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公开(公告)号：CN118215342A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410488960.0
申请日：2024-04-22
申请人： 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
发明人： 王辉锋
IPC分类号： H10K59/122 , H10K59/121 , H10K59/12 , H10K71/13
摘要： 本公开提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，显示基板包括：衬底基板、像素界定层和发光子像素，像素界定层限定出多个像素开口区及多个联通区，发光子像素设于对应的像素开口区，至少部分相邻设置的两个像素开口区通过联通区联通，联通区作为供发光子像素的打印墨水通过的通道；联通区具有沿通道的延伸方向相对设置的第一侧和第二侧，联通区包括位于第一侧的第一通道区、位于第二侧的第二通道区、及位于第一通道区和第二通道区之间的中部通道区，联通区在衬底基板上的正投影的宽度方向垂直于通道的延伸方向，第一通道区和第二通道区中至少一者的宽度大于中部通道区的宽度。本公开显示基板及其制作方法、显示装置能够改善画面不均匀现象。
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公开(公告)号：CN117321660A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202280001024.1
申请日：2022-04-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司
IPC分类号： G09F9/30
摘要： 本公开的实施例提供一种显示面板、显示装置及用于制造显示面板的方法。显示面板具有显示区域和至少部分围绕所述显示区域的周边区域，所述显示面板包括像素定义层，所述像素定义层包括：位于所述显示区域的沿第一方向平行布置的多个第一像素定义块，每个第一像素定义块沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸并包括列方向与所述第一方向相同的多列像素定义开口，相邻第一像素定义块具有不同的像素定义开口列数；以及位于所述周边区域的作为所述多个第一像素定义块中的至少一个沿所述第二方向到所述周边区域的延伸的至少一个第二像素定义块，每个第二像素定义块包括多列像素定义开口，且每个第二像素定义块的像素定义开口列数大于或等于相邻两个第一像素定义块的像素定义开口列数之差。
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公开(公告)号：CN117255587A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311394838.9
申请日：2023-10-25
申请人： 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
摘要： 本公开提供了一种显示面板及显示装置，涉及显示技术领域。该显示面板包括：发光层，包括多个发白光的发光部；滤光层，位于发光层的出光侧，且包括多个滤光部；多个滤光部包括第一滤光部、第二滤光部、第三滤光部和第四滤光部，第一滤光部被配置为出射第一颜色光线，第二滤光部被配置为出射第二颜色光线，第三滤光部被配置为出射第三颜色光线，第四滤光部被配置为出射白色光线。本公开实施方式中，通过第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素实现全彩显示，且通过第四滤光部减小第四子像素的像素反射率，使得第四子像素区的像素反射率接近于其他子像素区的像素反射率，也即是使得各子像素的发光效果接近，从而保证显示效果。
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公开(公告)号：CN107731872B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201710915834.9
申请日：2017-09-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决平坦层在制作过程中出现的凹凸不平的问题。该制备方法包括：形成平坦层；其中，所述形成平坦层包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层；所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面具有凹陷部；在所述凹陷部中形成第二子平坦层，以使所述平坦层的表面的平整度较所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面的平整度平整。用于形成平坦层。
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公开(公告)号：CN107331691B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201710736588.0
申请日：2017-08-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，包括：基板；图案化形成在所述基板上的阳极层、第一像素界定层和辅助阴极层；其中，所述第一像素界定层划分出多个像素单元，所述辅助阴极层设置在所述像素单元相对的两侧，且相邻两像素单元的辅助阴极层之间具有搭接区域；形成在所述辅助阴极层上的第二像素界定层；覆盖在所述第一像素界定层、所述第二像素界定层及所述阳极层上的有机发光层；覆盖在所述有机发光层上的阴极层；其中，在所述搭接区域，所述有机发光层在靠近所述辅助阴极层处断裂，与所述辅助阴极层断开，所述阴极层与所述辅助阴极层搭接，从而解决了由于阴极电阻值较高，造成电压降严重，进而影响发光器件显示品质的问题。
