促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构

    公开(公告)号:CN202167465U

    公开(公告)日:2012-03-14

    申请号:CN201120272942.7

    申请日:2011-07-29

    Applicant: 五邑大学

    Abstract: 本实用新型公开了一种促进腔室气流均匀的双级组合式匀气结构,包括匀气罐,匀气罐为圆盘形开口的空腔结构,匀气罐上端中心位置设有进气口,匀气罐的空腔内设有上匀气盘,匀气罐的下端开口安装有下匀气盘,上匀气盘为弧形结构,其中凹弧面与进气口相对,下匀气盘上均匀分布有小孔,小孔按所在轴向位置不同而直径不同,实现气流的均匀性分布,保证了所沉积薄膜的质量。

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