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公开(公告)号：CN116555597A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310434404.0
申请日：2023-04-21
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司 , 昆明理工大学
摘要： 本发明公开了一种四氯化锗短流程制备高纯锗及尾气循环处理方法，本发明四氯化锗氢还原短流程制备高纯锗装置，包括储气罐，高纯四氯化锗氢气还原炉，反应尾气精馏系统以及二氯化锗氯化系统。本发明的方法是利用高纯氢气将高纯四氯化锗携带进入还原炉中，进行反应在锗棒上沉积锗金属，后根据纯度需要在进行区熔提纯；未完全反应的气体经过后续的精馏以及氯化系统，再次得到高纯氢气以及四氯化锗，实现尾气循环处理。
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公开(公告)号：CN117225850A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310328199.X
申请日：2023-03-30
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本发明公开了一种提高红外镜片镀膜效果的清洗方法，涉及红外镜片镀膜预处理技术领域。本发明具体包括以下操作步骤；S1：取三个搪瓷盘，分别向三个搪瓷盘中加入纯度＞99%的酒精，将抛光或单点车削完成的红外镜片依次浸没三个搪瓷盘的酒精中，通过脱脂棉在三个搪瓷盘中对红外镜片进行三次清洗；S2：清洗完成之后，首先将红外镜片在40℃的纯净水下冲洗15～20s，然后通过蘸有清洗液的脱脂棉对红外镜片表面进行清洗，最后再一次通过40℃的纯净水对红外镜片进行冲洗；本发明避免对镜片造成损害的同时可以有效去除镀膜前镜片表面的残留物、避免清洗擦拭过程中划痕的产生，保证镜片镀膜质量，且高效、便捷、安全、环保和成本低，整体实用性好。
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公开(公告)号：CN116577850B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202310334084.1
申请日：2023-03-31
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本发明涉及一种8‑12um波段HD膜红外锗窗口片，属于红外光学技术领域。该窗口片包括锗基底、正面HD膜与反面AR膜，正面HD膜膜系由内向外依次包括Ge膜层、ZnS膜层、Ge膜层、ZnS膜层、YbF3膜层和红外加硬膜膜层，反面AR膜膜系由内向外依次包括Ge膜层、ZnS膜层、Ge膜层、ZnS膜层、YbF3膜层和第三层ZnS膜层。本发明根据锗镜片红外光学薄膜膜强度和光谱透过性要求选用特殊材料合理搭配膜层结构精细控制各膜层厚度设计优化锗镜片正面HD膜和反面高效增透膜，并利用设定特定工艺参数的镀膜机进行蒸镀制备的HD膜锗镜片具有高透过率、耐重摩擦和环境适应能力极强的特点。
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公开(公告)号：CN116536532A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310323723.4
申请日：2023-03-29
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本发明公开了一种制备金属锗的系统和方法，本发明采用氢直接还原四氯化锗制备金属锗，并匹配了相应的尾气综合回收处理系统，实现了原料循环利用，反应为封闭式，不引入新的杂质元素，有利于保证产品质量，同时本发明实现了元素内循环，尤其的氯元素，四氯化锗被还原后，氯元素形成氯化氢，氯化氢气体经回收后形成盐酸，盐酸氯化蒸馏得到四氯化锗，解决了实际生产中污酸处理问题，实现了良好的经济和环保效益。本发明具有工艺流程短、原料利用率高、几乎不产生污染等问题，同时能保证目标产品质量等优势。
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公开(公告)号：CN116577850A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310334084.1
申请日：2023-03-31
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本发明涉及一种8‑12um波段HD膜红外锗窗口片，属于红外光学技术领域。该窗口片包括锗基底、正面HD膜和与反面AR膜，正面HD膜膜系由内向外依次包括Ge膜层、ZnS膜层、Ge膜层、ZnS膜层、YbF3膜层和红外加硬膜膜层，反面AR膜膜系由内向外依次包括Ge膜层、ZnS膜层、Ge膜层、ZnS膜层、YbF3膜层和第三层ZnS膜层。本发明根据锗镜片红外光学薄膜膜强度和光谱透过性要求选用特殊材料合理搭配膜层结构精细控制各膜层厚度设计优化锗镜片正面HD膜和反面高效增透膜，并利用设定特定工艺参数的镀膜机进行蒸镀制备的HD膜锗镜片具有高透过率、耐重摩擦和环境适应能力极强的特点。
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公开(公告)号：CN220642652U
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202322067144.6
