一种球形玻璃制品打孔装置

    公开(公告)号:CN107791398B

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201711110857.9

    申请日:2017-11-13

    IPC分类号: B28D1/14 B28D7/00 B28D7/04

    摘要: 本发明公开了一种球形玻璃制品打孔装置,包括底板,底板的顶面固定有固定板A,固定板A的顶面通过螺栓固定有真空吸盘,真空吸盘的上方设有球形玻璃制品,球形玻璃制品的顶面设有弧形夹块,弧形夹块的内弧面贴附有橡胶层,弧形夹块的侧面开设有通孔A,橡胶层的内部嵌入有指针A。本发明设计有弧形夹块和真空吸盘配合将球形玻璃制品固定住,便于加工打孔,提高了打孔合格率,并且在移动钻头的过程中,通过观察指针A和指针B移动量对打孔位置定位,不但定位速度快,省时省力,而且还加强了空的定位精度,打孔时通过T形滑块B在滑槽B内移动使钻头对球形玻璃制品打孔,一次成型,提高了孔的加工质量,效率高、实用、可靠。

    一种光学镀膜膜厚监测装置

    公开(公告)号:CN107894218A

    公开(公告)日:2018-04-10

    申请号:CN201711131572.3

    申请日:2017-11-15

    IPC分类号: G01B15/02

    CPC分类号: G01B15/02 G01B15/025

    摘要: 本发明公开了一种光学镀膜膜厚监测装置,包括底部固定吸盘、装置金属壳体、电子束发生箱、电子束发射头、抽真空机、装置主腔体、干燥热电偶,所述装置压力表上方安装有所述抽真空机,所述抽真空机上方安装有所述装置主腔体,所述装置主腔体上方安装有所述干燥热电偶,所述干燥热电偶下方安装有气体干燥箱,所述气体干燥箱下方安装有真空度监测器,所述真空度监测器下方安装有厚度测算箱,所述厚度测算箱下方安装有操作控制箱,所述操作控制箱下方安装有液晶显示面板。有益效果在于:采用电子束对薄膜厚度进行测量,可以进行连续测量,以平均厚度作为薄膜厚度测量的结果,测量结果准确,工作效率高。

    一种超高透高性能低辐射膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103641333A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201310567790.7

    申请日:2013-11-14

    发明人: 陈路玉

    IPC分类号: C03C17/36

    摘要: 本发明公开了一种超高透高性能低辐射膜的制备方法,包括:A、直流溅射Bi平面靶,在玻璃基板上磁控溅射Bi2O3层;B、直流溅射Nb平面靶,在Bi2O3层上磁控溅射Nb2O5层;C、交流溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶,在Nb2O5层上磁控溅射AZO层;D、直流溅射银平面靶,在AZO层上磁控溅射Ag层;E、交流溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶,在Ag层上磁控溅射AZO层;F、直流溅射银平面靶,在AZO层上磁控溅射Ag层;G、交流溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶,在Ag层上磁控溅射AZO层;H、交流溅射ZnSn合金旋转靶,在AZO层上磁控溅射ZnSnO3层。本发明的目的是提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的超高透高性能低辐射膜的制备方法。

    一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103641332A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201310567780.3

    申请日:2013-11-14

    发明人: 陈路玉

    IPC分类号: C03C17/36

    摘要: 本发明公开了一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法,包括:A、直流电源溅射不锈钢平面靶,在玻璃基板上磁控溅射SSTOx层;B、直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射CrNx层;C、直流电源溅射银平面靶,在CrNx层上磁控溅射Ag层;D、直流电源溅射铜平面靶,在Ag层上磁控溅射Si层;E、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶,在Si层上磁控溅射AZO层;F、直流电源溅射铜平面靶,在AZO层上磁控溅射Cu层;G、交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶,在Cu层上磁控溅射AZO层;H、交流电源溅射硅铝合金旋转靶,在AZO层上磁控溅射SiO2层。本发明的目的是提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的金色双银LOW-E膜的制备。

    一种耐腐蚀薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103614696A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310552861.6

    申请日:2013-11-07

    发明人: 陈路玉

    摘要: 本发明公开了一种耐腐蚀薄膜的制备方法,包括:A、直流电源溅射Bi平面靶,在透明耐热基板上磁控溅射Bi2O3层;B、交流电源溅射氧化钛陶瓷旋转靶,在Bi2O3层上磁控溅射TiOx层;C、直流电源溅射铬平面靶,在TiOx层上磁控溅射CrNx层;D、直流电源溅射铜平面靶,在CrNx层上磁控溅射Cu层;E、直流电源溅射NiCr合金平面靶,在Cu层上磁控溅射NiCr层;F、交流电源溅射ZnSn合金旋转靶,在NiCr层上磁控溅射ZnSnO3层。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的耐腐蚀薄膜的制备方法。

    一种金色薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103613286A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310567819.1

    申请日:2013-11-14

    发明人: 陈路玉

    IPC分类号: C03C17/36 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种金色薄膜的制备方法,包括:A、直流电源溅射不锈钢平面靶,在玻璃基板上磁控溅射SSTOx层;B、直流电源溅射铬平面靶,在SSTOx层上磁控溅射CrNx层;C、直流电源溅射银平面靶,在CrNx层上磁控溅射Ag层;D、直流电源溅射硅平面靶,在Ag层上磁控溅射Si层;E、直流电源溅射NiCr合金,在Si层上磁控溅射NiCr层;F、采用氧气作为反应气体,氩气作为保护气体,交流电源溅射ZnSn合金旋转靶,在NiCr层上磁控溅射ZnSnO3层。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的金色薄膜的制备方法。

    一种介质-金属干涉型选择性吸收膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103612430A

    公开(公告)日:2014-03-05

    申请号:CN201310567859.6

    申请日:2013-11-14

    发明人: 陈路玉

    摘要: 本发明公开了一种介质-金属干涉型选择性吸收膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:A、采用直流磁控溅射的方法在基底上磁控溅射反射层;B、采用氧气作为反应气体,在步骤A中的反射层上磁控溅射介质层;C、采用直流磁控溅射的方法在步骤B中的介质层上磁控溅射半透明金属层。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种工艺简单,操作方便,生产成本相对较低的介质-金属干涉型选择性吸收膜的制备方法。

    一种自行清洗太阳能板的环保节能灯

    公开(公告)号:CN107869685A

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201711110823.X

    申请日:2017-11-13

    摘要: 本发明公开了一种自行清洗太阳能板的环保节能灯,包括底座,底座上有立柱,立柱上有顶板,顶板上有过滤腔体、电机A和定位杆,过滤腔体上有集水漏斗,集水漏斗内有盖板,盖板上有雨水感应器和固定块,电机A上有丝杠A,丝杠A上有螺母A,底座下有水箱,水箱内有水泵,顶板下有支撑杆,支撑杆上有壳体,壳体内有电机B,电机B上有丝杠B,丝杠B上有螺母B,螺母B上有支架,支架上有支撑板,支撑板下有刷子,壳体上有太阳能板,刷子上有喷水管,喷水管下有通水管,立柱上有防水罩、电池、太阳能控制器、PLC控制器和有横杆,横杆上有照明灯,本发明收集雨水使其灌溉,阻挡异物进入集水漏斗,对太阳能板表面洗涮,提高了电能转换效率。