一种机器人防跌倒装置及方法

    公开(公告)号:CN108189918B

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201810005016.X

    申请日:2018-01-03

    IPC分类号: B62D37/04 B25J11/00

    摘要: 本发明提供了一种机器人防跌倒装置及方法。所述装置包括若干个传感器、中央控制模块和负载,其中,所述传感器,设置在机器人上,用于获取所述机器人的运动信息,所述运动信息包括加速度信息和/或角速度信息;所述中央控制模块,用于依据所述运动信息计算所述机器人的重心是否处于安全阈值范围内;在所述机器人的重心不处于安全阈值范围内时,控制负载在水平方向上和/或在垂直方向上移动,调整所述机器人的重心至安全阈值范围。从而可以快速地调整机器人的重心以使得机器人在行走过程中保持平衡状态,避免了机器人跌倒受到损害的风险。

    掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法

    公开(公告)号:CN107245693B

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201710432844.7

    申请日:2017-06-09

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/22 C23C14/35

    摘要: 本申请公开了一种掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法,属于镀膜技术领域。所述掩膜组件包括:掩膜本体和遮挡部,掩膜本体具有镂空区域,遮挡部设置在掩膜本体上,且位于镂空区域的边缘,遮挡部能够与掩膜本体发生相对位移,以改变镂空区域的实际镂空面积,实际镂空面积等于镂空区域的原始面积减去遮挡部遮挡镂空区域的面积。本申请解决了叠加在一起的多个膜层中会存在部分膜层出现边缘断裂和脱落的情况的问题,有效的防止膜层的边缘出现断裂和脱落的情况,本申请用于真空镀膜。

    夹持设备及其工作方法、磁控溅射装置

    公开(公告)号:CN105887033B

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201610388880.3

    申请日:2016-06-02

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种夹持设备及其工作方法、磁控溅射装置,所述夹持设备包括升降机构和多个夹持机构,所述夹持机构固定设置在所述升降机构上,所述夹持机构设置在溅射腔室的周围;所述升降机构用于带动所述夹持机构上升或者下降,以使所述夹持机构与所述溅射腔室固定或者分离;所述夹持机构用于当进行溅射工艺时将所述溅射腔室与处理单元固定,所述处理单元设置在所述溅射腔室内;所述夹持机构用于当更换处理单元时将所述溅射腔室与处理单元分离。本发明提供的技术方案使用夹持机构通过半自动方式固定溅射腔室与靶材,在更换靶材的过程之中避免造成数量较多的颗粒,从而提高了真空镀膜质量。

    一种机器人防跌倒装置及方法

    公开(公告)号:CN108189918A

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201810005016.X

    申请日:2018-01-03

    IPC分类号: B62D37/04 B25J11/00

    摘要: 本发明提供了一种机器人防跌倒装置及方法。所述装置包括若干个传感器、中央控制模块和负载,其中,所述传感器,设置在机器人上,用于获取所述机器人的运动信息,所述运动信息包括加速度信息和/或角速度信息;所述中央控制模块,用于依据所述运动信息计算所述机器人的重心是否处于安全阈值范围内;在所述机器人的重心不处于安全阈值范围内时,控制负载在水平方向上和/或在垂直方向上移动,调整所述机器人的重心至安全阈值范围。从而可以快速地调整机器人的重心以使得机器人在行走过程中保持平衡状态,避免了机器人跌倒受到损害的风险。

    一种清洁装置以及自动清洁系统

    公开(公告)号:CN103691703B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201310681718.7

    申请日:2013-12-12

    IPC分类号: B08B5/02

    摘要: 本发明实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统,涉及显示技术领域,可去除物品表面的污染颗粒;该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台;所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气孔处的放电装置、以及设置在腔体外侧与吹气孔连接的吹气管道和与吸气孔连接的吸气管道;其中,放电装置用于产生等离子体;所述传输轨道包括导轨以及设置在导轨上的传动带;其中,传输轨道与腔体的上、下底面平行设置,且传输轨道的一部分位于腔体内,另一部分延伸到腔体外;所述承载台设置在传动带上;用于物品表面的清洁。

    一种清洁装置以及自动清洁系统

    公开(公告)号:CN103691703A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201310681718.7

    申请日:2013-12-12

    IPC分类号: B08B5/02

    CPC分类号: B08B11/04 B08B5/02 B08B6/00

    摘要: 本发明实施例提供了一种清洁装置以及自动清洁系统,涉及显示技术领域,可去除物品表面的污染颗粒;该清洁装置包括离子清洁系统、传输轨道以及承载台;所述离子清洁系统包括腔体、设置在腔体上的吹气孔和吸气孔、设置在腔体内部且位于吹气孔处的放电装置、以及设置在腔体外侧与吹气孔连接的吹气管道和与吸气孔连接的吸气管道;其中,放电装置用于产生等离子体;所述传输轨道包括导轨以及设置在导轨上的传动带;其中,传输轨道与腔体的上、下底面平行设置,且传输轨道的一部分位于腔体内,另一部分延伸到腔体外;所述承载台设置在传动带上;用于物品表面的清洁。

    一种阵列基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN106783939B

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201710124200.1

    申请日:2017-03-03

    发明人: 赵德江 陈一民

    IPC分类号: H01L27/32 H01L51/52 H01L51/56

    摘要: 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法,该阵列基板包括:衬底基板,设置于所述衬底基板上的像素界定层,所述像素界定层设置有包括底壁和侧壁的开口区域,在所述开口区域内,所述底壁的边缘设置有多个表面为亲水性的亲水诱导柱。本发明所述方案通过增加亲水诱导柱,抵消墨水表面张力,提高了成膜的均一性。