申请日：2023-08-03
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本实用新型设计公开了一种废盐水结晶分离装置，所述的筒体由上部锥筒、中部圆柱筒、下部锥筒一体连接而成，上部锥筒顶部设置有排气孔，侧面上安装有气压检测装置、温度检测装置、液位检测装置一；中部圆柱筒的上侧设置有支撑座，支撑座上方的中部圆柱筒侧壁上设置有进液口、视镜观测口，其下方设置有出液口、物料探测口、液位检测装置二；下部锥筒的底部设置有排渣口，其侧面上设置有冲洗口，筒体内安装有分隔装置；所述的控制模块安装在中部圆柱筒的外侧壁上。本实用新型的功能是该装置可方便用户实时监测筒内的温度、气压、液位、结晶情况，同时，将进液口与出液口分隔开，使废液反复循环进行氯化物晶体与水充分分离，避免堵塞。
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公开(公告)号：CN220980362U
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202322739428.5
申请日：2023-10-12
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种带接渣装置的旋板阀，涉及化工泵叶轮领域。本实用新型包括阀体，所述阀体的内部设置有旋阀板，所述旋阀板的一侧设置有挡料板，所述旋阀板的另一侧开设有导料槽，所述导料槽内部的一侧固设有收集座，所述收集座的一侧开设有收集槽，所述收集槽的一侧开设有过滤孔，所述旋阀板的内部设置有集料结构，当阀体控制通料孔与管道连接时，溶体从通料孔内部流动，熔体表面的杂质进入到收集槽的内部，在过滤孔的作用下，可以对熔体中的杂质进行过滤收集，在集料结构的作用下，便于对杂质进行收集，同时避免旋阀板转动时，收集槽内部的杂质从新掉落在熔体内部，影响单晶的质量。
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公开(公告)号：CN220300450U
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202321849450.9
申请日：2023-07-14
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
IPC分类号： C02F1/04 , B01D1/26 , C01B7/01 , C02F103/16
摘要： 本实用新型公开了锗精矿蒸馏废液中回收盐酸用蒸发装置，涉及锗回收及其相关设备技术领域。本实用新型包括一效蒸发器，一效蒸发器的一侧设置有二效蒸发器，保温组件包括第一连接管和第二连接管，第一连接管位于第二连接管的上方，第一连接管和第二连接管的外壁外侧均套设有保温套；限位组件包括U型架和L型板，U型架的内部中心位置通过旋转件与L型板的前后两端外壁活动连接；对接组件包括对接框和隔板。本实用新型通过限位组件、对接组件和保温组件，方便工作人员快速打开和关闭顶盖，且方便工作人员快速安装和拆卸第一连接管和第二连接管，效率高，成本低，以及利用保温套可以起到保温的作用，减少热量损失。
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公开(公告)号：CN221360407U
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202322654998.4
申请日：2023-09-28
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
IPC分类号： B03C1/14
摘要： 本实用新型设计公开了一种实验室用粉体除铁性杂质的装置，包括磁性外筒、物料桶、底座，所述的磁性外筒、物料桶、底座均为圆柱形结构，磁性外筒可拆卸安装在底座上，物料桶转动安装在磁性外筒内侧的底座上；所述的磁性外筒内壁设置有凹槽，凹槽内对称安装有两块横截面为半圆形的磁体，两者贴合安装；所述的物料桶底部设置有卡销结构，底座中心安装有驱动装置且与物料桶底部卡销结构连接。本实用新型结构简单、体积小，可在粉体制备的最后一步，利用本装置去除微量的铁性杂质，降低粉体中Fe、Co、Ni等铁性杂质的含量，提高粉体的纯度。
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公开(公告)号：CN220836906U
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202322533230.1
申请日：2023-09-19
申请人： 云南驰宏国际锗业有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种专用的区熔锗锭清洗装置，涉及锗单晶生产技术领域。本实用新型包括输送机架、传送带、上清洗组件和侧清洗组件，输送机架的顶部空腔中设置有传送带，传送带上放置有锗锭本体；上清洗组件设置在锗锭本体的上方，包括龙门架、顶板和清洗单元；龙门架横跨固定在输送机架的顶部，龙门架的横梁底部固定有顶板，顶板的底部设置有多个呈点阵状分布清洗单元，多个清洗单元的喷射角度各异。本实用新型通过设置上清洗组件和侧清洗组件，使得该装置能实现更高效、自动化的清洗过程，能对锗锭本体的表面进行全方位的冲洗，彻底去除锗锭本体表面的污垢，解决了现有的清洗装置清洗均匀性较差，且难以彻底去除污垢的问题。
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