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公开(公告)号：CN104409471B
公开(公告)日：2018-07-24
申请号：CN201410613717.3
申请日：2014-11-04
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明实施例提供了一种显示基板及其使用方法、聚合物电致发光器件，属于发光器件领域，以解决在聚合物电致发光器件的发光区中由溶液制成的膜的均匀性较低的问题，从而提高其显示品质。所述显示基板包括：设置在所述显示基板中心的发光区，以及环绕所述发光区的虚拟像素区；其中，在所述虚拟像素区内设有环绕所述发光区的沟槽区。本发明可用于聚合物电致发光器件的制造。
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公开(公告)号：CN107819080A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201710992027.7
申请日：2017-10-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，该阵列基板，包括：衬底基板、位于所述衬底基板上呈矩阵排列的多个阳极以及位于各所述阳极之间的像素界定层；还包括阻隔结构；所述阻隔结构附着于所述像素界定层的侧壁上，并且所述阻隔结构的上表面距离所述衬底基板的高度小于所述像素界定层的上表面距离所述衬底基板的高度。通过阻隔结构的设置，使像素内的墨滴的攀爬高度由阻隔结构的高度决定，由于将阻隔结构的上表面距离衬底基板的高度小于像素界定层的上表面距离衬底基板的高度，因此通过阻隔结构的设置可以有效的抑制像素中墨滴的攀爬效应，提高显示面板的显示效果。
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公开(公告)号：CN107731872A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710915834.9
申请日：2017-09-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L2227/323
摘要： 本发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，用于解决平坦层在制作过程中出现的凹凸不平的问题。该制备方法包括：形成平坦层；其中，所述形成平坦层包括：在形成有图案化膜层的衬底基板上形成第一子平坦层；所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面具有凹陷部；在所述凹陷部中形成第二子平坦层，以使所述平坦层的表面的平整度较所述第一子平坦层的远离所述衬底基板的表面的平整度平整。用于形成平坦层。
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公开(公告)号：CN106816558A
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201710243869.2
申请日：2017-04-14
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 王辉锋
摘要： 本发明公开了一种顶发射有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置，该制作方法包括：在衬底基板上依次形成多个膜层以构成表面具有多个凸起结构的薄膜晶体管；在薄膜晶体管上形成平坦层；采用具有与多个凸起结构相匹配图形的掩模板，对平坦层进行光刻工艺，以平坦化平坦层。本发明实施例提供的制作方法，通过采用具有与薄膜晶体管表面上的多个凸起结构相匹配图形的掩模板，对平坦层进行光刻工艺，以平坦化该平坦层，能够提高平坦层的平坦性能，使在平坦上制作的OLED薄膜的厚度更加均匀，因而，可以提高像素内发光均匀性，缓解OLED器件的颗粒感。
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公开(公告)号：CN103311269B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201310205843.0
申请日：2013-05-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L21/0274 , H01L27/127 , H01L27/1292 , H01L27/3202 , H01L27/3204 , H01L27/3216 , H01L27/3218 , H01L51/0005 , H01L51/56 , H01L2227/323
摘要： 本发明涉及显示领域，尤其涉及一种OLED像素限定结构及其制作方法，以解决制作像素界定层时，由于像素限定区尺寸较小，需要控制液滴精确下落到像素限定区，从而增加了设备投入，导致成本较高，并且像素限定区难以形成厚度均一的薄膜的问题。本发明实施例中的像素界定层包括不同颜色的亚像素限定区，其中同种颜色的至少两个亚像素限定区连通；由于将像素界定层中同种颜色的至少两个亚像素限定区连通，液滴落入连通的亚像素限定区内，通过液体的流动性，使连通的亚像素限定区内充满液体；且由于至少两个亚像素限定区连通，增加了液体的流动性，在亚像素限定区内更易形成厚度均匀的薄膜；从而提高了显示背板的发光质量。
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