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公开(公告)号：CN112926435B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202110198144.2
申请日：2021-02-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06V40/13
摘要： 本申请公开了超声纹路识别模组及制备方法、纹路识别方法、显示装置，用以减少纹路识别过程中的噪声干扰，提高纹路识别的准确度。本申请实施例提供的超声纹路识别模组包括：衬底基板，在衬底基板之上阵列排布的多个第一纹路识别单元以及多个第二纹路识别单元；第一纹路识别单元包括：第一驱动电路，以及第一压电器件；第一压电器件被配置为：在超声波发射阶段，发射超声波信号；在超声波接收阶段，将接收的纹路反射的超声波信号转换为第一信号；第二纹路识别单元至少包括：位于衬底基板之上的第二压电器件；第二压电器件被配置为：在超声波发射阶段不工作，在超声波接收阶段，将接收的纹路反射的超声波信号转换为第二信号。
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公开(公告)号：CN117461144A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202280001313.1
申请日：2022-05-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/34 , H01L29/06 , H10K10/46 , H10K71/00
摘要： 本公开提供一种纳米线、薄膜晶体管制备方法、薄膜晶体管及半导体器件，属于半导体技术领域，可解决纳米线问题。本公开纳米线制备方法，其包括：在衬底的第一表面制备绝缘层；在绝缘层背离衬底的表面制备牺牲层，并对牺牲层进行图案化，形成引导沟槽；在引导沟槽内制备诱导颗粒；在牺牲层背离衬底的表面和引导沟槽内制备析出层，析出层覆盖诱导颗粒；对析出层进行处理，使析出层内的预设元素在诱导颗粒的诱导下沿引导沟槽析出，形成纳米线；将牺牲层去除。
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公开(公告)号：CN116110914A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202310181493.2
申请日：2023-02-20
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/12
摘要： 本申请公开了一种COF器件、显示面板及显示装置，包括保护层和布线层，保护层包裹布线层设置，保护层为光敏聚酰亚胺光刻胶层，布线层包括金属层和至少一层铜布线层，金属层覆盖每层铜布线层设置。根据本申请实施例提供的技术方案，通过在金属铜布线上覆盖金属层，该金属层一般为具有延展性的金属，通过金属层对铜布线层进行保护，防止铜布线氧化同时增加COF器件的耐弯折性能；并且通过保护层对铜布线层进行封装和保护，采用光敏聚酰亚胺光刻胶作为保护层材料，该保护层形成为柔性的层结构，增加COF器件的耐弯折性能，并且COF器件不容易弯折断裂能够进一步的改善铜布线层之间的信号串扰现象，提升器件性能的稳定性。
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公开(公告)号：CN115769293A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180001648.9
申请日：2021-06-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09F9/33
摘要： 本申请提供了一种驱动基板、发光装置及其制备方法、拼接显示装置，涉及显示技术领域，驱动基板包括：器件设置区、弯折区和绑定区，弯折区位于器件设置区和绑定区之间；器件设置区、弯折区和绑定区的驱动基板均包括依次层叠设置的缓冲层、第一导电层和柔性介质层；其中，器件设置区和绑定区的驱动基板还包括设置在缓冲层背离第一导电层一侧的衬底，以及设置在柔性介质层背离第一导电层一侧的第二导电层；弯折区的驱动基板被配置为能沿弯折轴弯折。该驱动基板制备的发光装置的边框较窄，产品质量高、显示效果好。
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公开(公告)号：CN111650771B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN202010548856.8
申请日：2020-06-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G03F7/00
摘要： 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制作方法和显示装置，涉及显示技术领域，以解决在绑定过程中防止对位失败的前提下，减小采用压印工艺制作金属线栅偏振片过程中，压印胶的部分发生脱落的概率。阵列基板具有显示区和绑定区，该阵列基板包括：衬底基板；设置在衬底基板上的金属线栅偏振片，金属线栅偏振片位于绑定区以外的区域，且至少覆盖显示区；设置在衬底基板上的透明图案，透明图案位于金属线栅偏振片以外的区域，且透明图案靠近衬底基板的表面与金属线栅偏振片靠近衬底基板的表面平齐，且透明图案的厚度小于或等于金属线栅偏振片的厚度。
