含贵金属溅镀靶材的制作方法

    公开(公告)号:CN101319303A

    公开(公告)日:2008-12-10

    申请号:CN200710110578.2

    申请日:2007-06-05

    摘要: 一种含贵金属溅镀靶材的制作方法,包含一准备、一表面处理、一熔铸、一热加工及一退火步骤。于该准备步骤中准备各个金属锭,并进行该表面处理步骤去除表面氧化物与油污,然后在该熔铸步骤中,将各个金属锭以特定重量组成比例进行真空熔炼而得到合金熔体,并于金属铸模中凝固成型为铸胚的同时,同步利用电弧加热使合金熔体表面维持高温熔融状,最后才使合金熔体的整体表面同时冷却,而不会由外缘逐渐向中央冷却,因此可以有效消除冒孔缩孔缺陷,并配合进行该热加工、退火步骤,就可制出得料率高达90%以上且组织细致成分均匀的溅镀靶材。

    钛薄板的制作方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104745996B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201410077179.0

    申请日:2014-03-04

    IPC分类号: C22F1/18 B21B37/58

    摘要: 本发明是关于一种钛薄板的制作方法,该方法包括以下步骤:(a)提供钛卷;(b)冷轧该钛卷;(c)对冷轧后的钛卷进行连续退火处理;(d)对退火后的钛卷进行慢速低角度喷砂,其喷击速度为20至40米/秒,喷击角度为5至25度;(e)酸洗喷砂后的钛卷;(f)平整轧制酸洗后的钛卷;以及(g)张力整平平整轧制后的钛卷。借此,可提高钛薄板的生产效率、细致化钛卷晶粒及降低生产成本。

    纯铝靶的制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104046931A

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201310083147.7

    申请日:2013-03-15

    IPC分类号: C22F1/04 C21D8/02 C23C14/34

    摘要: 本发明揭露一种纯铝靶的制造方法,其中将铝锭进行重复数次的降温与压延步骤,藉此缩小铝靶的晶粒尺寸并具有一致的结晶方向性后,再进行热处理使铝靶再结晶。由此所得的纯铝靶的晶粒尺寸较小且具有一致的结晶方向性,可提升纯铝靶的溅镀速率,进而改善溅镀的铝薄膜的品质。

    钛薄板的制作方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104745996A

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201410077179.0

    申请日:2014-03-04

    IPC分类号: C22F1/18 B21B37/58

    摘要: 本发明是关于一种钛薄板的制作方法,该方法包括以下步骤:(a)提供钛卷;(b)冷轧该钛卷;(c)对冷轧后的钛卷进行连续退火处理;(d)对退火后的钛卷进行慢速低角度喷砂,其喷击速度为20至40米/秒,喷击角度为5至25度;(e)酸洗喷砂后的钛卷;(f)平整轧制酸洗后的钛卷;以及(g)张力整平平整轧制后的钛卷。借此,可提高钛薄板的生产效率、细致化钛卷晶粒及降低生产成本。

    硅基金属合金薄膜、具该薄膜的外壳和电子装置及制造方法

    公开(公告)号:CN101619437B

    公开(公告)日:2012-02-22

    申请号:CN200810133013.0

    申请日:2008-07-04

    IPC分类号: C23C14/14 C23C14/34

    摘要: 本发明的硅基金属合金薄膜的硅含量为百分之62到百分之85重量百分比,其余重量百分比为金属,所述金属选自铝、镍、钛、锌或其组合的群组。另外,将所述硅基金属合金薄膜设置在外壳,例如:电子装置的壳体表面,就可制成具硅基金属合金薄膜的电子装置。本发明的所述硅基金属合金薄膜不会对任何电磁波信号产生衰减,且具金属光影和质感以增加产品价值,而且具有不易变色、生产良率高、批次间色泽差异小、耐候性佳、附着性强、半成品储存时间长等功效。而且,所述硅基金属合金薄膜可直接应用于高产率的模内射出工艺,以增加产量,且可利用成本较低的直流溅镀方法制造,所以可降低生产成本。

    焊接治具
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103302378A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201210068163.4

    申请日:2012-03-15

    IPC分类号: B23K9/16 B23K10/02

    摘要: 一种焊接治具,适用于焊接海绵钛块。所述焊接治具包含保护气罩系统、接合部与焊枪。保护气罩系统则包含主体、保护气体入口、第一保护气体出口、第二保护气体出口与冷却循环系统。保护气体入口被设置于主体的第一侧。第一保护气体出口与第二保护气体出口则设置于主体的第二侧,且第二保护气体出口邻近于第一保护气体出口。冷却循环系统被设置于主体中。所述接合部具有孔洞,且焊枪穿设于孔洞与第一保护气体出口中。

    含贵金属的金属基陶瓷复合靶材的制造方法

    公开(公告)号:CN101638771A

    公开(公告)日:2010-02-03

    申请号:CN200810134631.7

    申请日:2008-07-28

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/14

    摘要: 本发明的含贵金属的金属基陶瓷复合靶材的制造方法,其先利用湿式混粉过程,将陶瓷粉体均匀地披覆于磁性金属粉体的表面,并经由干燥过程后,取得陶金复合粉体,再利用干式混粉过程将贵金属粉体与所述陶金粉体均匀混合,最后利用成型和致密化过程将所述陶金复合粉体制成致密的靶材。本发明的制造方法可均匀地混合所述磁性金属粉体、所述陶瓷粉体和所述贵金属粉体,并且可减少靶材制作过程中所述贵金属粉体的浪费,故可改善靶材的质量和降低靶材的制造成本。

    硅基金属合金薄膜、具该薄膜的外壳和电子装置及制造方法

    公开(公告)号:CN101619437A

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:CN200810133013.0

    申请日:2008-07-04

    IPC分类号: C23C14/14 C23C14/34

    摘要: 本发明的硅基金属合金薄膜的硅含量为百分之62到百分之85重量百分比,其余重量百分比为金属,所述金属选自铝、镍、钛、锌或其组合的群组。另外,将所述硅基金属合金薄膜设置在外壳,例如:电子装置的壳体表面,就可制成具硅基金属合金薄膜的电子装置。本发明的所述硅基金属合金薄膜不会对任何电磁波信号产生衰减,且具金属光影和质感以增加产品价值,而且具有不易变色、生产良率高、批次间色泽差异小、耐候性佳、附着性强、半成品储存时间长等功效。而且,所述硅基金属合金薄膜可直接应用于高产率的模内射出工艺,以增加产量,且可利用成本较低的直流溅镀方法制造,所以可降低生产成本。