金属覆膜的成膜装置及其成膜方法

    公开(公告)号:CN115976611A

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202211256867.4

    申请日:2022-10-14

    Abstract: 本发明涉及金属覆膜的成膜装置及其成膜方法,抑制在金属覆膜(F)的表面产生凹凸,谋求成膜品质的提高。成膜装置(1)具备:阳极(11);固体电解质膜(13),配置于阳极与基材(B)之间;电源部(14),将基材作为阴极,对阳极与基材之间施加电压;及液收纳体(15),以分离的状态保持阳极和固体电解质膜,在阳极与固体电解质膜之间收纳包含金属离子的电解液(L)。固体电解质膜包括:中央部(13a),是与基材和电解液接触的部分;以及外缘部(13b),位于中央部的外侧。成膜装置具备拉膜机构(18),在液收纳体中收纳有加热后的电解液的状态下,该拉膜机构从中央部朝向外缘部对中央部施加拉伸力,使固体电解质膜的中央部伸长。

    掩蔽材以及金属皮膜的成膜装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119372729A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202410877562.8

    申请日:2024-07-02

    Abstract: 本公开为掩蔽材以及金属皮膜的成膜装置。提供能抑制由在基材的表面残留气泡所致的金属皮膜的缺损的掩蔽材和使用了该掩蔽材的金属皮膜的成膜装置。掩蔽材具备:网部分(161);设置于该网部分(161)的表侧和背侧从而被夹于电解质膜与基材之间的掩模部分(162);和将该掩模部分(162)根据规定的图案贯通从而使网部分(161)露出的贯通部分(163)。掩模材料具备:设置于被夹于电解质膜与网部分(161)之间的掩模部分(162)的一部分、且将相邻的两个贯通部分(163)、或者贯通部分(163)和面对未形成规定的图案的基材的区域的空间连接从而使镀液流通的连接路(164)。

    金属被膜的成膜装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117917487A

    公开(公告)日:2024-04-23

    申请号:CN202311340404.0

    申请日:2023-10-17

    Abstract: 提供一种在成膜时能够抑制渗出液进入到丝网掩模与基材之间的金属被膜的成膜装置。掩模结构体(60)具备形成有预定图案(P)的贯通部分(68)的丝网掩模(62)。丝网掩模(62)具备:以格状形成有开口部(64c)的网眼部分(64)、以及在基材(B)侧固定于网眼部分(64)并形成有贯通部分(68)的掩模部分(65)。掩模部分(65)具有:保持掩模部分(65)的形状的芯部分(65a)、以及由比芯部分(65a)软质的弹性材料构成且与基材(B)接触的密封部分(65b)。

    掩蔽材和使用该掩蔽材的金属皮膜的成膜装置

    公开(公告)号:CN119372747A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411004713.5

    申请日:2024-07-25

    Abstract: 本公开为掩蔽材和使用该掩蔽材的金属皮膜的成膜装置。提供能够将基材的表面作为阴极而在基材的表面稳定地形成金属皮膜的掩蔽材。掩蔽材(60)是用于通过电解镀在形成有金属层(Ba)的基材(B)的表面形成规定图案(P)的金属皮膜(F)的掩蔽材。掩蔽材(60)具备:形成有与规定图案(P)相应的贯通部分(68)掩模部分(65)、和与金属层(Ba)接触的作为导电构件的金属网(67)。掩模部分(65)由弹性材料构成。金属网(67)以金属网(67)的一部分从掩模部分(65)的表面之中的与金属层(Ba)接触的接触面(65a)露出的方式被埋设于掩模部分(65)。

    金属皮膜的成膜方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118461086A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410155905.X

    申请日:2024-02-04

    Abstract: 本发明为金属皮膜的成膜方法。一种金属皮膜的成膜方法,包含以下工序:将基材载置于载置台之后,在使镀液隔着电解质膜而与基材接触的的状态下在基材的表面形成金属皮膜,在将镀液密闭了的状态下使载置台和收容体中的至少任一者向相对于另一者远离的方向移动,将电解质膜从基材拉离。在所述成膜的工序前或成膜的工序中,使被收容于所述收容体的所述镀液在所述收容体的外部的循环路径中循环,在该拉离之前,截断循环路径,将收容体内的镀液密闭。

    掩模件、使用该掩模件的金属被膜的成膜装置和成膜方法

    公开(公告)号:CN117926369A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202311379971.7

    申请日:2023-10-24

    Abstract: 提供一种能够形成矩形截面形状的金属被膜(F)的掩模件。掩模件(60)是用于在由电解质膜(13)按压的状态下,通过电解镀在基材(B)的表面形成预定图案的金属被膜(F)的掩模件(60)。在掩模件(60)形成有与预定图案对应的贯通部分(68)。掩模件(60)之中至少与基材(B)接触的掩模部分(65)由弹性材料构成。贯通部分(68)具有扩宽部分(68a),扩宽部分(68a)随着从与基材(B)接触的部分(68c)沿掩模部分(65)的厚度方向前进而向外侧扩宽,以使得在掩模部分(65)因电解质膜(13)的按压力而发生了弹性变形的状态下,贯通部分(68)的用于形成金属被膜(F)的形成空间(S)的截面形状成为矩形。

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