公开(公告)号：CN108277465B

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201810084682.7

申请日：2018-01-29

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 毛瑞锋 ,  金相起 ,  程贯杰 ,  李阳阳 ,  宋朱晓 ,  杨磊 ,  王宜申 ,  候建新 ,  李智

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  G08B21/00

摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。

公开(公告)号：CN108277465A

公开(公告)日：2018-07-13

申请号：CN201810084682.7

申请日：2018-01-29

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 毛瑞锋 ,  金相起 ,  程贯杰 ,  李阳阳 ,  宋朱晓 ,  杨磊 ,  王宜申 ,  候建新 ,  李智

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  G08B21/00

摘要： 本发明公开一种磁控溅射设备及其遮挡板组件，其中遮挡板组件包括相互搭接的第一遮挡板和第二遮挡板，第一遮挡板和/或第二遮挡板设置为弧形结构，第一遮挡板的圆心与第二遮挡板的圆心分别设置于遮挡板组件的两侧。由于第一遮挡板和第二遮挡板预先设置为弧形结构，有利于遮挡板自身内力的释放，从而可以降低遮挡板变形的风险。

公开(公告)号：CN206706198U

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201720526166.6

申请日：2017-05-12

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 毛瑞锋 ,  金相起 ,  程贯杰 ,  李阳阳 ,  王宜申

IPC分类号： C23C14/35

摘要： 本实用新型提供一种磁控溅射装置和磁控溅射设备。该装置包括：用于固定靶材的靶材承载结构；用于固定待镀膜基板的基板承载结构；多个遮挡结构，多个所述遮挡结构围设为一腔体，所述腔体设置于所述靶材承载结构与所述基板承载结构之间，形成为所述靶材承载结构上的靶材放电产生的等电子体溅射至待镀膜基板的通道；其中所述遮挡结构中的第一遮挡结构包括至少两个工作状态，在不同工作状态时，不同表面朝向所述腔体的内部。该装置通过设置可活动形式的遮挡结构，能够延长使用寿命，减少更换周期，从而提高磁控溅射设备使用的嫁动率。