明显的节能减排效应。

    一种钯膜抗硫抗氯方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106669448B

    公开(公告)日:2019-04-23

    申请号:CN201510750213.0

    申请日:2015-11-06

    IPC分类号: B01D71/02 B01D67/00

    摘要: 本发明通过在钯膜表面涂覆纳米钯/MoS2组合(或MoS2)的“铠甲层”,有效阻截硫氯污染物(如H2S,HCl),进而避免钯膜表面受到污染。通过控制纳米钯和MoS2粒子大小,保证“铠甲层”孔径分布在0.05‑0.2μm左右,不影响钯膜的透氢量。与钯膜表面相比,纳米钯颗粒具有高比表面积和高吸附活性的明显优点,因此,“铠甲层”将能通过优先吸附、分解硫氯污染物的原理避免它们在钯膜表面的解离吸附。钯膜“铠甲层”有望在避免膜表面受到硫氯污染的同时保证钯膜的高透量,这对于解决钯膜抗硫抗氯的难题,并推进其工业应用有重要的研究意义。

    一种管件密封套及管状气体分离材料的密封方法

    公开(公告)号:CN105650370B

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201410735838.5

    申请日:2014-12-05

    IPC分类号: F16L19/065 F16L19/05

    摘要: 一种管件密封套及管状气体分离材料的密封方法,该密封套由锥形密封件、加压环、密封垫圈和锁紧螺母组成,锥形密封件为中空结构,其内侧设置密封腔和渐扩管式气体缓冲腔,在密封腔的底部设置斜面,被密封管件的一端插入密封腔底部,在密封腔底部斜面与管件间限定的环形间隙内填充密封垫圈,密封垫圈与加压环连接,通过旋紧锥形密封件和锁紧螺母上的螺纹即可实现密封套与管件的密封连接;为保证密封套在高温或升降温过程中保持良好的密封性,在锁紧螺母和加压环之间增设金属弹片。本发明采用渐扩管式气体缓冲腔,避免了流体流动过程中因突然扩张的管道所导致的局部能量损失和流体速度消耗的影响,使得管件分离膜面得到充分利用。

    一种内膜型金属钯复合膜多孔载体的负压洗涤装置

    公开(公告)号:CN104607049B

    公开(公告)日:2017-10-13

    申请号:CN201310542021.1

    申请日:2013-11-04

    IPC分类号: B01D65/02

    摘要: 本发明涉及一种内膜型金属钯复合膜多孔载体的负压洗涤装置,包括储水槽、抽空腔和储水罐,所述储水槽底部设有分布均匀孔的凹槽和底部分布均匀孔的柔性硅橡胶密封垫,在凹槽的两侧设有等距的螺栓和用于安装待洗涤钯复合膜的紧固垫片;所述抽空腔为一空腔,位于储水槽和储水罐之间,在该抽空腔的一端设有放空管和抽负压管;所述储水罐为一空腔,在该储水罐的一端设有抽负压管和排水管,在相对的另一端设有抽空管,在该储水罐的底部设有支架。本发明构思巧妙、设计合理、操作简单、能有效地将钯复合膜多孔载体深层孔道内残留杂质洗涤干净。

    一种化学镀钯或其合金膜进行化学镀前的活化方法

    公开(公告)号:CN104178752B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201310195952.9

    申请日:2013-05-23

    IPC分类号: C23C18/30 C23C18/42

    摘要: 本发明提供了一种在多孔载体表面化学镀钯及其合金膜的化学活化方法,即对无催化活性的载体进行活化处理,然后经化学镀进行金属沉积的方法,主要解决传统化学镀活化工艺中存在的锡离子干扰,操作复杂等问题。采用了由表面活性剂分散的PdCl2酸性溶液作为活化液,采用无毒无害环境友好的抗坏血酸的酸性溶液作为还原剂,使活性金属组分被还原并沉积在载体表面形成高分散的金属微粒和金属粒子生长的晶核。然后将活化的载体直接置于化学镀液中,进行化学镀金属膜。该方法避免了锡的引入、操作简单、环境友好,有效的实现了钯膜的均匀生长,制得的金属膜致密性好、附着力强、具有较高透氢选择性和稳定性。

    一种钯膜抗硫抗氯方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106669448A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510750213.0

    申请日:2015-11-06

    IPC分类号: B01D71/02 B01D67/00

    摘要: 本发明通过在钯膜表面涂覆纳米钯/MoS2组合(或MoS2)的“铠甲层”,有效阻截硫氯污染物(如H2S,HCl),进而避免钯膜表面受到污染。通过控制纳米钯和MoS2粒子大小,保证“铠甲层”孔径分布在0.05-0.2μm左右,不影响钯膜的透氢量。与钯膜表面相比,纳米钯颗粒具有高比表面积和高吸附活性的明显优点,因此,“铠甲层”将能通过优先吸附、分解硫氯污染物的原理避免它们在钯膜表面的解离吸附。钯膜“铠甲层”有望在避免膜表面受到硫氯污染的同时保证钯膜的高透量,这对于解决钯膜抗硫抗氯的难题,并推进其工业应用有重要的研究意义。