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公开(公告)号：CN113690289A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110984252.2
申请日：2021-08-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本公开提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括多个像素岛区、多个连接桥区和多个隔离区，所述显示基板包括叠设的发声显示结构层和空腔结构层，所述发声显示结构层包括设置在基底上的发声结构层和设置在所述发声结构层远离所述基底一侧的显示结构层，所述空腔结构层设置在所述基底远离所述显示结构层的一侧；至少一个隔离区的发声结构层和显示结构层上设置有隔离槽。本公开通过在像素岛区之间设置隔离槽，隔离槽可以阻隔在显示基板平面内传播的声波，避免了驻波效应影响屏幕显示和屏幕发生力学问题。
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公开(公告)号：CN112926435A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110198144.2
申请日：2021-02-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06K9/00
摘要： 本申请公开了超声纹路识别模组及制备方法、纹路识别方法、显示装置，用以减少纹路识别过程中的噪声干扰，提高纹路识别的准确度。本申请实施例提供的超声纹路识别模组包括：衬底基板，在衬底基板之上阵列排布的多个第一纹路识别单元以及多个第二纹路识别单元；第一纹路识别单元包括：第一驱动电路，以及第一压电器件；第一压电器件被配置为：在超声波发射阶段，发射超声波信号；在超声波接收阶段，将接收的纹路反射的超声波信号转换为第一信号；第二纹路识别单元至少包括：位于衬底基板之上的第二压电器件；第二压电器件被配置为：在超声波发射阶段不工作，在超声波接收阶段，将接收的纹路反射的超声波信号转换为第二信号。
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公开(公告)号：CN111524927A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010365235.6
申请日：2020-04-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本公开提供了一种驱动基板，包括：柔性基底，包括：显示区和可弯折区；第一导电层，位于柔性基底上，包括：位于显示区的第一导线和至少部分位于可弯折区的连接导线；可挠性绝缘层，包括：位于显示区的第一绝缘图形和位于可弯折区的第二绝缘图形，第一绝缘图形具有第一开口，第一导线位于第一开口内，第二绝缘图形位于连接导线远离柔性基底的一侧，第二绝缘图形覆盖连接导线的部分的厚度等于柔性基底的厚度；第二导电层，位于可挠性绝缘层远离柔性基底的一侧；平坦化层，位于第二导电层远离柔性基底的一侧，平坦化层在可弯折区为镂空结构；其中，第二绝缘图形覆盖连接导线的部分的厚度为d2，柔性基底的厚度为d3，d2≥2um且|d2‑d3|≤3um。
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公开(公告)号：CN118043964A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202280003168.0
申请日：2022-09-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L23/498 , H01L23/488 , G09F9/30
摘要： 本公开提供的覆晶薄膜、其制作方法及显示装置，包括至少一个基材层；多个焊盘，位于至少一个基材层之上；多条第一引线，位于至少一个基材层之上，多条第一引线与部分焊盘电连接；多条第二引线，位于每个基材层远离多个焊盘所在层的一侧，多条第二引线与其余焊盘电连接。
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公开(公告)号：CN114787699B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080002534.1
申请日：2020-09-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/13357
摘要： 提供一种显示面板。显示面板包括在基底基板(BS)上的堤层(BL)和量子点材料层(QDML)。堤层(BL)限定多个堤开口(BA)。所述量子点材料层(QDML)包括分别在所述多个堤开口(BA)中的至少一些中的多个量子点块(QDB)。堤层(BL)在两个相邻堤开口(BA)之间的至少一部分包括第一表面(S1)、与第一表面(S1)相对的第二表面(S2)、较靠近第一堤开口(BA1)的连接所述第一表面(S1)和所述第二表面(S2)的第三表面(S3)、以及较靠近第二堤开口(BA2)的连接所述第一表面(S1)和所述第二表面(S2)的第四表面(S4)。堤层(BL)在两个相邻堤开口(BA)之间的一部分的第三表面(S3)或第四表面(S4)的至少一部分是包括交替的凸起部分和凹陷部分的波状表面。
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