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公开(公告)号：CN106053355A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610311869.7
申请日：2016-05-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
CPC分类号： G01N21/27 , G01B11/0625
摘要： 本发明公开了一种光刻胶的参数检测方法及装置，属于显示技术领域。所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。本发明解决了检测的参数较单一的问题，实现了丰富检测参数的效果，用于光刻胶的参数检测。
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公开(公告)号：CN106053355B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201610311869.7
申请日：2016-05-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种光刻胶的参数检测方法及装置，属于显示技术领域。所述装置包括：控制模块和与所述控制模块连接的检测模块，所述检测模块用于在所述控制模块的作用下采用光源照射阵列基板上的待测光刻胶；所述检测模块还用于在所述控制模块的控制下，采集所述光源照射所述待测光刻胶后产生的光谱信号，并将所述光谱信号传输至所述控制模块；所述控制模块用于将所述光谱信号转换为相应的电信号，并根据所述电信号检测所述待测光刻胶的指定参数，所述指定参数包括厚度和指定成分的含量中的至少一种。本发明解决了检测的参数较单一的问题，实现了丰富检测参数的效果，用于光刻胶的参数检测。
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公开(公告)号：CN205664639U
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201620525505.4
申请日：2016-05-27
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： F26B21/00
摘要： 本实用新型涉及一种空气刀系统，用于分离基板表面的液体，包括向基板表面喷射气体的空气刀，以及用于吸取由空气刀喷射的气体吹起的液体的真空吸液装置。本实用新型有益效果是：真空吸液装置和空气刀配合及时吸取由空气刀喷射的气体吹起的液体，避免水渍残留，保证空气刀对基板表面作用力的均匀性。
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公开(公告)号：CN202725542U
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201220431632.X
申请日：2012-08-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： B08B3/04
摘要： 本实用新型涉及光刻技术，公开了一种基板显影后清洗装置，包括依次邻接的初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区，显影后基板依次经过初级清洗区、中级清洗区和终极清洗区进行清洗，每个清洗区设置有供水管和排废管，所述中级清洗区和终极清洗区之间设置有第一集水池，终极清洗区的终极排废管和中级清洗区的中级供水管分别与所述第一集水池相连，所述初级清洗区和中级清洗区之间设置有第二集水池，初级清洗区的初级供水管和中级清洗区的中级排废管与所述第二集水池相连。本实用新型在保证显影后基板清洗效果的同时大幅节约用水，并且自动化能力强，易实现。
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公开(公告)号：CN112349208B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202011261654.1
申请日：2020-11-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09F9/30
摘要： 本发明涉及显示设备技术领域，公开了一种折弯辅助机构及显示装置，该折弯辅助机构包括可与弯曲的前框贴合配合的贴合凸面，所述贴合凸面上形成有用于与前框的开口区配合的曲面凸台，所述曲面凸台的弯曲弧度与前框的弯曲弧度相同，且所述曲面凸台的高度与所述前框围成所述开口区的边框的厚度相同。该折弯辅助机构结构简单，易于批量生产，应用时能够解决刚性显示面板压弯的过程中易造成玻璃盖板破碎、显示时出现亮线或暗线等不良问题，能够降低显示面板的破损率，保证显示面板的制作良率。
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公开(公告)号：CN113061841B
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202110288740.X
申请日：2021-03-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜板的张网方法，包括：获取掩膜板框架所含各边框的边界参数；根据各边框的边界参数确定坐标原点，并根据被张网设备施加对抗力的两个边框的边界参数，确定与两个边框的中垂线夹角最小的方向为X坐标轴，与X坐标轴垂直的方向为Y坐标轴，以建立掩膜板框架的坐标系；调节掩膜板框架与张网设备的相对位置，直至掩膜板框架的坐标系与张网设备的坐标系重合，实现掩膜板框架与张网设备之间的对位；在张网设备的坐标系下，采用张网设备将掩膜板固定在掩膜板框架上。
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公开(公告)号：CN110055497B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201910433216.X
申请日：2019-05-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种掩膜板及其张网装置、张网方法，该掩膜板张网装置包括：形变加热机构，用于调节待组装的掩膜板本体和待组装的框架的环境温度并保持所述环境温度等于蒸镀温度，使得所述掩膜板本体发生形变；第一施力机构，用于向所述框架施加压力，使所述框架产生对抗力，以抵消发生形变的掩膜板本体对框架施加的内缩力；张网对位机构，用于将发生形变的掩膜板本体与框架进行张网对位。进而解决在蒸镀温度下，框架变形导致蒸镀像素位置精度降低的问题，达到提高蒸镀像素位置精度的目的。
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公开(公告)号：CN113151779A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110268864.1
申请日：2021-03-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本公开提供了一种掩膜板及其制备方法，该掩膜板包括：支撑架；与支撑架贴合设置的第一膜层；第二膜层，其设置在第一膜层远离支撑架的一侧，第二膜层的外边框不超出支撑架的外边框；其中，第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度。本公开通过在第一膜层远离支撑架的一侧设置第二膜层，并且设置第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度，通过第二膜层进行蒸镀，并且设置第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度，此时第一膜层能够对第二膜层进行一定的支撑，以避免第二膜层因无法支撑自身重量导致第二膜层损坏，进而达到减小掩膜板的膜厚减薄区域的目的，进而实现减小显示面板的边框的目的。
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公开(公告)号：CN112349208A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011261654.1
申请日：2020-11-12
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09F9/30
摘要： 本发明涉及显示设备技术领域，公开了一种折弯辅助机构及显示装置，该折弯辅助机构包括可与弯曲的前框贴合配合的贴合凸面，所述贴合凸面上形成有用于与前框的开口区配合的曲面凸台，所述曲面凸台的弯曲弧度与前框的弯曲弧度相同，且所述曲面凸台的高度与所述前框围成所述开口区的边框的厚度相同。该折弯辅助机构结构简单，易于批量生产，应用时能够解决刚性显示面板压弯的过程中易造成玻璃盖板破碎、显示时出现亮线或暗线等不良问题，能够降低显示面板的破损率，保证显示面板的制作良率。
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公开(公告)号：CN108901191B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201810785300.3
申请日：2018-07-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明实施例是关于一种电磁屏蔽组件及显示装置，涉及电磁屏蔽技术领域，主要解决的技术问题是现有加固显示器中氧化铟锡ITO薄膜镜面反射率较高。主要采用的技术方案为：一种电磁屏蔽组件包括：氧化铟锡电磁屏蔽膜层；温度调节单元用于调节所述氧化铟锡电磁屏蔽膜层的温度。通过对氧化铟锡电磁屏蔽膜层加热方式降低其的阻值，在具备相同电磁屏蔽的性能下，从而可以减小氧化铟锡电磁屏蔽膜层，相对于现有技术，电磁屏蔽组件的氧化铟锡电磁屏蔽膜层的厚度较薄，镜面反射率较低。
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