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公开(公告)号：CN106824680B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201710166852.1
申请日：2017-03-20
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于狭缝喷嘴的排废液槽及狭缝喷嘴清洗装置，涉及狭缝喷嘴技术领域，为解决现有排废液槽因胶液容易在凹槽底面残留而导致排废液槽的排液效果不好的问题。该排废液槽包括本体，所述本体的上表面开设有凹槽，所述凹槽的底部设置有排废液通道，所述凹槽的侧面包括至少一个倾斜面，所述倾斜面的底端相对于所述倾斜面的顶端向远离所述本体相应外侧面的方向倾斜，并与所述排废液通道连接，所述倾斜面为平面或弧面。本发明用于排除狭缝喷嘴内残余的胶液。
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公开(公告)号：CN106076731A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610379027.5
申请日：2016-05-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： B05C5/02 , B05C11/1015 , G01V8/22
摘要： 本发明公开了一种涂胶设备，用以在对涂胶嘴起到保护作用的同时，避免对待涂胶物体的表面产生损伤，提高涂胶效果及效率。该涂胶设备包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，该涂胶设备还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面障碍物的光学检测装置。
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公开(公告)号：CN106824680A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710166852.1
申请日：2017-03-20
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于狭缝喷嘴的排废液槽及狭缝喷嘴清洗装置，涉及狭缝喷嘴技术领域，为解决现有排废液槽因胶液容易在凹槽底面残留而导致排废液槽的排液效果不好的问题。该排废液槽包括本体，所述本体的上表面开设有凹槽，所述凹槽的底部设置有排废液通道，所述凹槽的侧面包括至少一个倾斜面，所述倾斜面的底端相对于所述倾斜面的顶端向远离所述本体相应外侧面的方向倾斜，并与所述排废液通道连接，所述倾斜面为平面或弧面。本发明用于排除狭缝喷嘴内残余的胶液。
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公开(公告)号：CN103645607B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201310705474.1
申请日：2013-12-19
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 本发明提供一种涂胶系统，该涂胶系统包括多通阀、稀释剂容器、排水管以及至少两路光刻胶管路，其中，该至少两路光刻胶管路中的每一路光刻胶管路包括四通阀、过滤缓冲装置、第一三通阀以及光刻胶容器；该四通阀的第一端与该过滤缓冲装置的一端相连接，第二端与该排水管路相连接，第三端与该稀释剂容器相连接，第四端与该多通阀相连接；该过滤缓冲装置的另一端与该第一三通阀的第一端相连；该第一三通阀的第二端与该稀释剂容器相连，第三端与该光刻胶容器相连。本发明能够大大减少由于光刻胶切换造成设备停机的时间，提高了设备的生产效率。
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公开(公告)号：CN106198397B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201610675863.8
申请日：2016-08-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备，涉及显示器制造技术领域，用于解决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。该光电检测装置包括：光源，用于产生检测光束并将检测光束投射至透明基板；与光源相对固定且位于光源后方的接收处理器，用于接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值；接收处理器还用于判断测量光程差是否满足预设条件以及在测量光程差不符合预设条件时确认透明基板上具有水波纹。本发明用于shell mura的检测。
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公开(公告)号：CN106053355A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610311869.7
申请日：2016-05-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： G01N21/27 , G01B11/0625
摘要： 本发明公开了一种光刻胶的参数检测方法及装置，属于显示技术领域。所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。本发明解决了检测的参数较单一的问题，实现了丰富检测参数的效果，用于光刻胶的参数检测。
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公开(公告)号：CN106076731B
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201610379027.5
申请日：2016-05-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种涂胶设备，用以在对涂胶嘴起到保护作用的同时，避免对待涂胶物体的表面产生损伤，提高涂胶效果及效率。该涂胶设备包括涂胶头和设置在所述涂胶头上的涂胶嘴，该涂胶设备还包括：设置在所述涂胶头上的用于检测待涂胶物体表面障碍物的光学检测装置。
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公开(公告)号：CN103645607A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310705474.1
申请日：2013-12-19
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F7/16
摘要： 本发明提供一种涂胶系统，该涂胶系统包括多通阀、稀释剂容器、排水管以及至少两路光刻胶管路，其中，该至少两路光刻胶管路中的每一路光刻胶管路包括四通阀、过滤缓冲装置、第一三通阀以及光刻胶容器；该四通阀的第一端与该过滤缓冲装置的一端相连接，第二端与该排水管路相连接，第三端与该稀释剂容器相连接，第四端与该多通阀相连接；该过滤缓冲装置的另一端与该第一三通阀的第一端相连；该第一三通阀的第二端与该稀释剂容器相连，第三端与该光刻胶容器相连。本发明能够大大减少由于光刻胶切换造成设备停机的时间，提高了设备的生产效率。
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公开(公告)号：CN106053355B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201610311869.7
申请日：2016-05-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种光刻胶的参数检测方法及装置，属于显示技术领域。所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。本发明解决了检测的参数较单一的问题，实现了丰富检测参数的效果，用于光刻胶的参数检测。
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公开(公告)号：CN106198397A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610675863.8
申请日：2016-08-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备，涉及显示器制造技术领域，用于解决对shell mura进行检测时费时费力且容易出现判断不准确的问题。该光电检测装置包括：光源，用于产生检测光束并将检测光束投射至透明基板；与光源相对固定且位于光源后方的接收处理器，用于接收由透明基板的上表面反射检测光束产生的第一反射光和由透明基板的下表面反射检测光束产生的第二反射光并获取测量光程差；其中，测量光程差为第一反射光的光程和第二反射光的光程的差值；接收处理器还用于判断测量光程差是否满足预设条件以及在测量光程差不符合预设条件时确认透明基板上具有水波纹。本发明用于shell mura的检测。
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